混浊介质成像制造技术

本发明专利技术涉及一种例如与光学乳房造影有关的对混浊介质的成像。公开了一种用于对混浊介质（２０）进行成像的设备，该设备包括：托架（２０），布置用于容纳混浊介质和匹配流体（２１）；一个或者多个辐射源（２４）；以及一个或者多个光电检测器（２５）。匹配流体是蒸汽，其中该匹配流体的一个或者多个光学属性与混浊介质的对应一个或者多个光学属性基本上匹配。在一个实施例中，匹配流体（２１）是包括至少两种成份的合成蒸汽。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种用于对混浊介质（１，２０）进行成像的设备，所述设备包括：　－托架（２０），布置用于容纳所述混浊介质和匹配流体（７，２１，５３）；　－一个或者多个辐射源（３，２４），用于照射所述混浊介质和所述匹配流体；　－一个或者多个光 电检测器（４，２５），用于测量所述辐射的强度；　其中所述匹配流体是蒸汽，而且所述匹配流体的一个或者多个光学属性与所述混浊介质的对应一个或者多个光学属性基本上匹配。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：MMJW范赫彭，MB范德马克，MC范比克，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]