显影液浓度的控制系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种显影液浓度的控制系统，包括补正槽、定量泵、使用槽和化学品供应装置；所述补正槽通过定量泵与使用槽连通；所述使用槽上连接有化学品供应装置。本实用新型专利技术的显影液浓度的控制系统通过定量供应的方式向使用槽中补充高浓度显影液，每个固定的处理基板数量就补充预先设计好的补充量；可以有效降低显影液的消耗量，同时显影性能仍然保持稳定。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机发光器件湿刻法制作电极图形时药液浓度的控制系统，尤其涉 及显影液的一种浓度控制系统。
技术介绍
已有技术有机发光器件电极图形制造光刻胶显影中的四甲基氢氧化铵(TMAH) 等溶液作为显影液使用。这样的显影液，被广泛用在湿刻法制作图形基板中，为了得到稳定 的浓度，一般采用溢流方式对显影液进行补充。可是，溢流方式每片基板的补充量远大于消耗量，造成显影液用量较大，成本较 高。在使用过程中显影性能实际与其中的碱浓度、碳酸盐浓度、光刻胶浓度相关。碱浓度随 着使用与光刻胶反应而降低；显影液与空气中的二氧化碳起反应，碳酸盐浓度上升；光刻 胶浓度同时随之上升。为了保证显影后图形精度，同时较少消耗显影液，根据三种主要成分 的浓度变化，对其中的碱浓度有必要进行控制管理。
技术实现思路
本技术的目的是对显影液浓度进行控制，使其保持在预先设定的范围内，使 显影性能稳定，并且较少消耗显影液。本技术的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种显影液浓度的控制系 统，包括补正槽、定量泵、使用槽和化学品供应装置；所述补正槽通过定量泵与使用槽连通； 所述使用槽上连接有化学品供应装置。所述使用槽上连接有化学本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：翟宏峰，
申请(专利权)人：彩虹显示器件股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：61