【技术实现步骤摘要】
本技术涉及镀膜玻璃,尤其涉及一种三银低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
国标GBT18915[2]_2002《建筑玻璃第2部分低辐射镀膜玻璃》,中规定的离线低辐 射镀膜玻璃的辐射率低于0. 15。在现有技术的单银低辐射镀膜玻璃、双银低辐射镀膜玻璃, 可以做到辐射率0. 05 0. 08。为了提升隔热性,一般是通过增加银层的厚度的方法,这将 意味着是牺牲一定的透过率的前提下获得更低的辐射率。而银层的厚度的增加也会造成成 本的上升。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术的不足,提供一种低辐射率的三银镀膜玻璃。本技术提供的技术方案为一种三银低辐射镀膜玻璃,层级结构依次是玻璃,第一阻隔层,第一电介质层,第 一银层,第二阻隔层,第二电介质层,第二银层,第三阻隔层,第三电介质层,第三银层,第四 阻隔层,第四电介质层,顶层保护层。所述第一阻隔层厚度为10-30nm。所述第二阻隔层、第三阻隔层、第四阻隔层厚度为0. 5-8nm。所述第一银层、第二银层、第三银层为平面靶溅射而成,膜层厚度为6-20nm ;所述第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介质层厚度为10-60nm。所述顶层保护层厚度为10-30nm。本技术中,第一阻隔层采用硅的氧化物、氮化物或氮氧化物制成;第二阻隔 层、第三阻隔层、第四阻隔层采用镍铬的氧化物、氮化物或氮氧化物制成;第一银层、第二银 层、第三银层采用平面靶溅射而成;第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、第四电介 质层采用钛、锌、铝、硅的氧化物、氮化物或氮氧化物,可以是TiO2, SiO2, ZnO,Al2O3中的一种 或多种制成;顶层保护层是硅 ...
【技术保护点】
1.一种三银低辐射镀膜玻璃,其特征在于:层级结构依次是玻璃,第一阻隔层,第一电介质层,第一银层,第二阻隔层,第二电介质层,第二银层,第三阻隔层,第三电介质层,第三银层,第四阻隔层,第四电介质层,顶层保护层。
【技术特征摘要】
1.一种三银低辐射镀膜玻璃,其特征在于层级结构依次是玻璃,第一阻隔层,第一电 介质层,第一银层,第二阻隔层,第二电介质层,第二银层,第三阻隔层,第三电介质层,第三 银层,第四阻隔层,第四电介质层,顶层保护层。2.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃,其特征在于所述第一阻隔层厚度为 10-30nm。3.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃,其特征在于所述第二阻隔层、第三阻 隔层、第四...
【专利技术属性】
技术研发人员:董清世,辛崇飞,
申请(专利权)人:信义玻璃工程东莞有限公司,
类型:实用新型
国别省市:44
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