具有粗糙化出光结构的发光二极管装置及其制造方法制造方法及图纸

技术编号:7125637 阅读:200 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是关于一种具有粗糙化出光结构的发光二极管装置。该装置包括:一导线架;一或多个发光二极管芯片,设置在该导线架上,并且与该导线架产生电连接;以及一封装用透镜,用以封装该一或多个发光二极管芯片,以及该透镜的表面具有微米级的粗化结构。该封装用透镜的表面的粗化结构具有约0.1μm到约50μm的粗糙度。本发明专利技术亦关于具有粗糙化出光结构的发光二极管装置的制造方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种,该粗糙化出光结构具有微米级的粗糙度,以增加发光二极管的出光效率并且改善发光均勻性。
技术介绍
在现有发光二极管装置的设计中,为了增加发光二极管的出光均勻性,通常会在发光二极管上设置一层透镜,此透镜可用以封装发光二极管,并可集中由发光二极管所发出的光线。然而,当自发光二极管所发出的光线通过此透镜时,光线通常会发生全反射现象,因而造成出光效率的降低。图1是现有发光二极管装置的出光示意图。如图1所示,发光二极管110被透镜120所包覆,以及发光二极管110在发光时,其所发出的光线可到达透镜120的表面125,在此时,光线可能会穿过透镜表面125而射出至外界(如箭头A所示), 或者,在透镜表面125发生全反射现象而折回透镜120的内部(如箭头B所示),因而降低发光二极管的出光效率。因此,亟需一种能够增加发光二极管出光效率并改善发光均勻性的发光二极管装置。
技术实现思路
鉴于上述现有发光二极管的设计问题,本专利技术提供一种。本专利技术的一实施样态为提供一种具有粗糙化出光结构的发光二极管装置。此装置包括导线架;一或多个发光二极管芯片,设置在导线架上,并且与导线架产生电连接;以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有粗糙化出光结构的发光二极管装置,包括:一导线架;一或多个发光二极管芯片,设置在所述导线架上,并且与所述导线架产生电连接;及一封装用透镜,用以封装所述一或多个发光二极管芯片,以及所述封装用透镜的表面具有微米级的粗化结构。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:颜睿康
申请(专利权)人:旭明光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:71

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