【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于对基板的周边部进行清洗处理的基板处理装置和基板处理方法。 作为处理对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用玻璃基板、等离子显示装置用基板、FED (场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、太阳电池用基板等的基板。
技术介绍
在半导体装置的制造工序中，在作为大致圆形基板的半导体晶片(以下，简称为 “晶片”)的器件形成面等上形成金属薄膜之后，有时进行蚀刻除去该金属薄膜的不用的部分的处理。例如，若在晶片的周边部形成金属薄膜，则存在在利用搬运机械手进行搬运时， 会发生机械手的金属污染，并且该金属污染进一步转移到其他晶片的缺陷。因此，需要除去形成在晶片的周边部的不用的金属薄膜。用于从晶片的周边部除去金属薄膜的基板处理装置例如具有旋转卡盘，其将晶片保持为水平，且使晶片旋转；蚀刻液喷嘴，其向晶片的下表面供给蚀刻液。使晶片的表面 (器件形成区域形成的一面)向上而保持在旋转卡盘上。作为蚀刻液喷嘴例如使用插通旋转卡盘的旋转轴内的中心轴喷嘴。该中心轴喷嘴的上端的喷出口与保持在旋转卡盘上的晶片的下表面的中央相向。在从喷出口喷出的...
【技术保护点】
１．一种基板处理装置，使用处理液对基板的周边部施行处理，其特征在于，具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述周边部的内侧的区域从该基板的下表面隔开间隔地相向；通过从上述处理液喷出口喷出的处理液，使基板的下表面与上述第一相向面之间的空间成为液密闭状态。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：岸本卓也，安藤幸嗣，
申请(专利权)人：大日本网屏制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP
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