基板传送装置、基板传送方法以及真空处理装置制造方法及图纸

一种使将基板以垂直状态传送的托架轻量化的基板传送装置。基板传送装置（１１）向以垂直状态传送平板状的基板（Ｗ）的托架（２３）交接基板，该基板传送装置（１１）具备转移机构（２２）。转移机构（２２）包括：具有矩形的框体的、能以沿水平方向延伸的转动轴（Ｌ）为中心转动的框架（３７）；设置在所述框架上，吸附所述基板（Ｗ）的多个吸垫（４６）；和使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动的驱动部（３５）。转移机构（２２）在框架处于水平状态的情况下通过多个吸垫将处于水平状态的基板（Ｗ）吸附，在将基板保持在框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的基板（Ｗ）交接至托架（２３）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基板传送装置、基板传送方法以及具备所述基板传送装置的真空处理装置O
技术介绍
以往，存在一种真空处理装置，其对用于液晶显示器等平面显示器的大型玻璃基 板实施例如通过阴极真空喷镀来形成薄膜等真空处理。近年来，作为这样的真空处理装置， 为了提高生产效率多会采用将基板向多个真空处理室逐次传送并连续处理的、所谓流线式 真空处理装置。另外，例如在专利文献1中公开了具备各个真空处理室和呈矩形框架状的 托架，该托架将基板以垂直竖立的状态传送至各个真空处理室。这样，由于托架将基板以垂 直竖立的状态传送到真空处理室，所以即使在基板被大型化的情况下也可以抑制真空处理 装置的设置空间的增大，同时还能够配置多个托架，从而提高生产效率。然而，在上述专利文献1中，在向托架交接基板的时候，自动传送机将储存在预定 位置的处理前的基板取来，将基板放置在倒为水平的状态(水平状态)的托架上。然后，在 将基板保持在托架上之后，通过转动机构使所述托架转动并直立，由此基板变为在垂直竖 立的状态(垂直状态)下被保持在托架上的状态。也就是说，在上述以往的构成中，托架在 水平状态和垂直状态之间转动。因此，为了降低托架本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板传送装置，向以垂直状态传送平板状的基板的托架交接所述基板，其特征在于，包括：框架，其具有矩形的框体，并能够以沿水平方向延伸的转动轴为中心转动；多个吸垫，其设置在所述框架上，吸附所述基板；和驱动部，其使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动，所述转移机构在所述框架处于水平状态的情况下通过所述多个吸垫吸附处于水平状态的所述基板，在将所述基板保持在所述框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的所述基板交接至所述托架。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：远山佳宏，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]