一种钴-钨纳米合金镀层及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种钴-钨纳米合金镀层的制备方法，以白金钛或钴-钨合金为阳极，待镀工件为阴极，采用硫酸钴100-200g/l、钨酸钠10-70g/l、硫酸钠50-150g/l、硼酸15-50g/l、糖精钠1-4g/l、表面活性剂0.01-0.1g/l和络合剂40-120g/l的混合溶液为电解液，进行电镀。合金镀层为纳米晶结构，晶粒尺寸为20～40nm；纳米合金镀层中钨含量为13.2～25.1wt％。本发明专利技术优点在于：镀层制备方法简单，不仅具有硬铬镀层的硬度，而且具有比硬铬镀层更好的耐磨和减摩性能。适用于要求高硬度、高耐磨和低摩擦系数的部件，具有广泛的应用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
１．一种钴－钨纳米合金镀层的制备方法，其特征在于，以白金钛或钴－钨合金为阳极，待镀工件为阴极，采用硫酸钴１００－２００ｇ／ｌ、钨酸钠１０－７０ｇ／ｌ、硫酸钠５０－１５０ｇ／ｌ、硼酸１５－５０ｇ／ｌ、糖精钠１－４ｇ／ｌ、表面活性剂０．０１－０．１ｇ／ｌ和络合剂４０－１２０ｇ／ｌ的混合溶液为电解液，进行电镀。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏峰华，黄平，刘灿森，姚创海，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：81