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一种化合物的应用制造技术

技术编号:6036106 阅读:222 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及医学免疫学领域,公开了式I所示化合物在制备诱导T细胞分化为FoxP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物中的应用。本发明专利技术所述式I化合物在抑制T细胞增殖以及诱导T细胞分化为FoxP3+CD4+调节性T细胞中的作用显著,用其制备的诱导T细胞分化为FoxP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物能够用于自身免疫疾病和移植排斥反应,

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及医学免疫学领域,具体涉及一种化合物在制备诱导T细胞分化为 FoxP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物中的应用。
技术介绍
T细胞是一类表达T细胞受体和⑶3复合物的淋巴细胞,来源于胚肝或骨髓的原T 细胞,在胸腺微环境中分化、发育,成熟后迁移至外周血,继而定居于外周淋巴组织,可介导 细胞免疫应答,并辅助机体针对T细胞依赖性抗原产生体液免疫应答。免疫应答是指机体免疫系统接受抗原刺激后,淋巴细胞特异性识别抗原,发生活 化、增殖、分化或失能、凋亡,进而发挥生物学效应的全过程。免疫应答最基本的生物学意义 是识别“自己”和“非己”,并清除“非己”抗原性物质,以保护机体免受抗原异物的侵袭。但 在某种情况下,免疫应答也可能对机体造成损伤,如自身免疫疾病和移植排斥反应。自身免 疫疾病,指机体对自身抗原发生免疫反应而导致自身组织损害所引起的疾病,它是由于机 体自身免疫耐受遭到破坏,导致T细胞过度活化、增殖引起的免疫功能异常;而移植排斥反 应是指在组织移植或器官移植中,受者接受供者的移植物后,引起受者的免疫系统与供者 的移植物发生免疫反应,损害受者机体正常机能。为了能有效治疗自身免疫疾病和避免移植排斥反应,目前在临床上普遍使用免疫 调节剂,如CsA、H(506、MMF等。但是这些物质在抑制T细胞活化和增殖的同时,也抑制了调 节性T细胞,而调节性T细胞对于诱导自身免疫耐受是至关重要的。调节性T细胞是T细 胞的一个亚群,它通过抑制效应性T细胞和效应性B细胞的活性,诱导自身免疫耐受,保护 组织器官不受自身免疫攻击而受到损伤。同时,调节性T细胞还限制针对病原性抗原免疫 应答过度所致的免疫损伤,对维持机体免疫动态平衡具有至关重要的作用。FoXP3+CD4+调节性T细胞是调节性T细胞中的一种,在自身免疫耐受和移植免疫耐 受的诱导和维持中具有重要作用。其中,FoxP3是R)xP3+⑶4+调节性T细胞的标志性分子, 属foxhead家族成员,组成性表达于R)xP3+⑶4+调节性T细胞,介导R)xP3+CD4+调节性T细 胞在胸腺的发育、外周表达及功能维持,并通过影响Th细胞的功能来调节机体免疫应答和 免疫耐受。FoXP3+CD4+调节性T细胞的数量下降,将导致免疫调节功能缺陷,诱发严重的自 身免疫疾病。因此,一种既能抑制T细胞增殖又能诱导R)xP3+⑶4+调节性T细胞分化的药物,对 治疗自身免疫疾病和避免移植排斥反应具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术提供了一种具有式I所示结构的化合物在制备诱导T细胞分化为 FoxP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物中的应用。本专利技术所述式I化合物构如下权利要求1.式I所示化合物在制备诱导T细胞分化为R)XP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞 增殖的药物中的应用,2.根据权利要求1所述应用,其特征在于,所述诱导T细胞分化为R)xP3+CD4+调节性T 细胞和抑制T细胞增殖的药物用于自身免疫疾病或移植排斥反应。3.根据权利要求2所述应用,其特征在于,所述自身免疫疾病为I型糖尿病、系统性红 斑狼疮、多发性硬化症或类风湿关节炎。4.根据权利要求2所述应用,其特征在于,所述移植排斥反应为组织移植排斥反应或 器官移植排斥反应。全文摘要本专利技术涉及医学免疫学领域,公开了式I所示化合物在制备诱导T细胞分化为FoxP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物中的应用。本专利技术所述式I化合物在抑制T细胞增殖以及诱导T细胞分化为FoxP3+CD4+调节性T细胞中的作用显著,用其制备的诱导T细胞分化为FoxP3+CD4+调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物能够用于自身免疫疾病和移植排斥反应,文档编号A61P29/00GK102068427SQ20111002670公开日2011年5月25日 申请日期2011年1月25日 优先权日2011年1月25日专利技术者朱波, 林治华, 王锐, 许雪青, 马正伟 申请人:林治华本文档来自技高网
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【技术保护点】
式Ⅰ所示化合物在制备诱导T细胞分化为FoxP3↑[+]CD4↑[+]调节性T细胞和抑制T细胞增殖的药物中的应用,***Ⅰ其中,式Ⅰ中R↓[1]为H、-CH↓[3]、-CH↓[2]CH↓[3]、-CH↓[2]OCH↓[3]或-CH↓[2]OCH↓[2]CH↓[2]OCH↓[3],R↓[2]为C↓[1]-C↓[4]的烷基。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林治华马正伟许雪青朱波王锐
申请(专利权)人:林治华
类型:发明
国别省市:85

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