【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及扩散炉
，特别是一种磷扩散炉管两端进气装置。
技术介绍
现有扩散设备中由于P0C13液体源扩散中，携带磷源的气流N2、反应气体&直接 通过一根进气管从炉尾进入炉管，靠近炉口处气体的浓度将比炉尾出气流低，导致整管方 阻片间均勻性较差。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提高磷扩散后的片内、片间方阻均勻性，达到较好 的整管方阻分布。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种磷扩散炉管两端进气装置，包 括两根在炉管内延伸的进气管，每根进气管的两端均连接到气源，每根进气管两端通入的 为同一种反应气体，并通过阀门调节每根进气管的两端的进气比率，进气管上有均勻分布 的出气孔，出气孔的出气方向平行与硅片表面，两根进气管分别通入不同的反应气体。两根进气管上的出气孔的出气方向相互垂直。两根进气管的延伸方向与炉管的轴向平行，并且分别位于炉管5点半和7点半方 向。不同的反应气体分别为由N2携带的POCl3,以及02。本专利技术的有益效果是本专利技术通过从炉口，炉尾同时通进反应气体，达到调整管内 气体分布，改善方阻均勻性的目的。附图说明下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明。图1是炉管内部进气方式侧视图；图2是炉管内部进气方式截面图；图中1.炉管，2.进气管，3.出气孔，4.硅片。具体实施例方式如图1所示，一种磷扩散炉管两端进气装置，包括两根在炉管1内延伸的进气管2， 每根进气管2的两端均连接到气源，每根进气管2两端通入的为同一种反应气体，并通过阀 门调节每根进气管的两端的进气比率，进气管2上有均勻分布的出气孔3，出气孔3的出气 方向...
【技术保护点】
一种磷扩散炉管两端进气装置，其特征是：包括两根在炉管（１）内延伸的进气管（２），每根进气管（２）的两端均连接到气源，每根进气管（２）两端通入的为同一种反应气体，并通过阀门调节每根进气管的两端的进气比率，进气管（２）上有均匀分布的出气孔（３），出气孔（３）的出气方向平行与硅片（４）表面，两根进气管（２）分别通入不同的反应气体。
【技术特征摘要】
1.一种磷扩散炉管两端进气装置，其特征是包括两根在炉管(1)内延伸的进气管 O)，每根进气管( 的两端均连接到气源，每根进气管( 两端通入的为同一种反应气体， 并通过阀门调节每根进气管的两端的进气比率，进气管( 上有均勻分布的出气孔(3)，出 气孔(3)的出气方向平行与硅片(4)表面，两根进气管( 分别通入不同的反应气体。2.根据权利要求1所述的磷扩散...
【专利技术属性】
技术研发人员：方智，
申请(专利权)人：常州天合光能有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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