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基于激光掺杂制备发射极的n型晶体硅太阳电池的制备方法技术

技术编号:7202820 阅读:542 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种基于激光掺杂制备发射极的n型太阳电池的制备方法,该方法是在旋涂有硼酸的n型基体上用全激光面扫描的方法制备发射极,随后采用Al2O3/SiO2叠层介质膜钝化电池前后表面,前表面镀SiNx减反膜,背面采用激光烧蚀技术形成局域开孔,最后用常规丝网印刷和烧结的方法形成电极并制成电池。本发明专利技术方法工序简单、成本低、利于生产高效率的太阳电池,可以大规模化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及太阳电池领域,具体涉及一种基于激光掺杂制备发射极的η型晶体硅太阳电池的制备方法。
技术介绍
最开始在η型基体上制作太阳电池是在1950年,但是后来发现其在太空高辐射的情况下性能衰减严重,稳定后的转换效率低于类似结构的P型太阳电池。这使得P型太阳电池成为太空应用的优先选择,其电池结构和生产技术得到不断完善。随后太阳电池转向地面应用的过程中,ρ型太阳电池结构得以沿用,成为主流。但是在地面应用中并不存在高辐射的威胁,尤其是近来为发展高效电池而作的大量研究发现 P型晶体硅并不一定是最佳选择。相对于硼掺杂的ρ型基体,磷掺杂的η型基体主要具有以下优点一、η型基体硼含量极低,所以由硼氧对导致的光致衰减并不明显;二、η型晶体硅具有更长的少子寿命。 因此很适合用于制备高效电池。传统制备硼发射极的η型太阳电池采用的是高温扩散硼源的方法,在众多硼扩散方式中,用氮气携带液态BBr3进行管式扩散的效果最好。高温硼扩散存在的一个问题是均勻性难以控制。在扩散前期,BBr3K应生成化03,后者沉积在晶体硅片表面,并在高温作用下扩散进入硅基体。这与磷扩散时POCl3先生成P2O5再沉积到晶体硅片表面的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.根据权利要求1所述的基于激光掺杂制备发射极的n型太阳电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对晶体硅片进行清洗制绒,在该晶体硅片前表面涂敷硼酸;(2)在涂有硼酸的晶体硅片的前表面利用激光面扫描的方法制成电池的P-N结,并清洗;(3)采用Al2O3/SiO2叠层介质膜钝化电池前后表面;(4)在电池的前表面镀SiNx减反膜,电池背面采用激光烧蚀技术形成局域开孔;(5)采用丝网印刷制电极及烧结测试,完成电池的制备过程。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:梁宗存叶小帅朱彦斌沈辉
申请(专利权)人:中山大学
类型:发明
国别省市:81

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