透明导电性构件的制造方法技术

本发明专利技术的课题是提供可廉价制造透光性及导电性优异的透明导电性构件的方法。透明导电性构件的制造方法，其包含：（ａ）在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷，形成含还原剂图案层的工序；其次，（ｂ）在上述含还原剂图案层上，把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布，通过上述还原剂与金属离子的接触，还原该金属离子，形成非电解镀敷催化剂层的工序；然后，（ｃ）在上述非电解镀敷催化剂层上，通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及作为在CRT、PDP、测定仪等显示部等上使用的透光性电磁波屏蔽构件 的及采用该方法得到的透明导电性构件。详细地说，本专利技术涉 及可廉价制造具有优异的透光性与电磁波屏蔽性的透明导电性构件的方法。
技术介绍
目前，作为CRT、PDP、液晶显示器、测定仪等各种显示装置的透光性电磁波屏蔽构 件、各种电子装置的透明电极、或透明面状发热体等的，提出了 把导电性金属网状物粘贴在透明基材上的方法。然而，采用该方法时，为了得到充分的电磁 波屏蔽效果，则产生全部显示画面亮度下降的问题。另外，提出了在透明基材上采用蒸镀或溅射等形成IT0等透明导电膜的方法(专 利文献1)。但是，采用该方法得到的透明导电性构件与透光性优异的金属网状物相比，导电性差。也还提出了在透明基材上采用镀敷或蒸镀等形成金属薄膜时，采用光刻加工形成 金属薄膜网状图案的方法(专利文献2)。但是，采用该方法得到的透明导电性构件，由于用 蚀刻法除去导电性优异的大部分金属，既浪费又成本升高。再有提出了在透明基材上用含非电解镀敷催化剂的膏印刷图案，在该方图案上采 用镀敷法形成金属薄膜的方法(专利文献3)。但是，该方法中使用的含非电本文档来自技高网...

【技术保护点】
透明导电性构件的制造方法，该方法是制造具有透明基材与导电性金属层的透明导电性构件的方法，其特征在于，包含下列工序（ａ）、（ｂ）及（ｃ）：（ａ）在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷，形成含还原剂图案层的工序；（ｂ）在上述含还原剂的图案层上，把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布，通过上述还原剂与金属离子的接触，还原该金属离子，形成非电解镀敷催化剂层的工序；（ｃ）在上述非电解镀敷催化剂层上，通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-11-13 2007-293872透明导电性构件的制造方法，该方法是制造具有透明基材与导电性金属层的透明导电性构件的方法，其特征在于，包含下列工序(a)、(b)及(c)(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷，形成含还原剂图案层的工序；(b)在上述含还原剂的图案层上，把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布，通过上述还原剂与金属离子的接触，还原该金属离子，形成非电解镀敷催化剂层的工序；(c)在上述非电解镀敷催化剂层上，通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。2.按照权利要求1中所述的透明导电性构件的制造方法，其中，上述还原剂是选自由 Sn(II)及Fe(II)组成的组中的金属的盐。3.按照权利要求2中所述的透明导电性构件的制造方法，其特征在于，上述金属的盐 选自由SnCl2、Sn(0H)2、及SnS04组成的组。4.按照权利要求1 3中任何一项所述的透明...

【专利技术属性】
技术研发人员：林宽之，后藤昌利，大塚廉太郎，
申请(专利权)人：世联株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]