一种制作多晶硅绒面的方法及腐蚀液技术

技术编号:6659547 阅读:248 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种用于制作多晶硅绒面的腐蚀液,包括以下浓度的成分:2摩尔/升~5摩尔/升的HF、5摩尔/升~15摩尔/升的HNO3、0.2摩尔/升~1摩尔/升的亚硝酸盐、0.1摩尔/升~0.5摩尔/升的H2SiF6和余量水。本发明专利技术在HF和HNO3中添加NaNO2和H2SiF6作为稳定剂,实验结果表明,与现有技术相比,使用本发明专利技术提供的腐蚀液制备的多晶硅绒面结构可以有效地降低对太阳光的反射率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于制备太阳能电池的多晶硅
,具体涉及一种制作多晶硅绒面的方法以及腐蚀液。
技术介绍
太阳能光伏电池,简称为光伏电池,用于把太阳的光能直接转化为电能。与常规能源相比,光伏电池是一种可再生清洁能源,有利于环境保护,并且可以节省造价很贵的输电线路,因此光伏电池具有广阔的应用前景。单晶硅片或多晶硅片是制备光伏电池的主要部件,当太阳光照射在单晶硅片或多晶硅片上时,光能可以转变为电能。太阳光照射在硅片表面一般有40%以上的反射光,为了提高光电转换效率,需要增加硅片对太阳光的吸收效果,使反射率降至最小。目前,为了降低太阳光在硅片表面的反射率,需要对硅片进行表面处理以在硅片表面形成细小而均勻的绒面结构,绒面结构可以吸收更多的太阳光,降低光的反射率,从而提高短路电流,最终达到提高光电转换效率的效^ ο目前,单晶硅片绒面制备技术开发较早,已经比较成熟。目前常用的技术是利用化学腐蚀技术制备单晶硅绒面,该技术是利用晶体硅的晶相在特定腐蚀液中被腐蚀速录有所不同的特性在单据硅片上制备出金字塔型绒面。用于制备单晶硅绒面的腐蚀液一般为 NaOH、异丙醇和硅酸钠的混合溶液。由于多晶硅具有与单晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制作多晶硅绒面的腐蚀液,包括以下浓度的成分:HF        2摩尔/升~5摩尔/升;HNO3      5摩尔/升~15摩尔/升;亚硝酸盐  0.2摩尔/升~1摩尔/升;H2SiF6    0.1摩尔/升~0.5摩尔/升;余量水。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李建飞汪琴霞黄镇郭建东樊选东
申请(专利权)人:江阴浚鑫科技有限公司
类型:发明
国别省市:32

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