本发明专利技术公开了阳离子-非离子复合插层型有机蒙脱石极其制备方法，该方法包括以下步骤：提纯钙基蒙脱石；对钙基蒙脱石进行水化处理：将提纯后的钙基蒙脱石制成水悬浮液，通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理；制备阳离子-非离子复合插层型有机蒙脱石材料：使用有机阳离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂，分别在超声分散作用和机械搅拌作用下，依次对蒙脱石进行插层。本发明专利技术的有机蒙脱石层间距高达4.6nm以上，热稳定性高，在有机相中分散均匀，剥离程度高，性能优异，可作为一种性能优异的填料应用到制备高分子纳米复合材料领域。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及钙基蒙脱石有机改性的新工艺，更具体涉及阳离子-非离子复合插层型有机蒙脱石及其制备方法。通过本专利技术提供的方法，采用阳离子和非离子型表面活性剂来复合插层改性蒙脱石，能制得高层间距、高性能的有机蒙脱石。
技术介绍
蒙脱石是一种含水的层状铝硅酸盐矿物，由两个硅氧四面体中间夹一个氯铝 (镁)氧(氢氧)八面体组成，晶层间距为约0. 96nm，层间有可交换的Na+、Ca2+、Mg2+等阳离子，可以与其他阳离子进行交换。有机蒙脱石具有广泛用途，已被应用于润滑脂、油漆、油墨、化妆品、医药卫生、环境治理、食品和国防工业等部门。目前市场上出售的有机蒙脱石层间距Cltltll值多在2. Onm左右，因有机化程度较低，导致产品在有机相中的分散效果和剥离程度不佳。目前国内外生产有机蒙脱石多采用阳离子型表面活性剂，通过阳离子与蒙脱石层间的阳离子进行交换在蒙脱石层间引入有机基团，产品单一，性能尚不能满足各相关应用领域的要求，尤其是其热稳定性较差、产品颜色较深限制了其在高分子纳米复合材料领域的应用。例如，CN101774598A的中国专利申请公开了烷基铵盐表面活性剂插层的改性黏土的制备方法，其通过黏土在水中的悬浮液与含有烷基铵盐表面活性剂的溶剂混合反应、或者通过将黏土粉末与烷基铵盐表面活性剂溶解反应，得到烷基铵盐表面活性剂插层的改性黏土。不过，所得改性黏土的层间距有待进一步增加。目前国内外许多科技工作者志力于研究制备新型有机蒙脱石。如何改善蒙脱石层间环境，改变蒙脱石层间距离是研究热点。—种研究方向是将阳离子表面活性剂与表面修饰剂组合用于改性蒙脱石。CN1796465A公开了蒙脱石的插层和表面修饰剂，通过季铵盐与蒙脱石进行阳离子交换反应，再利用偶联剂对蒙脱石进行表面修饰，大大提高有机化改性蒙脱石的疏水性，使其在非极性溶剂中可以性形成非常稳定的分散体系。CN1160424C中国专利公开了一种有机膨润土的制备方法，采用季铵盐作为改性齐 ，通过将膨润土的水相悬浮液与季铵盐化合物反应，并用不饱和羧酸化合物进行表面改性处理，制成有机膨润土。聚不饱和羧酸衍生物的羧基或铵基对膨润土表面有很强的化学吸附能力，附着在表面上的聚不饱和羧酸衍生物能够避免膨润土薄皮的紧密堆积，提高在溶剂中的溶剂化合分散能力。不过，在该专利中，聚不饱和羧酸衍生物只是起到表面吸附的作用，并未对膨润土层间改性做出贡献。CN1554474A的中国专利申请公开一种阳-非离子有机膨润土废水处理材料及其制备方法，将膨润土导入阳离子和非离子的混合表面活性剂溶液中反应，处理后得到阳-非离子有机膨润土。其利用的是非离子表面活性剂聚乙烯醇(PVA)对膨润土表面的吸附性，阳离子表面活性剂提高了非离子表面活性剂PVA在膨润土表面的吸附，使得阳_非离子有机膨润土的有机碳含量高于相应的阳离子有机膨润土和非离子有机膨润土有机碳含量的总和。膨润土对水中有机污染物的吸附作用包括分配作用，而分配作用的大小和有机碳含量正相关，由于有机碳含量提高，从而分配作用显著增强，有效去除水中的有机污染物。在上述类型的研究中，偶联剂、聚不饱和羧酸衍生物和非离子表面活性剂都是作为表面修饰剂对蒙脱石表面进行改性，对于蒙脱石的层间改性并没有发挥作用。 另一种研究方向是使用非离子型表面活性剂来改性蒙脱石。虽然非离子型表面活性剂可以用来改性蒙脱石，但因单纯非离子型表面活性剂非常困难对蒙脱石进行插层改性，而且制得的有机蒙脱石亲水性强，难以实现有机蒙脱石与水相体系的分离。另一方面，目前生产的有机化蒙脱石层间距离仍有进一步改进的空间。目前尚未有关于以阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂对蒙脱石进行插层来改性蒙脱石从而制得高层间距的阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石的制备方法及性能特点的报道。
技术实现思路
本专利技术人通过锐意研究发现，可以先使用阳离子性表面活性剂对钙基蒙脱石进行插层改性，通过阳离子性表面活性剂与蒙脱石的层间阳离子进行交换作用，对蒙脱石进行初步的有机改性，将有机基团引入蒙脱石层间，从而将亲水性蒙脱石改性为疏水性蒙脱石， 初步撑大蒙脱石的层间距，然后再使用非离子性表面活性剂进行插层改性，由于蒙脱石已变为疏水性的，因此非离子性表面活性剂容易地进入蒙脱石层间，从而进一步撑大蒙脱石的层间距，使蒙脱石层能良好地实现剥离，由此实现本专利技术。本专利技术的目的在于提供阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石的制备方法，该方法包括以下步骤A.提纯蒙脱石将天然钙基蒙脱石进行提纯；B.对蒙脱石进行水化处理将提纯后的钙基蒙脱石制成水悬浮液，通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理；C.制备阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石材料将已充分水化的蒙脱石水化液记为A液，将有机阳离子型表面活性剂加入A液中并进行超声分散作用，后续再机械搅拌，得B液，然后将非离子型表面活性剂加入到B液中并机进行超声分散作用，后续再机械搅拌，恒温静置，分离，干燥，得到阳离子-非离子复合插层型有机蒙脱石材料。本专利技术的另一目的在于提供通过上述方法制得的阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石。本专利技术采用阳离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂复合插层的方法制备新型有机蒙脱石，本专利技术方法工艺流程简单，改性剂来源易得，产品层间距可高达4. 35nm以上，热稳定性高，在有机相中分散均勻，剥离程度高，性能优异，可作为一种性能优异的填料应用到制备高分子纳米复合材料领域。附图说明图1是钙基蒙脱石晶体结构示意图。图2是实施例2中所得阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石的XRD图，其中MMT 表示蒙脱石，CTAB表示十六烷基三甲基溴化铵。图3是实施例3中所得阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石的XRD图，其中MMT 表示蒙脱石，CTAB表示十六烷基三甲基溴化铵。图4是钙基蒙脱石的XRD图，其中匪T表示蒙脱石。具体实施例方式以下结合具体实施方式对本专利技术进行详细。通过这些描述，本专利技术的特点和优点将变得更为清楚。本专利技术提供了阳离子-非离子复合插层型有机蒙脱石的制备方法，该方法包括以下步骤A.提纯蒙脱石将钙基蒙脱石进行提纯；B.对蒙脱石进行水化处理将提纯后的钙基蒙脱石制成水悬浮液，通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理；C.制备阳离子_非离子复合插层型有机蒙脱石材料将已充分水化的蒙脱石水化液记为A液，将有机阳离子型表面活性剂加入A液中并进行超声分散作用，后续再机械搅拌，得B液，然后将非离子型表面活性剂加入到B液中并机进行超声分散作用，后续再机械搅拌，恒温静置，分离，干燥，得到阳离子-非离子复合插层型有机蒙脱石材料。步骤A在本专利技术的制备方法中，步骤A的作用是将天然钙基蒙脱石进行纯化，去除杂质， 可以通过将天然钙基蒙脱石粉碎、在水中沉降分离来实现。在本专利技术制备方法的一个优选的实施方案中，步骤A包括用球磨机将天然钙基蒙脱石原料粉碎，过200目筛，将钙基蒙脱石分散在水中配成悬浮液使其“浓度”不超过10g/L，电动搅拌15-60分钟，优选20-30分钟，更优选20分钟，室温静置一段时间，优选6 - 2 0小时，优选8 -10小时，用虹吸管取出上层悬浊液，离心分离，在升高的温度下如 60-10(TC，特别约70°C下干燥，得提纯蒙脱石，剩下部分重新加入蒸馏水，将容积恢复到原样后继续搅拌15-60分钟，优选20-30分钟，本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．阳离子－非离子复合插层型有机蒙脱石的制备方法，该方法包括以下步骤：Ａ．提纯蒙脱石：将钙基蒙脱石进行提纯；Ｂ．对蒙脱石进行水化处理：将提纯后的钙基蒙脱石制成水悬浮液，通过机械搅拌与超声作用混合的方式进行水化处理；Ｃ．制备阳离子－非离子复合插层型有机蒙脱石材料：将已充分水化的钙基蒙脱石水化液记为Ａ液，将有机阳离子型表面活性剂加入Ａ液中并进行超声分散作用，后续再机械搅拌，得Ｂ液，然后将非离子型表面活性剂加入到Ｂ液中并进行超声分散作用，后续再机械搅拌，恒温静置，分离，干燥，得到阳离子－非离子复合插层型有机蒙脱石材料。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张泽朋，张吉初，廖立兵，夏志国，
申请(专利权)人：中国地质大学北京，
类型：发明
国别省市：11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。