本发明专利技术涉及一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板处理装置。作为基板处理装置的研磨装置具有：对半导体晶片(W)进行研磨的多个研磨部(3a、3b)；和搬运晶片(W)的摆动传送装置(7)。摆动传送装置(7)具有：把持晶片(W)的晶片把持机构(112)；使晶片把持机构(112)沿着研磨部(3a)的框体的框架(102)上下移动的上下移动机构(104、106)；以及，以与框架(102)邻接的轴为中心使晶片把持机构(112)转动的转动机构(108、110)。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种在上述基板处理装置中使用的药液处理装置。
技术介绍
近年，随着半导体设备的高集成化的发展，电路的配线越来越微细化，配线间距离 也变得越来越小。尤其在线宽为0. 5μπι以下的光刻的情况下，由于焦点深度变浅，因此需 要步进曝光装置(stepper)的成像面的平坦度。作为使半导体晶片的表面平坦化的单元之 一，已知进行化学机械研磨(CMP)的研磨装置。这种化学机械研磨(CMP)装置具备在上面具有砂布的研磨台和顶圈(top ring) 0 而且，在研磨台和顶圈之间隔设研磨对象物(晶片)，边向砂布的表面供给研磨液(料浆 (slurry))，边通过顶圈将研磨对象物按压向研磨台，从而将研磨对象物的表面研磨成平坦 且镜面状。在以这种研磨装置为代表的基板处理装置中，被要求提高基板处理工序的生产节 拍时间。另外，最近，期望能够容易地进行维护作业的基板处理装置。在上述基板处理装置中，为了搬运基板而使用有基板搬运装置，但被要求缩短这 些基板搬运装置的生产节拍时间而提高基板处理工序整体的生产节拍时间。而且，还期望 减少这些基板搬运装置的部件数量而使其构造简单，实现成本降低。另外，在基板处理装置中，为了在把持着基板的状态下进行各自的处理而在各部 设置有基板把持装置。在以往的基板把持装置中存在的问题为，当基板的大小不同时，难以 可靠地把持基板。而且，在上述的基板处理装置中使用各种药液，为了将这些药液供给到基板处理 装置的各部而设置药液供给装置。关于这种药液供给装置，要求减小其设置空间而实现成 本降低，并且要求提高维护的作业性。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述现有技术的问题点而进行的，其第1目的是提供一种能够提高 基板处理工序的生产节拍时间的基板处理装置。另外，本专利技术第2目的是提供一种容易进行维护作业的基板处理装置。而且，本专利技术第3目的是提供一种能够减少部件数量而使其构造简单、实现成本 降低的基板搬运装置。另外，本专利技术第4目的是提供一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板 搬运装置。而且，本专利技术第5目的是提供一种能够可靠把持基板的基板把持装置。另外，本专利技术第6目的是提供一种能够使减小设置空间而实现成本降低并且能够 提高维护的作业性的药液供给装置。根据本专利技术的第1方式，提供一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板 处理装置。该基板处理装置具有对基板进行规定的处理的多个处理部；和在上述多个处 理部之间搬运上述基板的基板搬运机构。上述基板搬运机构具有把持上述基板的基板把 持机构；沿着上述多个处理部中的1个处理部的框体的框架使上述基板把持机构上下移动 的上下移动机构；以及，以上述框架为中心或以与上述框架邻接的轴为中心使上述基板把 持机构转动的转动机构。这种基板搬运机构不需要像以往的搬运机器人那样使臂伸缩，而能够由上下移动 机构、转动机构以及基板把持机构构成，所以能够使基板搬运机构的结构简化，并能够以较 小负载进行驱动。因此，基板的搬运被加速，基板处理工序的生产节拍时间提高。另外，由 于利用研磨部等处理部的框架而构成基板搬运机构，所以不需要臂的伸缩空间，能够使基 板搬运机构小型化而减小其设置面积。另外，能够提高基板搬运机构的刚性。根据本专利技术的第2方式，提供一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板 处理装置。该基板处理装置具有对基板进行第1处理的第1处理部；将由上述第1处理部 处理了的基板反转的反转机；以及，对由上述反转机反转了的基板进行第2处理的第2处理 部。上述反转机具有把持上述基板的把持部；反转机构，将通过上述把持部把持的基板反 转；以及，临时放置部，可上下移动地配置在上述把持部的下方，并保持通过上述反转机构 反转了的基板。由于这种临时放置部能够利用为搬运基板时的缓冲，所以能够提高基板处 理工序的生产节拍时间。上述基板处理装置还可以具有基板搬运机构，该基板搬运机构在上述第1处理部 或上述第2处理部和上述反转机的上述把持部或上述临时放置部之间交接上述基板。根据本专利技术的第3方式，提供一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板 处理装置。该基板处理装置具有对基板进行规定的处理的多个处理部；和在上述多个处 理部之间搬运上述基板的基板搬运机构。上述基板搬运机构具有水平搬运机构，在将上述 基板保持为水平的状态下，沿着与该基板的表面平行的一个方向在规定的处理部之间搬运 上述基板；和垂直搬运机构，以跳过上述规定的处理部的方式，在将上述基板保持为垂直的 状态下沿着上述一个方向搬运上述基板。根据这种基板处理装置，能够不受来自某个处理部的污染的影响，而以洁净的状 态将基板搬运到其他处理部。另外，由于水平搬运机构的搬运和垂直搬运机构的搬运能够 以不同的路径进行，所以能够抑制基板搬运机构中的基板滞留。因此，基板处理工序的生产 节拍时间提高。根据本专利技术的第4方式，提供一种能够容易地进行维护作业的基板处理装置。该 基板处理装置具有对基板进行规定的处理的多个处理部。上述多个处理部中的至少1个具有架体；固定上述架体的固定脚；以及具有可在拉出方向上转动的主辊、长度可调整的脚 轮脚。根据这种结构，能够容易地将多个处理部中的至少1个从其他处理部取下，维护作业 变得容易。上述脚轮脚优选具有与邻接的部件抵接的边托辊。另外，上述架体也可以具有突 起部，该突起部配置在与该架体邻接设置的沿着上述拉出方向延伸的一对导向体之间。根据本专利技术的第5方式，提供一种能够容易地进行维护作业的基板处理装置。该 基板处理装置将对基板进行规定的处理的多个单元收容在架体上。上述架体具有使安装 于上述单元的脚上的滑块滑动的、例如由树脂构成的板；和沿着拉出方向对在上述板上滑 动的滑块进行导向的导向体。根据这种结构，能够容易地将对基板进行规定的处理的单元 从基板处理装置取下，维护作业变得容易。根据本专利技术的第6方式，提供一种能够减少部件数量而使其构造简单、实现成本 降低的基板搬运装置。该基板搬运装置具有导向载物台，用于对保持基板的顶圈进行保 持；推动器载物台，相对于上述导向载物台可上下移动；气缸，具有使上述导向载物台上下 移动的滚珠花键机构；以及，直线导轨，进行上述导向载物台的定心。根据这种结构，能够减 少基板搬运装置的部件数量而使其构造简单，能够实现成本降低。根据本专利技术的第7方式，提供一种能够提高基板处理工序的生产节拍时间的基板 搬运装置。该基板搬运装置具有多个夹紧单元，具有隔着基板的中心而相对、且把持上述 基板的外周部的一对把持部；开闭机构，使上述一对把持部在相互接近的方向或相互分离 的方向上开闭；旋转机构，使上述把持部以沿着上述夹紧单元的排列方向的轴为中心旋转； 上下移动机构，使上述多个夹紧单元上下移动；以及移动机构，使上述多个夹紧单元沿着上 述夹紧单元的排列方向移动。根据这种结构，能够通过多个夹紧单元同时搬运多个基板。另外，在通过基板搬运 装置搬运基板结束后，将把持部送出到处理部的外部，由此能够边在处理部的内部进行处 理边使基板搬运装置移动到所期望的待机位置。因此，能够加快处理部中的处理的开始时 间，能够提高生产节拍时间。根据本专利技术的第8方式，提供一种基板处理装置，其具有对基板进行规定的处理 的处理部；和将基板向上述处理部搬入以及搬送的上述基板搬运装置。上述处理部具有 本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种基板处理装置，具有对基板进行规定的处理的多个处理部，其特征在于，上述多个处理部中的至少１个具有：架体；固定上述架体的固定脚；以及脚轮脚，长度可调整，具有可在拉出方向上转动的主辊。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：高桥信行，西田弘明，鸟居弘臣，矶部壮一，曾根忠一，小菅隆一，金子浩之，外崎宏，三仓崇夫，小川贵弘，杉田谦一，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：JP
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