【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种利用各种药液对基板进行处理时，可减少药液损失的基板处理装置。
技术介绍
众所周知，用于制造平板显示元件用基板的光刻作业，大致由光刻胶涂覆工艺与蚀刻工艺构成。这种光刻胶涂覆工艺和蚀刻工艺，大部分通过将各种药液(例如显影液、蚀刻液、 剥离液)喷射或涂布在基板上的方式来进行，且在具备腔室的腔室装置内进行，所述腔室可以容纳基板。所述腔室装置包括回收单元和排气单元。所述回收单元连接在腔室上，以便从腔室回收基板处理中使用过的药液。所述排气单元连接在腔室，对腔室进行排气的同时均勻地维持腔室的内部压力。尤其，所述排气单元在排气通道的一侧具备常规的过滤器，在对腔室进行排气时， 可通过过滤器直接过滤出包含在气体中的雾状药液。这样，通过所述排气单元对腔室进行排气时，可最大限度地减少由于所排出的气体中含有雾状药液而产生的药液损失。然而，如此以堵截排气单元的排气通道一侧的状态设置过滤器，并用该过滤器从气体中过滤出雾状药液的方式存在各种缺陷。尤其，若以堵截排气通道一侧的状态设置过滤器，则通过吸力对腔室内部进行排气时，会降低吸力，从而无法得到满意的排气效率。而且，通过过滤器...
【技术保护点】
１．一种基板处理装置，其特征在于，包括：腔室壳体，其具备可容纳基板的腔室；药液供给单元，其构成为可向位于所述腔室壳体的腔室内的基板供给药液；药液回收单元，其包括连接在所述腔室壳体上的回收管，用于回收由所述药液供给单元供给的药液；排气单元，其包括连接在所述腔室壳体上的排气管，通过吸力对所述腔室壳体的腔室内部进行排气；雾体分离单元，其连接在所述排气单元的排气管一侧，使得气体以旋风气流的状态流过的同时过滤出包含在气体中的雾状药液。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：姜京旻，李相河，李承俊，
申请(专利权)人：显示器生产服务株式会社，
类型：发明
国别省市：KR
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