壳体及其制造方法技术

技术编号:7621121 阅读:200 留言:0更新日期:2012-07-29 22:08
一种壳体,包括铝或铝合金基体、依次形成于该铝或铝合金基体上的铝膜层和防腐蚀膜层,该防腐蚀膜层为氧化铝梯度膜,其掺杂有钕金属离子,所述氧化铝梯度膜中氧的原子百分含量由靠近铝或铝合金基体至远离铝或铝合金基体的方向呈梯度增加,所述钕金属离子的掺杂方式为离子注入。该通过离子注入掺杂了钕金属离子的氧化铝梯度膜组成的复合膜层显著地提高了所述壳体的耐腐蚀性。本发明专利技术还提供了上述壳体的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种,特别涉及一种铝或铝合金的。
技术介绍
铝或铝合金目前被广泛应用于航空、航天、汽车及微电子等工业领域。但铝或铝合金的标准电极电位很低,耐腐蚀差,暴露于自然环境中会引起表面快速腐蚀。提高铝或铝合金耐腐蚀性的方法通常是在其表面形成保护性的涂层。传统的阳极氧化、电沉积、化学转化膜技术及电镀等铝或铝合金的表面处理方法存在生产工艺复杂、效率低、环境污染严重等缺点。真空镀膜(PVD)为一清洁的成膜技术。然而,由于铝或铝合金的标准电极电位很低,且PVD涂层本身不可避免的会存在微小的孔隙,因此该PVD涂层难以较好的防止铝或铝合金基体发生电化学腐蚀,因此对铝或铝合金基体的耐腐蚀能力的提高有限。
技术实现思路
鉴于此,提供一种具有较好的耐腐蚀性的铝或铝合金的壳体。另外,还提供一种上述壳体的制造方法。一种壳体,包括铝或铝合金基体,其特征在于该壳体还包括依次形成于该铝或铝合金基体上的铝膜层和防腐蚀膜层,该防腐蚀膜层为氧化铝梯度膜,其掺杂有钕金属离子, 所述氧化铝梯度膜中氧的原子百分含量由靠近铝或铝合金基体至远离铝或铝合金基体的方向呈梯度增加,所述钕金属离子的掺杂方式为离子注入。一种壳体的制造本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张新倍陈文荣蒋焕梧陈正士詹益淇陈晓强
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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