被处理液循环型刮取式析晶装置制造方法及图纸

一种被处理液循环型刮取式析晶装置，包括：　　　　具有筒状圆周壁及槽底并供有被处理液的析晶槽、　　　　设置于该析晶槽内的流通管、　　　　设置于该流通管外侧的外侧旋转桨叶、　　　　围绕所述圆周壁的轴线旋转并刮取附着于所述圆周壁内面上结晶的刮取叶片、　　　　从所述槽底向所述圆周壁的轴线方向延伸的至少一片被处理液旋转流抑制板；　　　　通过所述外侧旋转桨叶的旋转，产生使被处理液沿流通管的外侧上升并沿内侧下降的被处理液的循环，其特征在于：　　　　在所述流通管的内侧的下端部，具有把被处理液往所述旋转流抑制板推进的内侧旋转桨叶。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种被处理液循环型的刮取式析晶装置。
技术介绍
自以前析晶方法就有例如隔热冷却法、注入致冷剂的直接冷却法、利用水套或热交换器的间接冷却法、蒸发浓缩法、盐析法等。根据结晶的特性、前后工艺的关系、经济性等，适当选择利用这些析晶方法。另外，在其中的间接冷却法中，为了避免「在冷却面上附着结晶而降低导热系数并使操作性恶化」的缺点，有供给新的原液或暂时把冷却面加热而使附着在冷却面的结晶溶解的方法(间歇式)、和把附着在冷却面的结晶用刮取叶片(所谓刮板)刮取的方法(刮取式)。不过，由于间歇式的间接冷却法在处理量多时会产生操作上的问题，所以在现实中广泛使用刮取式的间接冷却法。用该刮取式的间接冷却法的析晶装置，例如如图1所示的装置。即，被处理液循环型的刮取式析晶装置100，包括具有筒状的圆周壁101及槽底104、并供有被处理液P的析晶槽105，和设置于该析晶槽105内的流通管102，和设置于该流通管102内侧的内侧旋转桨叶103，和围绕圆周壁101轴心旋转并刮取附着于圆周壁101内壁面101A上结晶的未图示的刮取叶片(刮刀)(另外，图中的符号M是用于使内侧旋转桨叶103旋转的马达等的驱动装置。在该装置100上，未图示的刮取叶片，由与该驱动装置M不同的另外的驱动装置所驱动。)。但是，在该析晶装置100中，由于有因内侧旋转桨叶103的高速旋转的结晶磨损·破碎的问题，利用新提出的如图2所示的把旋转桨叶206设在流通管202的外侧的形式的析晶装置200(并且，201表示圆周壁、201A表示圆周壁内壁面、204表示槽底、205表示析晶槽。另外，在该装置200中，驱动装置M除了使外侧的旋转桨叶206旋转之外，还使未图示的刮取叶片旋转。)的方案。为了进一步提高被处理液P的循环，该装置200还具有抑制因旋转桨叶206而产生旋转流动的被处理液P的旋转、并把循环方向转变为上下流动的旋转流抑制板207(例如，参照专利文献1)。由于该析晶装置200能防止结晶的破碎，并能防止被处理液的旋转流动，所以是非常有用的装置。专利文献1特公昭61-25402号公报(图1)但是，近年来，需要可使结晶成长得更大、且能使微细结晶更少的析晶装置，也期待着这样的析晶装置的进一步改善。当然，也考虑了用提高旋转桨叶的旋转速度产生大循环流的方法使结晶成长得更大，但因容易产生结晶的磨损或破碎，故抵消了这种装置的优点。因此，本专利技术的主要目的在于提供一种既防止结晶的磨损或破碎，又能使结晶成长得更大，并且可以减少微细结晶的被处理液循环型刮取式析晶装置。
技术实现思路
解决上述问题的本专利技术如下所述。本专利技术之1的被处理液循环型刮取式析晶装置，包括具有筒状圆周壁及槽底并供有被处理液的析晶槽、设置于该析晶槽内的流通管、设置于该流通管外侧的外侧旋转桨叶、围绕所述圆周壁的轴线旋转并刮取附着于所述圆周壁内面上结晶的刮取叶片、从所述槽底向所述圆周壁的轴线方向延伸的至少一片被处理液旋转流抑制板；通过所述外侧旋转桨叶的旋转，产生使被处理液沿流通管的外侧上升并沿内侧下降的被处理液的循环，其特征在于在上述流通管的内侧的下端部，具有把被处理液往上述旋转流抑制板推进的内侧旋转桨叶。本专利技术之2的被处理液循环型刮取式析晶装置，包括具有筒状圆周壁及槽底并供有被处理液的析晶槽、设置于该析晶槽内的流通管、设置于该流通管外侧的外侧旋转桨叶、围绕所述圆周壁的轴线旋转并刮取附着于所述圆周壁内面上结晶的刮取叶片、从所述槽底向所述圆周壁的轴线方向延伸的至少一片被处理液旋转流抑制板；通过所述外侧旋转桨叶的旋转，产生使被处理液沿流通管的外侧上升并沿内侧下降的被处理液的循环，其特征在于上述外侧旋转桨叶被设在上述流通管的外侧下端部，并由上述旋转流抑制板向上吸引抑制了旋转流的被处理液。本专利技术之3所述的专利技术，是根据本专利技术之1或2所述的被处理液循环型刮取式析晶装置，其特征在于至少具有一片从槽顶向圆周壁轴线方向延伸的被处理液旋转流抑制板。本专利技术之4所述的专利技术，是根据本专利技术之1～3中任意一项所述的被处理液循环型刮取式析晶装置，其特征在于在槽底中央部设有圆锥状的凸出部，并在该凸出部以外的槽底上设有结晶结块破碎机构。附图说明图1是以往的析晶装置说明图。图2是以往的析晶装置说明图。图3是本实施例的析晶装置的纵剖面图。图4是本实施例的析晶装置的横剖面图。图中1—析晶装置，3—圆周壁，4—槽底，5—槽顶，6—析晶槽，7—流通管，8—外侧旋转桨叶，9—刮取叶片，10—下侧旋转流抑制板，11—上侧旋转流抑制板，12—内侧旋转桨叶，15—被处理液供给口，16—被处理液排放口，17—外部水套，19—轴，20—破碎机构，P—被处理液。具体实施例方式以下，说明本专利技术的实施例。另外，所谓本专利技术的被处理液，例如是溶解了对二氯苯、双酚A以及2、6-二甲基萘等的结晶性的物质的浆状溶液，其种类没有特定限制。(装置整体)如图3及图4所示，本专利技术实施例的被处理液循环型刮取式析晶装置1，主要包括圆周壁3、具有槽底4及槽顶5并供有被处理液P的析晶槽6、设置于该析晶槽6内的流通管7、设置于该流通管7外侧的外侧旋转桨叶8、围绕圆周壁3轴心旋转并刮取附着于圆周壁3内面3A上的结晶的刮取叶片9、9…、至少一片从上述槽底4沿圆周壁3轴线方向延伸的，在本实施例中为3片被处理液P的旋转流抑制板10(以下简单称作下侧旋转流抑制板10。)以及至少一片从槽顶5沿圆周壁3轴线方向延伸的，在本实施例中为3片的被处理液P的旋转流抑制板11(以下简单称作上侧旋转流抑制板11。)。析晶槽6的圆周壁3为圆筒状，且该圆周壁3的下端边缘与槽底4、上端边缘与槽顶5分别连接。槽底4和槽顶5可以与圆周壁3整体成形，也可以形成作为与圆周壁3的单独部件。在本实施例中，槽底4和槽顶5都是形成与圆周壁3的单独部件。另外，分别在槽顶5上设有被处理液供给口15，在槽底4上设有两个被处理液排放口16、16。并且，在析晶槽6的圆周壁3上，设有外部水套17。在该外部水套17内，经致冷剂供给·排放口17A使致冷剂通过，并间接地冷却析晶槽6内的被处理液P。流通管7，被配置在与圆周壁3同轴并且从槽底4离开的位置。流通管7，通过沿水平方向延伸的杆状支撑辐条18、18…被安装在轴19上。该轴19，被沿上下方向延伸地配置在圆周壁3的轴心部，且被轴承20所支承。轴19，当由安装于槽顶5上部的作为驱动装置的马达M驱动旋转时，使流通管7也随之旋转(本装置1，是由马达M并通过单一的轴19而使刮取叶片9、外侧旋转桨叶8及内侧旋转桨叶12全部旋转的机械构造不复杂的装置。)。在流通管7的外侧下端部，设有外侧旋转桨叶8。以该外侧旋转桨叶8的旋转，产生使被处理液P沿流通管7的外侧上升并沿内侧下降的被处理液P的循环。通过该循环促进结晶的成长。对外侧旋转桨叶8的设置方法没有特定的限制。例如，如本实施例所示，可以安装在流通管7的外侧，或通过杆状支撑辐条18等安装在轴19上(当然，必须不能与其他部件相碰。)。但是，从防止被处理液P旋转的观点出发，最好是不用辐条而直接安装在流通管7上的形式。在本专利技术中，与以往的把外侧旋转桨叶设在流通管的外侧中央部形式不同，之所以设在流通管的外侧下端部，是为了主动地向上吸引与旋转流抑制板接触的被处理液。即，通过与旋转流抑制板的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：竹上敬三，高桥谦之，佐藤教子，
申请(专利权)人：月岛机械株式会社，
类型：发明
国别省市：