【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻对准中单幅封闭条纹相位提取方法,属于干涉测量范围。
技术介绍
近年来,纳米技术得到快速发展并已被广泛应用,正日益成为本世纪备受关注的 前沿领域。作为纳米技术的基础,纳米器件的制造对高分辨力光刻技术的需求越来越迫切。 另外,随着高集成度电路以及相关器件的研发,IC特征尺寸愈来愈小,对光刻分辨力要求也 越来越高。如何提高光刻的分辨力成为业界关注的热点问题。光刻对准技术作为光刻的三 大核心技术之一,是影响光刻分辨力的重要因素之一,提高对准精度是提高光刻分辨力的 一个重要途径。基于光栅调制空间相位成像的纳米级对准方法,理论上能达到较高的对准 精度且具有最好的抗干扰能力,条纹图像空间相位差信息的提取是该方法一个必需且重要 的环节,也是直接影响系统对准精度和效率的关键因素。针对光学干涉条纹图像,相移法、归一化相位跟踪(RPT)方法、傅里叶变换方法、 窗口傅里叶变换方法等是几种比较典型的相位分析方法。其中相移法通过几幅与原图像有 关的相移图像来提取相位信息,算法简单、速度快,然而相移过程常常引入的较大误差及实 际应用中难以获取相移图像的弱点限制了该方法的广 ...
【技术保护点】
一种单幅封闭条纹相位提取方法,其特征在于包括:图像滤波、相位提取和移除符号不确定性三个步骤,其中图像滤波与相位提取可同时进行,所述的图像滤波与相位提取步骤如下:(1)采用具有多个尺度和多个方向的二维解析小波,通过尺度与角度方向进行组合,对归一化后的条纹图像进行小波变换,获得小波变换系数;(2)通过对步骤(1)中所述小波变换系数求取幅值再进行比较,取幅值最大处的值,即小波脊,在获得小波脊的同时,也完成了图像滤波;(3)对步骤(2)中所述小波脊所处的点求取幅角,即获得带有符号不确定性的相位;所述的移除符号不确定性的步骤如下:(4)经过步骤(3)获得了带有符号不确定性的相位,所述 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:徐锋,胡松,罗正全,周绍林,陈旺富,李金龙,谢飞,李兰兰,盛壮,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:90[]
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