【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种镀膜装置，具体为一种等离子真空陶瓷镀膜装置。
技术介绍
现有技术的等离子镀膜装置具有操作简单、可靠、生产成本较低等优点，但其用于陶瓷镀膜存在以下的缺陷：1.难以同时获得多种不同的膜；2不同金属的物化性质的差别如蒸发温度的不同，电离电位不同使得不同离子在同一镀面上的稳定性和均匀性很难控制，不同离子的沉积速度不同，容易在镀件表面出现斑点，难以保证镀膜的质量。
技术实现思路
为了克服现有技术的不足，本技术的目的在于提供一种等离子真空陶瓷镀膜装置以解决镀膜层质量差异、镀膜质量难以保证的问题。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：一种等离子真空陶瓷镀膜装置，其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室，与真空室相连的真空泵，以及位于真空室上的进气口；所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架；所述的蒸发源包括工作电源、与工作电源连接的蒸发源电极和绝缘件，所述的蒸发源至少为两个。本技术所述的转动装置包括了转轴和位于转轴上由转轴带动的转盘。本技术所述的镀件架包括主件和若干个挂件，所述的挂件分布在主件上，所述的主件与转盘转动连接，主件随着转盘转动的同时其自身也在不停的转动，以实现镀件周身均匀镀膜。本技术所述的镀件架沿转盘周边分布，每个镀件架之间的距离可以根据镀件的体积大小来调整。本技术优选的实施例中一个蒸发源位于镀件的内侧，另外的蒸发源位于镀件的外侧，以保证镀件上的镀膜层的厚度均匀。本技术所用的等离子体源为阴极电弧型等离子发射源。本技术相比于现有技术，其有益效果在于：本技术在等离子源的周围有至少两个以上的蒸发源...
【技术保护点】
１．一种等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室，与真空室相连的真空泵，以及位于真空室上的进气口；所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架；所述的蒸发源包括工作电源、与工作电源连接的蒸发源电极和绝缘件，所述的蒸发源至少为两个。
【技术特征摘要】
1.一种等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：其包括真空室装置、镀件工作装置、蒸发源和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室，与真空室相连的真空泵，以及位于真空室上的进气口；所述的镀件工作装置包括了转动装置、位于转动装置上的镀件架；所述的蒸发源包括工作电源、与工作电源连接的蒸发源电极和绝缘件，所述的蒸发源至少为两个。2.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特征在于：所述的转动装置包括了转轴和位于转轴上由转轴带动的转盘。3.根据权利要求1所述的等离子真空陶瓷镀膜装置，其特...
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