蒸发源装置制造方法及图纸

一种蒸发源装置，以在大面积的基板制作时，提高蒸镀物的均匀性及蒸镀材料的利用率。本发明专利技术的蒸发源装置包含一坩锅及一喷嘴盖体。该坩锅具有一第一容置空间及第二容置空间，借由加热该坩锅使蒸镀材料的分子蒸发。而该喷嘴盖体设置于该坩锅的开口处，具有一第一斜孔喷嘴及一第二斜孔喷嘴，该第一斜孔喷嘴及该第二斜孔喷嘴分别连接于该一第一容置空间及该第二容置空间。

【技术实现步骤摘要】
蒸发源装置
本专利技术有关于一种蒸发源装置，特别是关于一种可在大面积的基板制作时，提高镀膜的均勻性及蒸镀材料的利用率的坩锅结构。
技术介绍
蒸镀制程(evaporation process)在半导体组件制作、液晶显示器组件制作或太阳能电池组件制作过程中受到了广泛的使用，为了将制作过程中所使用的蒸镀材料均勻涂布于基板，现有技术中是将基板设置于坩锅的开口上方，再借由加热坩锅使得放置于其内的蒸镀材料蒸发，通过开口而均勻地附着在于基板上，达成均勻涂布的效果。然当基板尺寸越来越大时，其所蒸镀薄膜的均勻度便是极大的挑战，如何在大型基板上制作厚度均勻的高质量镀膜，一直是当前蒸镀制程量产时所面临最大的挑战。为因应大面积量产的需求，大面积薄膜蒸镀早期是从传统的点蒸发源为基础来进行改良，所延伸出的改良有改变点蒸发源气体容器开口的形状、增加点蒸发源的数目、以及改变点蒸发源的排列方式等方法。但这些改良应用在小面积及少量生产时，单点或多点蒸发源的蒸镀方式也许可提供较均勻的镀膜，但其缺陷在于当拟进行大面积镀膜且须大量生产时，仍会遭遇如膜厚不均或蒸镀材料利用率低等种种限制。故为因应大面积镀膜与大量生产，在现有技术中更进一步地将蒸镀源由点蒸发源改进为线蒸发源。线蒸发源是以扫描方式进行蒸镀，线蒸发源适合大面积式的生产，但其膜厚均勻性仍不佳，且其蒸镀材料利用率仍偏低。
技术实现思路
鉴于所指出的各种缺陷，为因应大面积且大量生产制程的需求，本专利技术提出一种蒸发源装置，较佳地适用在大面积的基板制作，能够显着的提高镀膜的均勻性及蒸镀材料的利用率。根据上述构想，本专利技术提出一种蒸发源装置。该蒸发源装置包含坩锅及喷嘴盖体， 坩锅具有一第一容置空间及第二容置空间系容纳不同或相同的蒸镀材料，借由辐射加热源加热坩锅使蒸镀材料的分子蒸发，坩锅配置成上方开口的筒状结构，筒状结构为圆形、长方形或方形。喷嘴盖体设置于坩锅的上方，具有一第一斜孔喷嘴及一第二斜孔喷嘴，第一斜孔喷嘴及第二斜孔喷嘴连接于该坩锅，喷嘴盖体具有嵌合部，可供该坩锅一端筒壁嵌入结合喷嘴盖体，斜孔喷嘴与喷嘴盖体的中心线形成一夹角。承接上述，本专利技术提供一种蒸发源装置，其包含一坩锅，具有一第一容置空间及第二容置空间；以及一喷嘴盖体，设置于该坩锅的开口处，具有一第一斜孔喷嘴及一第二斜孔喷嘴，该第一斜孔喷嘴及该第二斜孔喷嘴分别连接于该一第一容置空间及该第二容置空间。所述的蒸发源装置，其特征在于该坩锅为一筒状结构，该筒状结构为圆形或方形，该喷嘴盖体具有一嵌槽，该坩锅的该开口处的筒壁可嵌合入该嵌槽。所述的蒸发源装置，其特征在于该第一斜孔喷嘴的中心线与该喷嘴盖体的中心线之间具有一第一夹角。所述的蒸发源装置，其特征在于该夹角为3 40度角，该夹角为5 20度角，该夹角为8 15度角。所述的蒸发源装置，其特征在于该第二斜孔喷嘴与该喷嘴部的中心线之间具有一第二夹角。所述的蒸发源装置，其特征在于该第二夹角为3 40度角，该第二夹角为5 20 度角，该第二夹角为8 15度角。所述的蒸发源装置，其特征在于该第一斜孔喷嘴的轴线相交于该第二斜孔喷嘴的轴线。本专利技术还提供一种蒸发源装置，其包含一坩锅，具有一第一容置空间及第二容置空间；以及一喷嘴盖体，具有一嵌合部，该喷嘴盖体经由该嵌合部而与该坩锅的一开口卡固连接，该喷嘴盖体并具有数个第一斜孔喷嘴及数个第二斜孔喷嘴。所述的蒸发源装置，其特征在于该嵌合部具有一阶梯状的套接段，该嵌合部具有一凹设的嵌槽。本专利技术还提供一种蒸发源装置，其包含一坩锅，其中容纳有一蒸镀材料；以及一喷嘴盖体，卡固于该坩锅的开口处，具有一第一斜孔喷嘴以及一第二斜孔喷嘴， 该第一斜孔喷嘴及该第二喷嘴分别连接于该坩锅。由上述可知，本专利技术提供的蒸发源装置，在大面积的基板制作时，提高蒸镀物的均勻性及蒸镀材料的利用率。附图说明图1是显示本专利技术的线性蒸发源装置的坩锅剖面图；图2是显示本专利技术第一实施例的线性蒸发源装置的喷嘴盖体剖面图；图3a是显示本专利技术第一实施例的具有线性双蒸发源装置的坩锅与喷嘴盖体结合的剖面图；图北是显示本专利技术第一实施例的具有线性单一蒸发源装置的坩锅与喷嘴盖体结合的剖面图；图4是显示图3a的A-A，线的剖面图；图5是显示图3a的A-A，线的剖面图；图6是显示本专利技术第二实施例的线性蒸发源装置的喷嘴部剖面图；图7是显示本专利技术第二实施例的线性蒸发源装置的坩锅与喷嘴盖体结合的剖面图；图8是显示本专利技术第三实施例的线性蒸发源装置的喷嘴盖体剖面图；及图9是显示本专利技术第三实施例的线性蒸发源装置的坩锅与喷嘴盖体结合的剖面图。10 坩锅20、40、50 喷嘴盖体30、30，容置空间60、60，蒸镀材料100 线性蒸发源装置201、401、501 本体202、402、502 盖唇203 嵌槽204、404、504 斜孔喷嘴204，、404，、504，斜孔喷嘴403、503 套接段具体实施方式本专利技术的实施例的详细描述如下，然而，除了该详细描述外，本专利技术还可以广泛地在其它的实施例施行。亦即，本专利技术的范围不受已提出的实施例的限制，而应以本专利技术提出的权利要求为准。再者，为提供更清楚的描述及更易理解本专利技术，图示内各部份并没有依照其相对尺寸绘图，某些尺寸与其它相关尺度相比已经被夸张；不相关的细节部份也未完全绘出，以求图示的简洁。图1是显示本专利技术的线性蒸发源装置的坩锅剖面图，图2是显示本专利技术第一实施例的线性蒸发源装置的喷嘴盖体剖面图，而图3a是显示本专利技术第一实施例的具有线性双蒸发源装置的坩锅与喷嘴盖体结合的剖面图，图北是显示本专利技术第一实施例的具有线性单一蒸发源装置的坩锅与喷嘴盖体结合的剖面图。本专利技术的线性蒸发源装置100可决定蒸镀材料60，60’的蒸发方向，该线性蒸发源装置100包含坩锅10及喷嘴盖体20。请参阅图 1，坩锅10系容纳蒸镀材料60，60’，借由辐射加热源加热坩锅10使蒸镀材料60，60’的分子蒸发，坩锅10配置为上方开口的筒状结构，筒状结构为圆形、长方形或方形。请参阅图2，第一斜孔喷嘴204可为可调节一第一蒸镀材料60’喷出方向的任何构造，第一斜孔喷嘴204与喷嘴盖体20的中心线L形成一第一夹角θ为3 40度角，以所蒸镀薄膜的均勻性最佳即可蒸镀的范围最大做选择，其较佳角度为5 20度角，亦或者更佳角度为8 15度角。第二斜孔喷嘴204’可为可调节一第二蒸镀材料60喷出方向的任何构造，第二斜孔喷嘴204’与喷嘴盖体20的中心线L形成一第二夹角θ ’为3 40度角，以所蒸镀薄膜的均勻性最佳即可蒸镀的范围最大做选择，其较佳角度为5 20度角，亦或者更佳角度为8 15度角。且第一斜孔喷嘴的轴线相交于第二斜孔喷嘴的轴线。请参阅图3a，本专利技术的线性蒸发源装置100可决定蒸镀材料60，60’的蒸发方向， 线性蒸发源装置100包含坩锅10及喷嘴盖体20。喷嘴盖体20由本体201、盖唇202、第一斜孔喷嘴204及第二斜孔喷嘴204’所组成，本体201具有可以向下结合的盖唇202，盖唇 202下端凹设的嵌槽203可供坩锅10上端筒壁嵌入结合喷嘴盖体20，第一斜孔喷嘴204与第二斜孔喷嘴204’连接于坩锅10，如此即形成线性蒸发源装置100。而单一蒸发源的状况则揭示在图北中，即坩锅10之中只有一个用来容纳蒸镀材料60的容置空间30。图4及图5是图3a本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种蒸发源装置，其包含：一坩锅，具有一第一容置空间及第二容置空间；以及一喷嘴盖体，设置于该坩锅的开口处，具有一第一斜孔喷嘴及一第二斜孔喷嘴，该第一斜孔喷嘴及该第二斜孔喷嘴分别连接于该一第一容置空间及该第二容置空间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李适维，邱振海，黄伟民，林清儒，
申请(专利权)人：绿阳光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]