均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔制造技术

技术编号:7186590 阅读:568 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔,包括支架和筒体,其特征在于:支架上转动安装有转座,所述的筒体通过支杆固定安装于转座上,转座与筒体之间设有放置磁力搅拌器的间隙,所述筒体内设有样品台,样品台上设有若干通孔,所述的筒体外壁上设有进液口、出液口以及进气口和出气口,所述的出液口位于筒体底部,筒体底部放置有与磁力搅拌器配合的磁搅拌子,筒体上端安装有开启盖,开启盖上设有玻璃窗口且安装有真空表。本实用新型专利技术一方面拓展了液相激光烧蚀技术规模化的生产,另一方面也为其工业应用打下了基础。(*该技术在2021年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液相激光烧蚀
,确切地说是一种均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔
技术介绍
近些年来,液相脉冲激光烧蚀技术有了较大的发展,利用其合成的纳米材料具有种类多样化、形貌和结构单一、粒度分布较均勻。利用此技术制备的纳米材料,还具有合成过程简单,方法具有通用性,可进行多参数调控,制备的胶体纯净等特点。由于其产量较低, 一直是制约其发展的瓶颈。最近,Sajti小组报道了利用纳秒脉冲激光,对α-Al2O3陶瓷材料进行液相激光烧蚀,其产量可达到每小时一克的量级。由于液相激光烧蚀技术的应用重点还在实验室阶段,烧蚀部位的装置的大多是一些经过简单设计的槽或者瓶之类,有的将靶材装在底部,进行旋转烧蚀,有的将靶材架空,下面放有磁力搅拌子,进行磁力搅拌。实验结果表明靶材的固定与旋转对合成的胶体有着重大的影响,固定的靶材, 烧蚀时容易产生熔滴,胶体的颗粒分布不均,同时,对靶材的破坏也较大,利用率较低,而旋转靶则可以有效避免的这些缺点,但是在利用旋转靶时,胶体没有搅动,烧蚀点位置的胶体颗粒浓度会比其它位置的胶体颗粒浓度高,如果不能够及时分散较高浓度的胶体颗粒,会导致其局部团聚。详细请参考H. Μ本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔,包括支架和筒体,其特征在于:支架上转动安装有转座,所述的筒体通过支杆固定安装于转座上,转座与筒体之间设有放置磁力搅拌器的间隙,所述筒体内设有样品台,样品台上设有若干通孔,所述的筒体外壁上设有进液口、出液口以及进气口和出气口,所述的出液口位于筒体底部,筒体底部放置有与磁力搅拌器配合的磁搅拌子,筒体上端安装有开启盖,开启盖上设有玻璃窗口且安装有真空表。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:梁长浩张和民刘俊田振飞
申请(专利权)人:中国科学院合肥物质科学研究院
类型:实用新型
国别省市:34

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