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一种基板处理装置具有：基板保持单元，其用于将基板保持为水平姿势；旋转单元，其使上述基板保持单元所保持的基板围绕铅垂轴线旋转；第一喷嘴，其具有第一相向面和形成于第一相向面的处理液喷出口，该第一相向面与通过上述旋转单元旋转的基板的下表面上的上述...
该专利属于大日本网屏制造株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过大日本网屏制造株式会社授权不得商用。

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