一种辅助定位装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术揭露了一种辅助定位装置，所述辅助定位装置包括支架，固定在所述支架上的投影装置及位于所述投影装置上方的点光源，所述投影装置包括一透明投影板，所述透明投影板上贴有不透光的黑色薄膜，在宏观目检的过程中，所述点光源照射在所述透明投影板上并投射到待目检的晶片上，在所述待目检的晶片上留下阴影区，在宏观目检的过程中可利用所述的阴影区来调整透明投影板与晶片的平行，同时还可将所述阴影区作为参照物来辨认缺陷所在的位置，只需记录缺陷与所述阴影区的相对位置即可，从而简化了操作，提高了准确度。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种用于定义宏观可见缺陷所在的单元芯片位置的辅助定位装置。
技术介绍
由于硅片尺寸的不断增大和集成电路(IC)图形特征尺寸的急剧缩小，芯片结构更加复杂，缺陷密度对成品率的影响变得越来越突出。芯片生产的每道工序都可能机械或人为地引入缺陷和沾污。这类问题如果不及时发现并加以解决，就会导致生产线成品率大幅度下降。因此，在目前的出货流程中，需要对晶片的正面进行宏观目检，以便及时发现晶片上的一些明显缺陷。但是由于晶片是在机台内部封闭环境下进行观察，因此需要在宏观目检时就要记录缺陷所在的位置。由于每片晶片上通过行和列划分成了很多的芯片单元，目前定位缺陷位置的方法通常是从晶片边缘向中心点数，记录缺陷所在的行数和列数。如图1所示，假设图1中晶片100上有一个宏观可见的缺陷000，则按照目前所使用的记录该缺陷位置的方法为：从晶片100边缘向中心点数，其所在的位置为第7行与第17列的交界处。然而，由于宏观目检时没有任何的辅助辨认设备，因此在确认缺陷位置时需要人为辨认其所在的行和列，而现阶段的NROM产品，一片晶片上有大于600个芯片单元，很容易在辨认时发生错误。
技术实现思路
本技术提供一种辅助定位装置，以解决在晶片宏观目检的过程中，现有的缺陷定位完全靠人为辨认，极易发生错误的问题。为解决上述问题，本技术提出一种辅助定位装置，所述辅助定位装置 包括支架，固定在所述支架上的投影装置及位于所述投影装置上方的点光源，所述投影装置包括一透明投影板，所述透明投影板上贴有不透光的黑色薄膜。可选的，所述支架包括固定支架以及固定在所述固定支架上的可拆卸支架。可选的，所述可拆卸支架包括顶部横杆、环形轨道及连接顶部横杆与环形轨道的三根立杆。可选的，所述三根立杆的位置在所述环形轨道的半圆范围内。可选的，所述投影装置还包括承托台及设置于所述承托台底部的滚珠。可选的，所述透明投影板放置于所述承托台内。可选的，所述透明投影板的形状为圆片状，所述承托台为一圆环柱体结构。可选的，所述承托台内设置有环形台阶。可选的，所述环形台阶的外径大于等于所述透明投影板的直径，所述环形台阶的内径小于所述透明投影板的直径。可选的，所述承托台的边缘具有立柱。-->可选的，所述透明投影板的材质为透明玻璃或透明塑料。可选的，所述透明投影板的大小相对于所述晶片是按比例缩小的。与现有技术相比，本技术所提供的辅助定位装置包括支架，固定在所述支架上的投影装置及位于所述投影装置上方的点光源，所述投影装置包括一透明投影板，所述透明投影板上贴有不透光的黑色薄膜，在宏观目检的过程中，所述点光源照射在所述透明投影板上并投射到待目检的晶片上，在所述待目检的晶片上留下阴影区，在宏观目检的过程中可利用所述的阴影区来调整透明投影板与晶片的平行，同时还可将所述阴影区作为参照物来辨认缺陷所在的位置，只需记录缺陷与所述阴影区的相对位置即可，从而简化了操作，提高了准确度。附图说明图1为现有的晶片缺陷定位方式示意图；图2为本技术提供的辅助定位装置的原理图；图3为本技术实施例提供的辅助定位装置的剖视图；图4为本技术实施例提供的辅助定位装置的可拆卸支架底部环形导轨的示意图；图5A为本技术实施例提供的辅助定位装置中的投影装置的剖视图；图5B为本技术实施例提供的辅助定位装置中的承托台的俯视图；图5C为本技术实施例提供的辅助定位装置中的透明投影板的俯视图；图6为使用本技术所提供的辅助定位装置定位缺陷的示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术提出的辅助定位装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本技术实施例的目的。本技术的核心思想在于，提供一种辅助定位装置，以使宏观目检过程中，晶片的缺陷定位有一个参照物，在辨认缺陷的位置时可以只记录缺陷相对于所述参照物的位置即可，从而简化了操作程序，提高了缺陷定位的准确度。请参考图2，图2为本技术提供的辅助定位装置的原理图，如图2所示，本技术提供的辅助定位装置的原理为：在宏观目检的过程中，点光源400照射到透明投影板310上，再投射到待目检的晶片100上，调整透明投影板310的位置使透明投影板310与晶片100平行，由于透明投影板310上贴有不透光的黑色薄膜311，因而在待目检的晶片100上留下阴影区，在辨认晶片上的缺陷位置时可以只记录缺陷与所述阴影区的相对位置即可，而不用从晶片的边缘向中心数缺陷所在的行数和列数。请继续参考图3至图4，其中，图3为本技术实施例提供的辅助定位装置的剖视图，图4为本技术实施例提供的辅助定位装置的可拆卸支架底部环形导轨的示意。如图3所示，该辅助定位装置包括支架200，固定在所述支架200上的投影装置300及位于所述投影装置上方的点光源400，所述投影装置300包括一透明投影板310，所述透明投影-->板310上贴有不透光的黑色薄膜311。所述支架200包括固定支架210以及可拆卸支架220，所述固定支架210与目检机台顶端500连为一体，所述可拆卸支架220通过螺钉230与所述固定支架210相连。所述可拆卸支架220的底部为一圆环形的导轨222，如图4所示。所述圆环形导轨222通过三根立杆221与可拆卸支架220的顶部横杆223相连，所述 三根立杆221的位置在所述环形轨道222的半圆范围内，以使所述投影装置300能放入所述环形导轨222上。请继续参考图5A至图5C，其中，图5A为本技术实施例提供的辅助定位装置中的投影装置的剖视图，图5B为本技术实施例提供的辅助定位装置中的承托台的俯视图，图5C为本技术实施例提供的辅助定位装置中的透明投影板的俯视图，如图5A至图5C所示，所述投影装置包括透明投影板310，承托台320及设置于所述承托台320底部的滚珠321，所述透明投影板310放置于所述承托台320内，所述承托台320置于所述可拆卸支架220的环形轨道222上，所述设置于承托台320底部的滚珠321接触所述环形轨道222，并可沿所述环形轨道222滑动。所述透明投影板310为圆片状的透明玻璃，其大小相对于待宏观目检的晶片是按比例缩小的，且其上面贴有12个不透光的黑色薄膜311，其中黑色薄膜A至C用于宏观目检过程中确保透明投影板310与晶片100平行，黑色薄膜1至9作为记录缺陷位置的参照物。所述承托台320为一圆环柱体结构，其内部设有一环形台阶323，所述环形台阶323的外径大于等于所述透明投影板310的直径，所述环形台阶323的内径小于所述透明投影板310的直径，以使所述透明投影板310能放在所述环形台阶323上。所述承托台320的边缘还设置有立柱322，在宏观目检的过程中通过拨动该立柱322可使所述滚珠321在所述环形轨道222上滑动，从而使透明投影板310旋转，通过调整所述透明投影板310上的黑色薄膜A、B、C分别与晶片100最左、最右的第一个完整芯片单元、晶片凹槽对齐以保证透明投影板310和晶片100平行。在本技术的一个具体实施例中，所述透明投影板的材质为透明玻璃，而然应该认识到，所述透本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辅助定位装置，用于辅助定位晶片上的缺陷的位置，其特征在于，包括支架，固定在所述支架上的投影装置及位于所述投影装置上方的点光源，所述投影装置包括一透明投影板，所述透明投影板上贴有不透光的黑色薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种辅助定位装置，用于辅助定位晶片上的缺陷的位置，其特征在于，包括支架，固定在所述支架上的投影装置及位于所述投影装置上方的点光源，所述投影装置包括一透明投影板，所述透明投影板上贴有不透光的黑色薄膜。2.如权利要求1所述的辅助定位装置，其特征在于，所述支架包括固定支架以及固定在所述固定支架上的可拆卸支架。3.如权利要求2所述的辅助定位装置，其特征在于，所述可拆卸支架包括顶部横杆、环形轨道及连接顶部横杆与环形轨道的三根立杆。4.如权利要求3所述的辅助定位装置，其特征在于，所述三根立杆的设置位置在所述环形轨道的半圆范围内。5.如权利要求1所述的辅助定位装置，其特征在于，所述投影装置还包括承托台及设置在所述承托台底部的滚珠。6.如权利要求5所述的辅...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘蓓蓓，方明海，
申请(专利权)人：武汉新芯集成电路制造有限公司，中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：实用新型
国别省市：83[中国|武汉]