真空进样室制造技术

提供一种可防止真空变形的真空进样室。真空进样室包括第一腔室、第二腔室及上盖。第一腔室包括第一底板和从第一底板垂直延伸的四个第一侧壁，在四个第一侧壁中的相互对置的两个第一侧壁上，形成有用于基板的搬入及搬出的第一狭槽。第二腔室包括第二底板和从第二底板垂直延伸的四个第二侧壁，并且，该第二腔室以使其呈开口状的上部位于第一腔室侧的方式同第一腔室结合。在四个第二侧壁中的相互对置的两个第二侧壁上，形成有用于基板的搬入及搬出的第二狭槽。第二腔室包括第一加强肋，其从形成有第二狭槽的两个第二侧壁上端向内侧方向延伸。上盖覆盖第一腔室的呈开口状的上部。由此，可以最大限度地防止层叠的单位腔室之间的压力差所导致的真空变形。

Vacuum sampling room

A vacuum sampling chamber that prevents vacuum deformation is provided. The vacuum sampling chamber comprises a first chamber, a second chamber and an upper cover. The first chamber includes a first plate and a first side wall extending from the four vertical to the first floor, two first side wall opposite to each other in four of the first side wall on the formation of the first slot is used to move into and out of the substrate. The second chamber includes a second base plate and four second side walls extending perpendicularly from the second base plate, and the second chamber is joined with the first chamber in an open manner in the upper portion of the first chamber side. Two the second side wall opposite to each other in four of the second side wall on the form for the second slot and move out of the move into the substrate. The second chamber includes a first reinforcing rib, which extends inward from the upper end of the formation of two second side walls have second slots. The upper cover covers an opening of an upper part of the first chamber. As a result, the vacuum deformation caused by the pressure difference between the unit chambers of the stack can be prevented to the maximum extent.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空进样室(load lock chamber，也称作“负荷固定室”或“上/ 下料腔”)，更详细地说，涉及在执行大面积被处理基板的工艺处理前后，用于装载及卸载被处理基板的真空进样室。
技术介绍
一般而言，在制造液晶显示装置、太阳能电池等产品时，需要执行在玻璃基板等被 处理基板上沉积各种薄膜的工序，以及对已沉积的薄膜进行构图处理的工序等各种制造工 序，而这些工序在向相应工序的执行提供最佳条件的处理室中完成。尤其在最近，将多个 处理室配置成群结构，以便在短时间内能够处理多个基板的基板处理系统正在得到广泛应用。这样的基板处理系统包括多个处理室，执行化学气相沉积工艺；真空进样室 (loadlock chamber)，在基板进入处理室之前，构造可使基板进入处理室的环境；传送室 (transfer chamber)，设置有机械手，将真空进样室内的基板移送至处理室，或者将处理室 内的基板移送至真空进样室。通常，处理室在不同于外部大气环境的、高温低压环境下对基板进行工艺处理。因 此，在基板从外部搬入到处理室之前，或者在基板从处理室搬出到外部之前，真空进样室提 供与处理室的环境、或本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空进样室，其特征在于，包括：第一腔室，包括第一底板和从所述第一底板垂直延伸的四个第一侧壁，在所述四个第一侧壁中的相互对置的两个第一侧壁上，形成有用于基板的搬入及搬出的第一狭槽；第二腔室，包括第二底板和从所述第二底板垂直延伸的四个第二侧壁，并且，该第二腔室以使其呈开口状的上部位于所述第一腔室侧的方式同所述第一腔室结合，在所述四个第二侧壁中的相互对置的两个第二侧壁上，形成有用于基板的搬入及搬出的第二狭槽，还包括从形成有所述第二狭槽的两个第二侧壁的上端向内侧方向延伸的第一加强肋；以及上盖，覆盖所述第一腔室的呈开口状的上部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：李敦熙，金范城，河周一，马熙铨，金东建，卢东珉，
申请(专利权)人：TES股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]