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本实用新型公开了均相胶体液相激光烧蚀连续制备反应腔，包括支架和筒体，其特征在于：支架上转动安装有转座，所述的筒体通过支杆固定安装于转座上，转座与筒体之间设有放置磁力搅拌器的间隙，所述筒体内设有样品台，样品台上设有若干通孔，所述的筒体外壁上设...
该专利属于中国科学院合肥物质科学研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院合肥物质科学研究院授权不得商用。

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