本发明专利技术提供了一种密封装置。在一些实施方式中，密封装置包括环形体，该环形体包括具有圆形截面的第一部分和从该第一部分径向向外延伸的第二部分，其中该第二部分具有矩形截面。在一些实施方式中，密封装置包括：被配置成保持在第一表面的凹槽中的主体；臂，该臂自主体远离第一表面延伸，且被配置成当向主体偏转时通过第二表面提供力以在第一表面和第二表面之间形成密封。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理室的密封装置领域本专利技术的实施方式一般涉及真空处理室，且特别涉及到用于这类处理室的密封件。背景通常，通过包括在待接合(adjoin)的表面之间设置的密封垫、0型环或相似类型的密封件来防止在表面之间所形成的接合(joint)处发生泄漏。用足以压缩密封件并防止气流通过该密封接合处的力可将结合表面压向彼此。然而，在一些工艺中，诸如石英钟形罩之类的易碎部件必须与诸如排气歧管(manifold)这样的排气部件匹配，这里由于易碎部件而不可对密封剂施加较大的力。在这种情况中，由于部件制造和/或装配(assembly)中的偏差(tolerance)而可发生的不对准会引起由于施加到密封件的力的变化致使泄漏。例如在使用大密封表面的情况下，这种不对准会加重。如上所述，由于易碎部件导致不能通过对密封件施加较大压力来适当地补偿沿着密封表面的偏差变化。因此，由于密封件和密封表面之间的间隙或不充分接触可导致发生泄漏。因此，本领域需要一种改善的密封。概述在此提供一种密封装置。在一些实施方式中，密封装置包括环形体，该环形体包括具有圆形截面的第一部分和自第一部分向外径向延伸的第二部分，其中第二部分具有矩形截面。在一些实施方式中，密封装置包括主体，该主体被配置成保留在第一表面的凹槽中； 臂，该臂自该主体远离第一表面延伸，并且该臂被配置成当向主体偏转(deflect)时通过第二表面提供一个力以在第一表面和第二表面之间形成密封。下文公开了本专利技术的其他特征和实施方式。附图简要说明因此，为了能详细理解本专利技术的上述特征，通过参考实施方式，可获得对上述简要概括的本专利技术的更具体描述，一些实施方式在附图中示出。但是应注意，附图仅示出了本专利技术的典型实施方式，且由于本专利技术允许其他等效实施方式，因此不认为其限制本专利技术的范围。附图说明图1描述了根据本专利技术一些实施方式的示意性批量处理室的剖面图。图2A-B描述了根据本专利技术一些实施方式的示意性批量处理室的侧视图和顶视图。图3A-B描述了根据本专利技术一些实施方式的密封装置。图4A-D描述了根据本专利技术一些实施方式的密封装置。为了便于理解，尽可能之处，使用相同参考数字表示图中共用的相同元件。附图不是按比例画出，且为了清楚起见对其进行了简化。可以预期，一个实施方式的元件和特征可有利地结合到其他实施方式中而不需进一步说明。具体描述本文公开了密封装置的实施方式。在一些实施方式中，本专利技术的密封装置有利地改善了对密封表面之间的不对准和/或不均勻性的容限。本专利技术的密封装置一般可用在需要控制室工艺压力或工艺气氛的任何处理室中。例如，本专利技术的密封装置可用在真空处理室中、或者利用在其中包含有毒气体的非真空应用中。其他处理室也可从本专利技术的密封装置获益，如下文所述。为了说明目的，下文描述本专利技术的密封装置用在批量处理室中。以下在图1-2 中示出了一个示范性批量处理室。在2005年10月13日提出的专利技术名称为“Reaction Chamber with Opposing Pockets for Gas Injection and Exhaust，，的美国专禾Ij串请序列号 11/249，555、和 2006 年 5 月 5 日提出的专利技术名称为 “Batch Processing Chamber with Diffuser Plate and Injector Assembly” 的美国专利申请序列号 11/381，966 中进一步详细描述了合适的批量处理室实例，本文中通过参考将这些专利申请每一个的内容并入本文。一个适合于与本专利技术的密封装置一起使用的示范性批量处理室可包括从California 的Santa Clara的应用材料公司获得的FLEXSTAR 系统。图1示出了本专利技术的示范性批量处理室的剖面图。批量处理室100 —般包括被配置成容纳基板舟皿(substrate boat) 114的石英室101。石英室101 —般包括圆顶型室主体102。形成在室主体102 —侧上的注射室(injector pocket) 104、形成在注射室104的相对侧上的室主体102上的排气组件103、和与室主体102的开口 118相邻形成的凸缘117。 基板舟皿114被配置成支撑批量基板121并经由开口 118传送批量基板121进出石英室 101。凸缘117可熔接到室主体102上以减少用于真空密封的0型环。代替铣制在室主体 102上的狭槽，排气组件103和注射室104可熔接在室主体102上。注射室104是扁平的石英管子(tubing)，其一端熔接在室主体102上且一端打开。注射室104被配置成容纳注射组件105。在一些实施方式中，排气组件103可包括排气口(未示出)，该排气口被配置成容纳废气(未示出)。如图1中所示，排气组件103包括经由多个石英导管(Conduit)IOS 耦合到室主体102的石英管道(tube) 107。石英室101通常由可由适合用于炉室的(熔融的)石英制成。在一个方面，石英是一种结合了高纯度和高温特性的经济材料。另一方面， 石英能允许宽温度梯度和高加热速度。石英室101通常由开口 118附近的支撑板110支撑。0型环密封件119用于石英室101和支撑板110之间的真空密封。具有孔径120的室叠层支架(chamber stack support) 109设置在支撑板110上。一个或多个加热组块111通常设置在室主体102周围， 且被配置成经由室主体102提供热能至石英室101内部的基板121。在一个方面，一个或多个加热组块111可具有多个垂直区域。多个石英衬垫(liner) 112设置在该一个或多个加热组块111周围以防止热能向外幅射。外部室113设置在石英室101、该一个或多个加热组块111以及石英衬垫112上方并搁在叠层支架109上，提供用于加热组块111和石英衬垫112的真空密封。开口 116可形成在外部室113的侧面上，以便注射组件105和排气组件103通过。热绝缘体106通常设置在注射室104和外部室113之间。由于热绝缘体106 和石英衬垫112将外部室113与加热组块111和被加热的石英室101隔离，因此外部室113 可在加热工艺期间保持“冷却”。相似地，热绝缘体(未示出)可设置在排气组件103和外部室113之间，用于与热绝缘体106相同的目的。在一个方面，外部室113由诸如铝和不锈钢这样的金属制成。在一个方面，注射组件105和/或排气组件103的温度可独立于石英室101受控。例如，如图1中所示，加热狭槽(slot) 122和冷却通道(channel) 123提供在注射组件105 中，用于单独加热和冷却注射组件105。在图2A-B中进一步详细示出了处理室100。批量处理室100通常包括限定处理空间237的石英室101，该处理空间237被配置成容纳在基板舟皿114中叠置的批量基板 121。一个或多个加热组块111通常布置在石英室101周围，被配置成加热处理空间237内部的基板121。外部室113设置在石英室101和一个或多个加热组块111上方。一个或多个石英衬垫112设置在外部室113和一个或多个加热组块111之间并被配置成保持外部室 113冷却。石英室101由石英支撑板110支撑。外部室113连接到由石英支撑板11本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种密封装置，包括：环形体，该环形体包括具有圆形截面的第一部分和从所述第一部分向外径向延伸的第二部分，其中所述第二部分具有矩形截面。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：约瑟夫·尤多夫斯凯，
申请(专利权)人：应用材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US
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