沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种沉积装置，该沉积装置设置有与在其上沉积薄膜的衬底相对的并能够根据衬底表面而移动的蒸发源，还设置有用于将蒸发材料供给至蒸发源的工具(蒸发材料供给工具)。由移动工具支持蒸发源，该移动工具能够扫描其上沉积薄膜的衬底表面。该蒸发材料供给工具使用下述方法：通过气流供给蒸发材料粉末的方法、将蒸发材料溶解或分散在溶剂中并雾化该材料液体而进行供给的方法、或者以棒状、线状、粉末状以及通过机械机构附着到柔性薄膜的状态供给蒸发材料的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于通过蒸发形成薄膜的沉积装置。具体地，本专利技术涉及用于制造利用电致发光的显示装置的沉积装置。
技术介绍
通过蒸发包含发光介质的薄膜而制造主要使用有机材料的电致发光元件(下文中称之为“EL元件”)。通过蒸发形成薄膜传统上是众所周知的。对于用于制造有机EL元件的沉积装置，存在这样一种结构，其中组成有机EL元件的各层被连续地沉积，同时在分离的真空腔内保持真空气氛(例如，见专利文件1 日本专利申请公开第H10-M1858号(第 6、7 页，图 4))。公开了一种蒸发装置，其中衬底和蒸发掩模置于衬底支持工具上，蒸发源和衬底之间的距离减小至30cm以下，且蒸发源沿X方向或Y方向移动以执行沉积(例如，见专利文件2 日本专利申请公开第2004-0634M号(第5至7页，图1))。在这些沉积装置中，采用电阻加热方法执行EL元件中EL层的沉积。电阻加热方法是指这种方法，即，通过这种方法使用蒸发材料填充由金属或陶瓷形成的蒸发源，通过在减压下进行加热而蒸发或升华该蒸发源以形成薄膜。传统蒸发源无法突然地控制温度，因此需要通过开启和关闭挡板同时连续地蒸发该蒸发材料，而将蒸发材料附着到衬底上。
技术实现思路
制造电致发光显示装置中使用的玻璃衬底的尺寸已经变得较大。例如，在第六代中尺寸为1500mmX 1800mm、在第七代中尺寸为1870mmX2200mm、以及在第八代中尺寸为 2160mmXMOOmm的玻璃衬底将被引入到生产线。然而，在沉积EL层时，可以被填充到蒸发源中的蒸发材料的数量受到限制，越来越难以连续地处理多个大尺寸衬底。也就是说，为了连续地将EL层蒸发到大尺寸玻璃衬底上，需要大量的蒸发材料；然而，作为蒸发源的坩锅尺寸存在限制，且无法填充足够数量的蒸发材料。因此，存在这样的问题，即，对于多个衬底中的每个衬底必须中止蒸发操作，以便用蒸发材料填充蒸发源。蒸发需要预定的时间，直至蒸发源的温度变得稳定，且在该时间内蒸发的材料被浪费，因此材料的成品率降低，这导致生产量的降低。鉴于前述问题，本专利技术的目标是提供一种沉积装置，能够增强蒸发材料的利用效率且能够连续地对大尺寸衬底进行蒸发。本专利技术的一个特征为一种沉积装置，该沉积装置设置有与在其上沉积薄膜的衬底相对的并能够根据衬底表面而移动的蒸发源，还设置有用于将蒸发材料供给至蒸发源的工具(蒸发材料供给工具)。该蒸发源设置有辊状物体和加热工具，使得蒸发材料在该辊状物体内被加热。该加热工具可以采用各种方法，例如，通过对辊状物体施加电流而加热的方法、通过热量辐射的加热方法、通过电阻加热的加热方法、以及通过感应加热的加热方法。由移动工具支持蒸发源，该移动工具能够扫描其上沉积薄膜的衬底的表面。一个或多个蒸发源被保持在移动工具内。蒸发源和蒸发材料供给工具可以集成，或者蒸发材料供给工具可以被固定到蒸发源(所述蒸发源设置成可移动的)上。在后一种情形中，蒸发源和蒸发材料供给工具通过材料供给管而相互连接，该材料供给管具有预定状态的蒸发材料可以通过的内径。下述方法被包括在蒸发材料供给工具中通过气流供给蒸发材料粉末的方法、将蒸发材料溶解或分散在溶剂中并雾化该材料液体而进行供给的方法、以棒状、线状、粉末状以及通过机械机构附着到柔性薄膜的状态供给蒸发材料的方法。本专利技术的另一个特征为一种沉积装置，该沉积装置具有蒸发源，设置于能够保持减压状态的处理腔内并与在其上沉积蒸发材料的衬底相对；移动工具，用于移动蒸发源以沿衬底主表面进行扫描；以及蒸发材料供给工具，用于供给蒸发材料，并连接到蒸发源。本专利技术的又一个特征为一种沉积装置，该沉积装置具有蒸发源，设置于能够保持减压状态的处理腔内并与在其上沉积蒸发材料的衬底相对，用于雾化其中蒸发材料被溶解或分散到溶剂中的材料液体，以气化或升华该气溶胶中的溶剂；移动工具，用于移动蒸发源以沿衬底主表面进行扫描；以及蒸发材料供给工具，用于供给材料液体，并连接到蒸发源。本专利技术的又一个特征为一种沉积装置，该沉积装置具有蒸发源，设置于能够保持减压状态的处理腔内，与在其上沉积蒸发材料的衬底相对，并使用惰性气体或反应气体蒸发或升华粉末状蒸发材料；移动工具，用于沿衬底主表面扫描蒸发源；以及蒸发材料供给工具，用于使用活性气体或反应气体供给粉末状蒸发材料，并连接到蒸发源。本专利技术的又一个特征为一种沉积装置，该沉积装置具有蒸发源，设置于能够保持减压状态的处理腔内，与在其上沉积蒸发材料的衬底相对，并蒸发或升华粉末状蒸发材料; 移动工具，用于移动蒸发源以沿衬底主表面进行扫描；以及蒸发材料供给工具，其中材料供给管被连接到蒸发源，且通过旋转设置于材料供给管内的螺杆可以连续地供给粉末状蒸发材料。本专利技术的又一个特征为一种沉积装置，该沉积装置具有蒸发源，设置于能够保持减压状态的处理腔内，且该处理腔设置有开口，通过该开口连续地释放蒸发材料将附着到的柔性薄膜；加热工具，用于向柔性薄膜发射能量束，暴露于开口的蒸发材料将附着到该柔性薄膜上；以及移动工具，用于移动蒸发源以沿衬底主表面进行扫描。本专利技术的再一个特征为用于制造显示装置的方法，包括步骤在处理腔内提供蒸发源、将衬底置于该处理腔内、以及从蒸发源蒸发材料以将材料沉积到衬底上。蒸发源相对于衬底的位置在沉积材料期间被重复移动。材料供给部分通过材料供给管而连接到蒸发源。根据本专利技术，可以连续均勻地进行沉积，即使显示面板具有大尺寸的屏幕。此外， 不需要在每次蒸发材料用尽时向蒸发源供给蒸发材料，因此可以改善生产量。附图说明在附图中图1为解释和实施例模式1相关的沉积装置的结构的视图；图2为解释和实施例模式1相关的沉积装置的内部结构的视图3为解释和实施例模式2相关的沉积装置的内部结构的视图；图4为解释和实施例模式3相关的沉积装置的内部结构的视图；图5为解释和实施例模式3相关的沉积装置的内部结构的视图；图6为解释和为实施例模式4相关的沉积装置的沉积处理腔提供的蒸发源及蒸发材料供给部分的示例视图；图7为解释和为实施例模式5相关的沉积装置的沉积处理腔提供的蒸发源及蒸发材料供给部分的示例视图；图8为解释和为实施例模式6相关的沉积装置的沉积处理腔提供的蒸发源及蒸发材料供给部分的示例视图；图9A和9B为解释和为实施例模式7相关的沉积装置的沉积处理腔提供的蒸发源及蒸发材料供给部分的示例视图；图10为解释和实施例模式7相关的EL元件的结构视图；图11为解释和实施例模式9相关的发光装置的结构视图；图12A和12B为分别解释和实施例模式9相关的发光装置的结构视图；图13为解释和实施例模式9相关的发光装置的结构视图；图14A和14B为分别解释和实施例模式10相关的发光装置的结构视图；图15为解释和实施例模式11相关的发光装置的结构视图；图16为解释和实施例模式11相关的发光装置的结构视图；图17A和17B为分别解释和实施例模式11相关的发光装置制造工艺的剖面视图；图18为解释和实施例模式11相关的发光装置制造工艺的顶视图(对应于图 17A)；图19A至19C为分别解释和实施例模式11相关的发光装置制造工艺的剖面视图；图20为解释和实施例模式11相关的发光装置制造工艺的顶视图(对应于图 19B)；图21A至21C为分别解释和实施例模式11相关的发光装置制造工艺的剖面视图；图22为解释和实施例模式11相关的发光本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种制造发光装置的方法，包括如下步骤：在处理腔中提供蒸发源；将衬底布置在所述处理腔中；以及沉积来自所述蒸发源的材料，以在所述衬底上形成电致发光层，其中，所述蒸发源的相对位置在蒸发所述材料期间相对于所述衬底重复移动，其中，材料供给部分通过材料供给管连接到所述蒸发源，以及其中，所述材料供给管包括硬的狭窄导管，该导管配置成柔软弯曲并且在减压下也不改变所述材料供给管的形状。

【技术特征摘要】
2005.09.06 JP 2005-2585581.一种制造发光装置的方法，包括如下步骤 在处理腔中提供蒸发源；将衬底布置在所述处理腔中；以及沉积来自所述蒸发源的材料，以在所述衬底上形成电致发光层， 其中，所述蒸发源的相对位置在蒸发所述材料期间相对于所述衬底重复移动， 其中，材料供给部分通过材料供给管连接到所述蒸发源，以及其中，所述材料供给管包括硬的狭窄导管，该导管配置成柔软弯曲并且在减压下也不改变所述材料供给管的形状。2.一种制造发光装置的方法，包括如下步骤 在处理腔中提供蒸发源；将衬底布置在所述处理腔中；以及蒸发或升华来自所述蒸发源的材料，以在所述衬底上形成电致发光层， 其中，所述蒸发源的相对位置在蒸发所述材料期间相对于所述衬底重复移动， 其中，材料供给部分通过材料供给管连接到所述蒸发源，以及其中，所述材料供给管包括硬的狭窄导管，该导管配置成柔软弯曲并且在减压下也不改变所述材料供给管的形状。3.—种制造发光装置的方法，包括如下步骤 在处理腔中提供蒸发源；将衬底布置在所述处理腔中；以及雾化来自所述蒸发源的材料，以在所述衬底上形成电致发光层， 其中，所述材料溶解或分散在溶剂中，其中，所述蒸发源的相对位置在蒸发所述材料期间相对于所述衬底重复移动， 其中，材料供给部分通过材料供给管连接到所述蒸发源，以及其中，所述材料供给管包括硬的狭窄导管，该导管配置成柔软弯曲并且在减压...

【专利技术属性】
技术研发人员：荒井康行，山崎舜平，
申请(专利权)人：株式会社半导体能源研究所，
类型：发明
国别省市：JP