激光退火设备中的光学处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术是关于激光退火设备中光学处理装置的研制，该装置也可应用于其他相关领域。其特征在于，有两个可替换组件和一个可变光阑相结合，每个组件都有多套系统可供选用，且第一可替换组件和可变光阑可通过计算机统一控制。通过替换两个组件和对第一可替换组件中透镜位置以及可变光阑的调节，用户可以自主选择光斑的形状为矩形或正方形，并对它们的大小在较大范围内进行分档及连续调节，提高了生产效率，也提高了整个系统的稳定性和易用性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于一种激光退火设备中的光学处理装置，特别是涉及该光学处理装置中 调节环节的设计及具体实施方案。
技术介绍
在经济全球化、信息化的今天，IC产业无疑是影响国家经济、政治和国防安全的战 略必争产业。目前，世界IC装备产业已成为IC产业的驱动力和重要组成部分。在过去几十 年中，集成电路制造遵循莫尔定律，经历了飞速的增长。不过集成电路制造的等比例缩小， 也带来了极小尺寸工艺技术方面的极大困难与挑战。在纳米级CMOS器件中，超浅和低电阻率的结对抑制短沟道效应，获得更好的器件 性能起着越来越重要的作用。由于氧化增强扩散与瞬时增强扩散以及固溶度的限制，传统 的快速热退火(RTA)已很难满足32nm及以下各技术节点的要求。为了解决这个问题，目 前正在大量研究一些新的退火技术来替代RTA，如闪速灯光退火(Flash Lamp Annealing 或FLA)、固相激光脉冲退火(Solid-PhaseLaser Spike Anneal ing或LSA)、液相激光脉 冲退火(Liquid-Phase LaserThermal Process 或 LTP)，以及低温固相外延(Solid-Pha本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于激光退火的光学处理装置，其特征在于包括：扩束系统，用于对来自一个光源（１０１）的激光光束进行扩束；匀化系统，用于使所述扩束系统输出的光束能量均匀；边缘处理系统，用于得到所需的边缘锐利的光斑；投影系统，用于将匀化的光斑投射到加工面（１０８）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄威，尉昊赟，李岩，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：发明
国别省市：11