放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法、滤色器以及滤色器的形成方法技术

本发明专利技术涉及一种放射线敏感性树脂组合物、固化膜、固化膜的形成方法、滤色器以及滤色器的形成方法。本发明专利技术的目的在于提供一种兼具保存稳定性和低温焙烧性能、且具有充分的敏感性的放射线敏感性树脂组合物；以及耐溶剂性、相对介电常数和硬度均优异的作为层间绝缘膜、保护膜或垫片的固化膜；该固化膜的形成方法；耐热性、耐溶剂性、电压保持率等优异的滤色器；以及该滤色器的形成方法。在本发明专利技术的放射线敏感性树脂组合物中，含有[A]碱可溶性树脂、[B]具有乙烯性不饱和键的聚合性化合物、[C]放射线敏感性聚合引发剂以及[D]封端异氰酸酯化合物。

【技术实现步骤摘要】

本 专利技术涉及。
技术介绍
放射线敏感性树脂组合物正在被广泛用于作为层间绝缘膜、保护膜或垫片的固化膜的形成材料。作为该放射线敏感性树脂组合物，众所周知例如含有不饱和羧酸、含环氧基不饱和化合物等构成的共聚物的组合物(参照日本特开2001-354822号公报)。但是，在使用这些组合物时，为了提高表面硬度，满足固化膜达到实际商业要求的水平，必须在200°C 以上的高温下经焙烧工序。另一方面，电子书等挠性显示器正在普及。作为该挠性显示器的基板，正在研究聚对苯二甲酸乙二醇酯等挠性基板。由于该基板在加热时拉伸或收缩，会发生损坏显示器功能的不佳状况，必须使固化膜的焙烧工序实现低温化。公开有一种即使是低温焙烧也可作为形成交联涂膜的涂料组合物，例如利用封端异氰酸酯的技术(参照日本特开2009-155408号公报)。通过在反应性高的异氰酸酯基上具有保护基团，焙烧时保护基团解离，进行交联反应，能得到良好的固化膜，兼具保存稳定性和反应性。但是，有关该涂料组合物，由于不具有基于曝光显影的图案形成能力，故不能形成精细的图案。另外，开发出一种挠性显示器的栅极绝缘膜用的涂敷液的技术，其即使是低温焙烧也含可固化的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：米田英司，西信弘，丸山拓之，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：