本发明专利技术公开了一种光发射装置与应用它的发光二极管打印头，光发射装置包括一硅光学平台、一自聚焦透镜阵列、一上壳体与一光源。自聚焦透镜阵列设置于硅光学平台的一凹槽中，此凹槽具有第一反射面、一底部与一第二反侧面，第一反射面与一第二反侧面分别位于底部的两侧并形成一凹槽开口，其中所述凹槽开口的宽度大于所述底部的宽度。上壳体用以覆盖凹槽开口并具有一对应于第二反射面的透光区。光源则对应于第一反射面。此光发射装置的机构可利用迭加的方式来组装，借此提高组装精度与简化组装过程。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学
，有关于一种光学组件，且特别是有关于一种光发射装置与使用它的发光二极管打印头。
技术介绍
打印机是目前常见的计算机输出设备，可以将计算机内储存的数据按照文字或图形的方式永久地输出到纸张或者透明胶片上。打印机主要分为单色打印机与彩色打印机， 单色打印机主要以黑色为主，而彩色打印机则可作为相片打印机以输出画质精美的相片。打印机的种类众多，主要包括激光打印机、喷墨打印机与针式打印机等，其他还包括热转印式打印机(Thermal Transfer Printer)与光感应式打印机(Cylithography Printer)等。光感应式打印机是利用光转印技术来打印影像，光转印技术是由一家叫做 Cycolor Inc.的公司投资开发成商业化的产品，所以这项技术也被称做“Cylithography technology，，。在光转印技术中，会预先将颜料涂布在特殊的相纸上，这些涂布的颜料会先利用微胞囊技术(microcapsules)进行处理，将三色颜料(青蓝，洋红和黄)先以光敏感应性的微胞囊(light sensitive microcapsules)包起来。这些微胞囊会对特定波长的光线产生化学反应。光感应式打印机中的光学打印头会以特定波长的光线扫描相纸表面，被照射到的微胞囊会产生脆化反应。脆化的微胞囊会被光感应式打印机中的压力滚轮(pressure roller)压碎而释放出颜料以混合出所需的色彩。这种光感应式打印机中需要设置特殊的光学打印头以产生特定波长的光线，目前这种光学打印头可利用发光二极管(Light Emitting Diode，LED)阵列来作为光源，然后利用透镜来传递光线与聚焦。然而，目前的光学打印头的光学机构过于复杂，容易造成组装精度过低，并不利于量产。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是为了克服目前的光学打印头的光学机构过于复杂，容易造成组装精度过低，并不利于量产的缺陷，提供一种光发射装置与使用它的发光二极管打印头，利用硅光学平台(silicon optical bench, SiOB)来整合LED光源与自聚焦透镜阵列(SELF0C Lens Array，SLA)，此光发射装置的机构可利用迭加的方式来组装，借此提高组装精度与简化组装过程。本专利技术是通过下述技术方案来解决上述技术问题的本专利技术提出一种光发射装置，包括一硅光学平台、一自聚焦透镜阵列、一上壳体与至少一光源。硅光学平台具有一凹槽，凹槽具有一第一反射面、一底部与一第二反射面。第一反射面与第二反射面分别位于底部的两侧并形成一凹槽开口，其中凹槽开口的宽度大于底部的宽度。自聚焦透镜阵列设置于上述底部上并位于上述第一反射面与上述第二反射面之间。上壳体用于覆盖上述凹槽开口并具有一对应于第二反射面的透光区。光源设置于上壳体的一内侧面上，并对应于第一反射面。在本专利技术一实施例中，上述第一反射面用于反射光源所发出的光线，自聚焦透镜阵列将第一反射面所反射的光线引导至第二反射面。上述第二反射面所反射的光线则通过上述透光区。在本专利技术一实施例中，上述光源位于第一斜面在上述上壳体的正投影区域中，上述透光区则位于第二斜面在上壳体的正投影区域中。在本专利技术一实施例中，上述光源包括发光二极管阵列。上述自聚焦透镜阵列包括多个透镜。本专利技术还提出一种发光二极管打印头，包括一壳体与至少一光发射装置，光发射装置设置于上述壳体中。其中每一上述光发射装置包括一硅光学平台、一自聚焦透镜阵列、 一上壳体与至少一光源。硅光学平台具有一凹槽，凹槽具有一第一反射面、一底部与一第二反射面。第一反射面与第二反射面分别位于底部的两侧并形成一凹槽开口，其中凹槽开口的宽度大于底部的宽度。自聚焦透镜阵列设置于上述底部上并位于上述第一反射面与上述第二反射面之间。上壳体用于覆盖上述凹槽开口并具有一对应于第二反射面的透光区。光源设置于上述上壳体的一内侧面上，并对应于上述第一反射面。本专利技术的积极进步效果在于本专利技术在硅光学平台上形成具有双反射面的凹槽， 让光源与自聚焦透镜阵列可以整合于凹槽中，并且利用印刷电路板来作为凹槽的覆盖壳体，借此简化光发射装置的结构组成与降低设计成本。为让本专利技术的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下。附图说明图1为根据本专利技术第一实施例的光发射装置的示意图。图2为根据本专利技术第二实施例的发光二极管打印头示意图。主要组件符号说明100J60:光发射装置110:硅光学平台112:凹槽113:底部114:第一反射面115:第二反射面120:自聚焦透镜阵列130 上壳体140 光源142 透光区160 影像面200 发光二极管打印头230 上壳体240 虚线区域M2:透光区250 壳体θ 1、θ 2:夹角具体实施例方式实施例1 请参照图1，图1为根据本专利技术第一实施例的光发射装置的示意图，光发射装置 100包括硅光学平台110、自聚焦透镜阵列120、上壳体130与光源140。硅光学平台110具有凹槽112，凹槽112由第一反射面114、底部113与第二反射面115所形成，第一反射面114 与底部113的夹角θ 1实质上为135度，第二反射面115与底部113的夹角θ 2实质上为 135度。由于第一反射面114与第二反射面115是由外向内倾斜，因此第一反射面114与第二反射面115所形成的凹槽开口的宽度会大于凹槽112的底部113的宽度。自聚焦透镜阵列120设置于凹槽112的底部113上，可用来引导第一反射面114所反射的光线至第二反射面115。自聚焦透镜阵列120具有多个透镜，这些透镜可形成一个有连续图像的整体，因此可以直接得到实际图像大小的正向图像，所以不需要镜像图像。光源140设置于上壳体130的内侧面上，内侧面是指上壳体130面向凹槽112的第一反射面114的侧面。光源140的位置对应于第一反射面114，可用来发出光线至第一反射面114。上壳体130具有一透光区142，其位置对应于第二反射面115。自聚焦透镜阵列 120将第一反射面114所反射的光线引导至第二反射面115，第二反射面115所反射的光线可通过透光区142而成像于影像面160上。在实际应用时，具有微胞囊的相纸会经由机构带动而经过影像面160，被照射到的微胞囊便会产生脆化反应，然后经过后端的压力滚轮压碎后便可在相纸上呈现出颜色。未照射到的微胞囊会继续抱持不破裂的状态，而形成黑色。在本实施例中，凹槽112的第一反射面114、底部113与第二反射面115利用一体成型的方式形成在硅光学平台110上，并非利用组装而成，但本专利技术并不受限于此。上壳体 130可利用印刷电路板(Print Circuit Board, PCB)实现，其透光区142为开孔或以透光材质(如玻璃)形成，但本实施例并不受限。在本实施例中，上壳体130需要具有屏蔽的功能以防止漏光，利用印刷电路板来实现的话，则具有整合光源140的驱动电路以及作为外壳的效果，可以达到简化设计组成与节省成本。在本专利技术另一实施例中，上壳体130也可以直接利用玻璃形成，只要透光区142以外的地方涂布不透光的材料即可形成上壳体130。光源140包括发光二极管组件或发光二极管阵列，可依照设计需求决定，本实施例并不受限。本实施例的光发射装置本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：吴明哲，
申请(专利权)人：环旭电子股份有限公司，环鸿科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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