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本实用新型涉及一种镀膜装置，具体为一种等离子真空陶瓷镀膜装置。本实用新型的等离子真空陶瓷镀膜装置，其包括真空室装置、镀件工作装置和等离子体源，其中所述的真空室装置包括真空室，与真空室相连的真空泵，以及位于真空室上的进气口；所述的镀件工作装置...
该专利属于黄瑞安所有，仅供学习研究参考，未经过黄瑞安授权不得商用。

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