透明导电性构件的制造方法技术

技术编号:5438056 阅读:246 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术的课题是提供可廉价制造透光性及导电性优异的透明导电性构件的方法。透明导电性构件的制造方法,其包含:(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成含还原剂图案层的工序;其次,(b)在上述含还原剂图案层上,把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布,通过上述还原剂与金属离子的接触,还原该金属离子,形成非电解镀敷催化剂层的工序;然后,(c)在上述非电解镀敷催化剂层上,通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及作为在CRT、PDP、测定仪等显示部等上使用的透光性电磁波屏蔽构件 的及采用该方法得到的透明导电性构件。详细地说,本专利技术涉 及可廉价制造具有优异的透光性与电磁波屏蔽性的透明导电性构件的方法。
技术介绍
目前,作为CRT、PDP、液晶显示器、测定仪等各种显示装置的透光性电磁波屏蔽构 件、各种电子装置的透明电极、或透明面状发热体等的,提出了 把导电性金属网状物粘贴在透明基材上的方法。然而,采用该方法时,为了得到充分的电磁 波屏蔽效果,则产生全部显示画面亮度下降的问题。另外,提出了在透明基材上采用蒸镀或溅射等形成IT0等透明导电膜的方法(专 利文献1)。但是,采用该方法得到的透明导电性构件与透光性优异的金属网状物相比,导电性差。也还提出了在透明基材上采用镀敷或蒸镀等形成金属薄膜时,采用光刻加工形成 金属薄膜网状图案的方法(专利文献2)。但是,采用该方法得到的透明导电性构件,由于用 蚀刻法除去导电性优异的大部分金属,既浪费又成本升高。再有提出了在透明基材上用含非电解镀敷催化剂的膏印刷图案,在该方图案上采 用镀敷法形成金属薄膜的方法(专利文献3)。但是,该方法中使用的含非电解镀敷催化剂 的膏昂贵,采用该昂贵的膏印刷图案的方法时,不涉及镀敷反应的催化剂不得不发生浪费, 既费功夫且成本又高。专利文献1 特许第2633340号公报专利文献2 特开2000-137442号公报专利文献3 特许第3895229号公报
技术实现思路
本专利技术要解决的课题本专利技术的课题是提供一种可廉价制造透光性及导电性优异的透明导电性构件的 方法。用于解决课题的手段本专利技术人等为了解决上述课题进行悉心探讨的结果发现,在透明基材上采用含还 原剂的油墨形成图案层后,在该图案层上涂布能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的溶 液,通过还原该金属离子,形成了已形成图案的非电解镀敷催化剂层,在该非电解镀敷催化 剂层上,通过镀敷处理,形成导电性金属层,可极廉价制造透光性及导电性优异的透明导电 性构件,完成本专利技术。S卩,本专利技术涉及下列⑴ (9)中所示的(1),该方法是制造具有透明基材与导电性金属层的透明导电性构件的方法,其特征在于,该方法包含下列工序(a)、(b)及(c)(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成含还原剂的图案层的工序;(b)在上述含还原剂的图案层上,把含有通过还原形成非电解镀敷催化剂的金属 离子的金属离子溶液进行涂布,通过上述还原剂与金属离子的接触,还原该金属离子,形成 非电解镀敷催化剂层的工序;(c)在上述非电解镀敷催化剂层上通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。(2)按照上述⑴中所述的,其中,上述还原剂是选自 由Sn(II)及Fe(II)组成的组中的金属盐。(3)按照上述(2)中所述的,其特征在于,上述金属的 盐选自由SnCl2、Sn (011)2、及SnS04来组成的组。(4)按照上述⑴ (3)中任何一项所述的,其特征在 于,含有通过还原形成非电解镀敷催化剂的金属离子的溶液,为选自由Ag、Au、Pd、Pt、及Rh 组成的组中的金属的盐的溶液。(5)按照上述(4)中所述的,其中,上述金属的盐的溶 液为Pd(II)盐或Ag⑴盐的溶液。(6)按照上述(5)中所述的,其特征在于,Pd(II)盐或 Ag(I)盐的溶液为选自由卩(1(12、?(181~2、?(1(0130)0)2、0130)(^§、六§而3、及柠檬酸银(I)组成 的组中的金属盐的水溶液。(7)按照上述⑴ (6)中任何一项所述的,其特征在 于,上述含还原剂的油墨含有粒状物。(8)按照上述⑴ (7)中任何一项所述的,其特征在 于,上述透明基材为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。(9)光滤波器(滤光器,optical filter),其采用按照上述(1) (8)中任何一 项所述的方法制造的透明导电性构件。(10)图像显示装置,其采用(9)中所述的光滤波器。专利技术效果按照本专利技术,为了在含形成图案的还原剂的油墨层上形成非电解镀敷催化剂层, 与采用导电性膏通过蚀刻法形成格子状导电性薄膜时或在形成昂贵的非电解镀敷催化剂 层后形成图案时相比,可不浪费昂贵的导电性膏或非电解镀敷催化剂,极廉价地制造透光 性及导电性优异的透明导电性构件。具体实施例方式本专利技术的,其特征在于,至少含有下列工序(a)、(b) 及(c)(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成含还原剂的图案层的 工序(含还原剂图案层形成工序);(b)在上述含还原剂图案层上,把含有通过还原形成非电解镀敷催化剂的金属离 子的金属离子溶液进行涂布,通过上述还原剂与金属离子的接触,还原该金属离子,形成非电解镀敷催化剂层的工序(非电解镀敷催化剂层形成工序);(c)在上述非电解镀敷催化剂层上通过镀敷处理形成导电性金属层的工序(导电 性金属层形成工序)。1.工序(a)含还原剂的图案层形成工序在本专利技术的工序(a)中,在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成 含还原剂的图案层。(1)透明基材作为本专利技术中使用的透明基材,可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸 丁二醇酯、聚萘乙二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯 异丁酸酯共聚物、酞酸 环己二甲醇 乙 二醇共聚物等聚酯类树脂,尼龙6等聚酰胺类树脂,聚丙烯、聚甲基戊烯等聚烯烃类树脂, 聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸类树脂,ABS树脂等苯乙烯类树 脂,三乙酰基纤维素等纤维素类树脂,酰亚胺类树脂,聚碳酸酯等构成的膜。其中,聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘乙二醇酯等聚酯类膜,由于透明性、耐热性好, 成本也便宜,使用是合适的,特别是聚对苯二甲酸乙二醇酯的膜是最合适的。对透明基板的厚度未作特别限定,通常为lOiim lOOOiim左右,优选50iim 500 u m左右的范围。当厚度过薄时,作为构件的强度过低,当过厚时从重量等考虑存在变成 不适用的倾向。(2)还原剂作为本专利技术中使用的还原剂,只要是与能形成非电解镀敷催化剂层的金属离子接 触,该金属离子还原成金属而自己引起氧化反应的物质即可,而未作特别限定,例如,可以 采用电化学性比Pb、Sn、Ni、Co、Zn、Ti、Cu等催化剂金属低的金属粒子,或Sn (II)、Fe (II) 的盐等。其中,优选的是采用选自由Sn(II)及Fe(II)组成的组的金属盐,优选的是采用 Sn(II)的盐。作为上述金属盐,可以举出氯化物、硫酸盐、草酸盐、醋酸盐等。更优选的可以举出 氯化物或硫酸盐。作为特别优选的金属盐,可以采用选自由SnCl2及SnS04组成的组中的金^rt. o(3)含还原剂的油墨作为本专利技术中使用的含还原剂的油墨(下面称作“含还原剂油墨”),除上述还原 剂外,还含有粘合剂树脂及溶剂。另外,在本专利技术的含还原剂的油墨中,除该粘合剂树脂及 溶剂外,还可根据需要配合有机或无机粒子等粒状物、交联剂、其他添加剂等。作为其他添 加剂,可以举出粘性调节剂、表面调节剂、分散剂等。(i)粘合剂树脂粘合剂树脂,是为了赋予上述油墨适于涂布方法的粘性,提高还原剂成分-透明 基材间结合力而配合的。当配合量过少时,含还原剂的图案层的粘合性降低,当过多时,在 非电解镀敷催化剂层形成后的镀敷处理工序,镀敷的析出性降低。作为粘合剂树脂的种类,例如,可以举出聚酯类树脂、丙烯本文档来自技高网...

【技术保护点】
透明导电性构件的制造方法,该方法是制造具有透明基材与导电性金属层的透明导电性构件的方法,其特征在于,包含下列工序(a)、(b)及(c):(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成含还原剂图案层的工序;(b)在上述含还原剂的图案层上,把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布,通过上述还原剂与金属离子的接触,还原该金属离子,形成非电解镀敷催化剂层的工序;(c)在上述非电解镀敷催化剂层上,通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-11-13 2007-293872透明导电性构件的制造方法,该方法是制造具有透明基材与导电性金属层的透明导电性构件的方法,其特征在于,包含下列工序(a)、(b)及(c)(a)在透明基材上通过含还原剂的油墨进行图案印刷,形成含还原剂图案层的工序;(b)在上述含还原剂的图案层上,把含有通过还原能形成非电解镀敷催化剂的金属离子的金属离子溶液进行涂布,通过上述还原剂与金属离子的接触,还原该金属离子,形成非电解镀敷催化剂层的工序;(c)在上述非电解镀敷催化剂层上,通过镀敷处理形成导电性金属层的工序。2.按照权利要求1中所述的透明导电性构件的制造方法,其中,上述还原剂是选自由 Sn(II)及Fe(II)组成的组中的金属的盐。3.按照权利要求2中所述的透明导电性构件的制造方法,其特征在于,上述金属的盐 选自由SnCl2、Sn(0H)2、及SnS04组成的组。4.按照权利要求1 3中任何一项所述的透明...

【专利技术属性】
技术研发人员:林宽之后藤昌利大塚廉太郎
申请(专利权)人:世联株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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