【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于光学部件等中的低折射率膜及其制造方法、低折射率膜用涂敷液套剂、包含低折射率膜的防反射膜及其制造方法、带有微粒层叠薄膜的基材及其制造方法、 以及光学部件。
技术介绍
低折射率膜作为防反射膜、反射膜、半透射半反射膜、可见光反射红外线透射膜、红外线反射可见光透射膜、蓝色反射膜、绿色反射或红色反射膜、亮线截止滤光器 (emission line cutoff filter)、色调校正膜(color correction film)中所包含的光学功能膜而形成于光学部件上。并不限于表面形状平坦的光学部件,在液晶用背光灯的亮度提高用透镜膜或扩散膜、视频投影电视的屏幕中使用的菲涅耳透镜、双凸透镜或微透镜等光学功能部件中,均通过树脂材料具有微细结构体来获得所希望的几何光学性能。这些微细结构体表面也需要包括低折射率膜的光学功能膜。低折射率膜作为单层结构的防反射膜,在更宽的波长范围内显示防反射性能。进而,单层结构的防反射膜与多层结构的防反射膜相比,由于层数减少,因而成本降低。作为单层结构的防反射膜的折射率,在基材为树脂材料等透明材料的情况下,1. 2 1. 3的范围的低折射率是优选的。低折射率膜的形成方法中,可列举出蒸镀法、溅射法等气相法以及浸渍法、旋涂法等涂布法。但是,作为通过气相法而获得的代表性低折射率的薄膜,有折射率为1. 38的MgF2 和折射率为1. 39的LiF,这些薄膜作为单层防反射膜的性能低。此外,通过涂布法而获得的低折射率膜的代表性材料中,有折射率为1. 35 1. 4 的氟系高分子材料和折射率为1. 37 1. 46的使由氟单体的聚合物形 ...
【技术保护点】
1.一种低折射率膜,其特征在于,其是使通过在固体基材的表面上交替吸附电解质聚合物及微粒而形成的微粒层叠膜与硅化合物溶液接触,从而使所述固体基材与所述微粒结合以及使所述微粒彼此结合而成的低折射率膜,所述硅化合物溶液含有(1)官能团由水解性基团和非水解性的有机基团构成的烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物、(2)所述烷氧基硅烷(I)与官能团仅由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)的混合物的水解物及该水解物的缩合反应产物、及(3)所述烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物与所述烷氧基硅烷(II)的混合物中的任一者。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP2008-2685622008年10月17日1.一种低折射率膜,其特征在于,其是使通过在固体基材的表面上交替吸附电解质聚合物及微粒而形成的微粒层叠膜与硅化合物溶液接触,从而使所述固体基材与所述微粒结合以及使所述微粒彼此结合而成的低折射率膜,所述硅化合物溶液含有(1)官能团由水解性基团和非水解性的有机基团构成的烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物、(2)所述烷氧基硅烷(I)与官能团仅由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)的混合物的水解物及该水解物的缩合反应产物、及(3) 所述烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物与所述烷氧基硅烷(II)的混合物中的任一者。2.一种低折射率膜,其特征在于,其是使通过在固体基材的表面上交替吸附电解质聚合物及微粒而形成的微粒层叠膜与硅化合物溶液接触,从而使所述固体基材与微粒结合以及使微粒彼此结合而成的低折射率膜,所述硅化合物溶液含有(4)官能团仅由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)、(5)所述烷氧基硅烷(II)的水解物及该水解物的缩合反应产物(III)、及(6)所述烷氧基硅烷(II) 与所述水解物及该水解物的缩合反应产物(III)的混合物中的任一者,而且,所述固体基材在表面上具有微细结构。3.根据权利要求1或2所述的低折射率膜,其中,微粒层叠膜中的微粒含有多孔质二氧化硅微粒、中空二氧化硅微粒以及具有由一次粒子连接而成的形状的二氧化硅微粒中的 1种以上的微粒。4.根据权利要求1 3中任一项所述的低折射率膜,其中,微粒层叠膜中的微粒的平均一次粒径为Inm以上且IOOnm以下。5.根据权利要求1 4中任一项所述的低折射率膜,其特征在于,固体基材在表面上具有用于获得双凸透镜、菲涅耳透镜、棱镜、微透镜阵列、导光性微细结构、光扩散性微细结构以及全息图中的任一者的微细结构。6.一种防反射膜,其特征在于,其包含权利要求1 5中任一项所述的低折射率膜。7.一种低折射率膜的制造方法,其特征在于,其是形成于固体基材的表面上的低折射率膜的制造方法,包括以下工序(i)使固体基材的表面与电解质聚合物溶液即A液或微粒分散液即B液接触的工序,接着进行冲洗的工序;(ii)使接触了所述A液之后的固体基材的表面接触具有与A液的电解质聚合物的电荷相反的电荷的微粒的分散液的工序、或者使接触了所述B液之后的固体基材的表面接触具有与B液的微粒的电荷相反的电荷的电解质聚合物的溶液的工序,接着进行冲洗的工序;(iii)交替地重复进行(i)和(ii)从而形成微粒层叠膜的工序;以及(iv)使微粒层叠膜与硅化合物溶液即C液接触的工序,所述硅化合物溶液即C液含有(I)官能团由水解性基团和非水解性的有机基团构成的烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物、(2)所述烷氧基硅烷(I)与官能团由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)的混合物的水解物及该水解物的缩合反应产物、及(3)所述烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物与所述烷氧基硅烷(II)的混合物中的任一者。8.一种低折射率膜的制造方法,其特征在于,其是形成于固体基材的表面上的低折射率膜的制造方法,包括以下工序(i)使固体基材的表面与电解质聚合物溶液即A液或微粒分散液即B液接触的工序,接着进行冲洗的工序;(ii)使接触了所述A液之后的固体基材的表面接触具有与A液的电解质聚合物的电荷相反的电荷的微粒的分散液的工序、或者使接触了所述B液之后的固体基材的表面接触具有与B液的微粒的电荷相反的电荷的电解质聚合物的溶液的工序,接着进行冲洗的工序;(iii)交替地重复进行(i)和(ii)从而形成微粒层叠膜的工序;以及(iv)使微粒层叠膜与硅化合物溶液即C液接触的工序,所述硅化合物溶液即C液含有 ⑷官能团由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)、(5) (II)的水解物及该水解物的缩合反应产物(III)、及(6) (II)与(III)的混合物中的任一者,而且,所述固体基材在表面上具有微细结构。9.根据权利要求7或8所述的低折射率膜的制造方法,其特征在于,微粒分散液的微粒包含多孔质二氧化硅微粒、中空二氧化硅微粒以及具有由一次粒子连接而成的形状的二氧化硅微粒中的1种以上的微粒。10.根据权利要求7 9中任一项所述的低折射率膜的制造方法,其特征在于,微粒分散液的微粒的平均一次粒径为Inm以上且IOOnm以下。11.根据权利要求7 10中任一项所述的低折射率膜的制造方法,其特征在于,固体基材在表面上具有用于获得双凸透镜、菲涅耳透镜、棱镜、微透镜阵列、导光性微细结构、光扩散性微细结构以及全息图中的任一者的微细结构。12.一种防反射膜的制造方法,其特征在于,其包括权利要求7 11中任一项所述的低折射率膜的制造方法。13.一种低折射率膜用涂敷液套剂,其特征在于,其是由电解质聚合物溶液、微粒分散液及硅化合物溶液构成的低折射率膜用涂敷液套剂,所述电解质聚合物溶液中的电解质聚合物所具有的电荷与所述微粒分散液中的微粒所具有的电荷符号相反,所述硅化合物溶液含有(1)官能团由水解性基团和非水解性的有机基团构成的烷氧基硅烷(I)的水解物及该水解物的缩合反应产物、(2)所述烷氧基硅烷(I)与官能团由水解性基团构成的烷氧基硅烷(II)...
【专利技术属性】
技术研发人员:高根信明,
申请(专利权)人:日立化成工业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。