单晶炉用石墨坩埚制造技术

本实用新型专利技术公开了一种单晶炉用石墨坩埚，由圆筒状的坩埚本体构成，其特征是：坩埚本体外表面形成有凸起和凹槽。所述凸起和凹槽为间隔均匀的设置在坩埚本体外。凹槽的深度为1—5mm。由于在坩埚的外表面形成有凹槽，因此增加了坩埚本体的外表受热面积。其中通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量、快速加热的目的。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种直拉硅单晶炉用石墨坩埚，适用于直拉硅单晶棒的制造，主要应用于大直径硅单晶棒的生产，属于石墨坩埚

技术介绍
随着经济全球化进程的加速和工业经济的迅猛发展，世界范围内的能源短缺和环境污染已成为制约人类社会可持续发展的两大重要因素。光伏发电因发电过程中无污染、 无噪音、维护简单、无需生产原料等优点而逐步显示出其发展空间和应用前景。太阳能电池用的单晶硅的制作是这个产业中重要的一个环节。单晶硅的制作一般采用直拉法的生产工艺，其制造过程主要分为以下几个阶段装多晶料、抽空、多晶硅熔化、颈及肩的生长、等直径生长、尾部晶体的生长和晶体冷却，其中大部分过程是吸热过程，即需要外部供给热量。 单晶炉中一般有一个石墨制的主发热体，在其两端通上直流电，产生热量，发热体处在吸热体的外面，热量是由外向内径向传导的。随着硅单晶直径的加大，单晶炉热场的尺寸变得越来越大，相应地，石墨坩埚的重量也大大增加。目前，使用的坩埚由于结构简单，存在着传热效率低、加热缓慢、加热时间长、能耗高等缺点。
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术的不足，在此提供一种单晶炉用石墨坩埚， 具有传热效率提高、加热迅速、减少加热时间短、节约能耗。本技术是这样实现的，构造一种一种单晶炉用石墨坩埚，由圆筒状的坩埚本体构成，其特征是坩埚本体外表面形成有向外的凸起和内凹的凹槽。根据本技术所述的单晶炉用石墨坩埚，其特征在于所述凸起和内凹的凹槽为间隔均勻的设置在坩埚本体外。根据本技术所述的一种单晶炉用石墨坩埚，其特征是凹槽的深度为1 一 5mm ο本技术的优点在于本技术通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量、快速加热的目的。附图说明图1是本技术所述的结构示意图图2是图1的俯视示意图其中1、坩埚本体，2、凸起，3、凹槽。具体实施方式为了克服现有技术的不足，本技术在此提供一种单晶炉用石墨坩埚，如图1 所示其中由圆筒状的坩埚本体1构成，并且在坩埚本体1外表面形成有向外的凸起2和内凹的凹槽3。由于在坩埚的外表面形成有上述凸起2和凹槽3，因此增加了坩埚本体1的外表受热面积。其中通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量、快速加热的目的。所述凸起2和凹槽3为间隔均勻的设置在坩埚本体1外。所述的凹槽3的深度为1 一5mm。权利要求1.一种单晶炉用石墨坩埚，由圆筒状的坩埚本体(1 )构成，其特征是坩埚本体(1) 外表面形成有向外的凸起(2)和内凹的凹槽(3)。2.根据权利要求1所述的单晶炉用石墨坩埚，其特征在于所述凸起(2)和内凹的凹槽(3)为间隔均勻的设置在坩埚本体(1)外。3.根据权利要求1所述的一种单晶炉用石墨坩埚，其特征是凹槽(2)的深度为1一5mm 。专利摘要本技术公开了一种单晶炉用石墨坩埚，由圆筒状的坩埚本体构成，其特征是坩埚本体外表面形成有凸起和凹槽。所述凸起和凹槽为间隔均匀的设置在坩埚本体外。凹槽的深度为1—5mm。由于在坩埚的外表面形成有凹槽，因此增加了坩埚本体的外表受热面积。其中通过增加石墨坩埚外表面积来提高传热面积，可使石墨坩埚的外表面积增加一倍，达到加大传热量、快速加热的目的。文档编号C30B15/10GK201933196SQ201120007880公开日2011年8月17日 申请日期2011年1月12日 优先权日2011年1月12日专利技术者周雅清 申请人:乐山凯亚达光电科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种单晶炉用石墨坩埚，由圆筒状的坩埚本体（　１　）构成，其特征是：坩埚本体（１）外表面形成有向外的凸起（２）和内凹的凹槽（３）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周雅清，
申请(专利权)人：乐山凯亚达光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：51