真空镀膜机磁控溅射靶装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜机磁控溅射移动靶装置。本实用新型专利技术的真空镀膜机磁控溅射靶装置，包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶装置安装在移动装置上；牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置。本实用新型专利技术的真空镀膜机磁控溅射靶装置为移动式的磁控溅射靶，其结构简单，易于控制，镀膜均匀，尤其适用于大面积工件的镀膜。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜机磁控溅射移动靶装置。
技术介绍
近年来，随着磁控溅射技术的不断发展，其在真空镀膜设备中得到了广泛的应用，在应用磁控溅射技术对大面积工件进行镀膜时，为了使镀膜均匀，常采用在真空室内将靶固定，而移动镀件的办法，这种办法必然增加真空室的长度，一方面加大设备的整体体积，造成其制造成本较高；另一方面也使得镀膜过程的生产效率低。现有技术中，采用多靶的方式实现大面积镀膜，虽然在一定程度上增加了镀膜效率，但是设备的制造成本更高。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种真空镀膜机磁控溅射靶装置，实现磁控溅射靶在真空镀膜室中移动，满足提高镀膜效率的同时降低设备的制造成本。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：一种真空镀膜机磁控溅射靶装置，其包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶安装在移动装置上，牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置。本技术所述的牵引装置包括滑轮组和牵引电缆，牵引电缆缠绕滑轮组。所述的滑轮组包括动滑轮和定滑轮。本技术还包括了滑轮舱，所述的滑轮组位于滑轮舱内，牵引电缆的输入端从滑轮舱上端伸出。本技术还包括了位于滑轮舱上的冷却管。本技术的磁控溅射靶在镀件面上沿导轨做匀速运动。本技术所述的导轨的条数可以根据实际镀件的数量、镀件需镀膜的部位以及真空镀膜室的体积进行调整；本技术所述的磁控溅射靶、移动装置的个数也可以根据实际需要进行调整。相比现有技术，本技术的有益效果在于： 本技术的真空镀膜机磁控溅射靶装置为移动式的磁控溅射靶，其结构简单，易于控制，镀膜均匀，尤其适用于大面积工件的镀膜。此外本技术的真空镀膜机磁控溅射靶装置可以根据实际需要设置两个或两个以上的磁控溅射靶，同时对多个工件进行镀膜，进一步提高了镀膜效率，降低了制作成本。附图说明图1为本技术机构示意图。具体实施方式-->如图1所示，本技术的真空镀膜机磁控溅射靶装置，其包括导轨1、移动装置2、磁控溅射靶3、牵引装置4和驱动装置5，其中导轨1位于真空镀膜室10的上方，移动装置2安装在导轨1中，磁控溅射靶3安装在移动装置2上；牵引装置3一端连接移动装置2，另一端连接驱动装置5。本技术优选方案中，所述的牵引装置4包括滑轮组和牵引电缆41，牵引电缆41缠绕滑轮组，滑轮组包括定滑轮42和动滑轮43。工作时，驱动器装置5通过牵引电缆41和滑轮组带动磁控溅射靶3沿导轨1在工件11表面做匀速运动，实现在工11件上均匀镀膜。本技术的真空镀膜机磁控溅射靶装置还包括了滑轮舱7，所述的动滑轮43位于滑轮舱7内，牵引电缆41的输入端从滑轮舱上端伸出。滑轮舱7的作用在于保护滑轮，同时防止滑轮晃动。优选的实施例中，本技术还包括了位于滑轮舱7上的冷却管8。本技术所述的导轨的条数可以根据实际镀件的数量、镀件需镀膜的部位以及真空镀膜室的体积进行调整；本技术所述的磁控溅射靶、移动装置的个数也可以根据实际需要进行调整。-->本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种真空镀膜机磁控溅射靶装置，其特征在于：其包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶安装在移动装置上，牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机磁控溅射靶装置，其特征在于：其包括导轨、移动装置、磁控溅射靶、牵引装置和驱动装置，其中导轨位于真空镀膜室的上方，移动装置安装在导轨中，磁控溅射靶安装在移动装置上，牵引装置一端连接移动装置，另一端连接驱动装置。2.根据权利要求1所述的真空镀膜机磁控溅射靶装置，其特征在于：所述的牵引装置包括滑轮组和牵引电缆，牵引电缆缠绕...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄瑞安，
申请(专利权)人：黄瑞安，
类型：实用新型
国别省市：44