相位差膜及使用该相位差膜的偏振片、显示装置制造方法及图纸

技术编号:14278909 阅读:153 留言:0更新日期:2016-12-24 23:05
本发明专利技术提供一种可以维持高的相位差显现性、并且抑制在湿热环境下的相位差变动的相位差膜、及使用其的偏振片、显示装置。一种相位差膜,其包含含有下述通式(1)所示的含氮化合物(A)和下述通式(2)所示的含氮化合物(B)的相位差提升剂,Ar‑X2‑Ar‑Y2‑Ar……含氮化合物(A)(通式(1)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)Ar‑X3‑Ar‑Y3‑Ar‑Z3‑Ar……含氮化合物(B)(通式(2)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种相位差膜、偏振片及显示装置。进一步详细而言,涉及一种在湿热环境下的相位差变动得以抑制的相位差膜、具备该相位差莫的耐湿热性优异的偏振片及显示装置。
技术介绍
液晶显示装置在液晶电视机或笔记本电脑的液晶显示器等用途中,需求扩大。通常,液晶显示装置由用玻璃板夹住透明电极、液晶层、彩色滤光片等而成的液晶单元和设置于其两侧的2片偏振片构成,各个偏振片具有用2片偏振片用保护膜(以下,也称为保护膜)夹住起偏镜(以下,也成为偏光膜)的结构。作为上述偏振片用保护膜,广泛使用具有高透明性、可以容易地确保与起偏镜中所使用的聚乙烯醇的密合性的膜。另外,已知通过在液晶显示装置的偏振片和液晶层之间配置光学双轴性的相位差膜,可以实现更广的视场角、即可以提高显示特性。这种相位差膜可以显现优异的光学性能,因此备受关注,被用于液晶显示装置。另外,相位差膜即使作为兼备偏振片保护用膜功能的膜,也被用于液晶显示装置。但是,由于相位差膜的透湿性高,因此,通过使水分透过至内部,容易引起相位差膜延迟值(相位差值)的变动,其结果,存在产生液晶显示装置的颜色不均的问题。作为改善上述相位差膜延迟值的变动(相位差变动)的方法,可列举使相位差膜的膜厚变薄的方法、或为了控制透湿性而大量地添加添加剂的方法。但是,使相位差膜的膜厚变薄、或大量地添加添加剂时,延迟值变小,因此,需要延迟值上升能力(相位差显现性)高的化合物。作为湿度引起的上述相位差膜相位差变动小的相位差提升剂,例如提出了嘧啶类化合物(日本特开2012-214683号公报)或三嗪类化合物(例如日本特开2003-344655号公报)。另外,提出了进一步添加具有更大的分子量的液晶性化合物而提高相位差显现性等(日本特开2007-119737号公报)。
技术实现思路
但是,日本特开2012-214683号公报或日本特开2003-344655号公报中所记载的化合物存在如下问题:在湿热环境下分子的热运动大,相位差变动大。另外,日本特开2012-214683号公报或日本特开2003-344655号公报中所记载的化合物,其相位差显现性不充分。另外,为了提高相位差显现性,即使添加日本特开2007-119737号公报那样的具有两个以上的芳香族环的化合物,也无法得到充分的相位差显现性,另外,使这种化合物的添加量增加时,产生相位差膜、偏振片及使用其的液晶显示装置的耐湿热性进一步变差的问题。另外,为了控制相位差膜透湿性而大量地添加添加剂时,某些种类的添加剂与纤维素酯等基材树脂的相溶性会变差,因此,在添加量上存在限制。因此,需要兼具相位差提升剂的相位差显现性和高的耐湿热性。本专利技术是鉴于上述课题而完成的专利技术,其目的在于,提供一种维持高的相位差显现性、并且可抑制在湿热环境下的相位差变动的相位差膜、及使用该相位差膜的偏振片、显示装置。本专利技术的专利技术人为了解决上述的问题,进行了深入研究。其结果发现,通过与作为相位差提升剂的下述通式(1)所示的含氮化合物(A)同时将下述通式(2)所示的含氮化合物(B)进行混合,可以维持高的相位差显现性,并且抑制在湿热环境下的相位差变动,直至完成本专利技术。即,本专利技术为一种相位差膜,其具有相位差提升剂,所述相位差上升含有下述通式(1):[化学式1]Ar-X2-Ar-Y2-Ar……含氮化合物(A)(通式(1)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)表示的含氮化合物(A)和下述通式(2):[化学式2]Ar-X3-Ar-Y3-Ar-Z3-Ar……含氮化合物(B)(通式(2)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)表示的含氮化合物(B)。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的相位差膜制造装置(溶液流延制膜方法的胶浆制备工序、流延工序及干燥工序)的概略图。其中,1表示溶解釜,2、5、11、14表示送液泵,3、6、12、15表示过滤器,4、13表示储罐,8、16表示导管,10表示添加剂用进料釜,20表示合流管,21表示混合机,30表示模具,31表示金属支撑体,32表示湿膜,33表示剥离位置,34表示拉幅装置,35表示辊干燥装置,36表示辊,37表示卷绕机,41表示进料釜,42表示储罐,43表示泵,44表示过滤器。图2是表示本专利技术的一个实施方式的液晶显示装置结构的一例的概略剖面图。其中,101A、101B表示偏振片,102表示保护膜,103A、103B表示活性能量线固化性粘接剂,104表示起偏镜,105表示相位差膜,106表示功能性层,107表示液晶单元,108表示液晶显示装置。具体实施方式本专利技术涉及一种相位差膜,其具有相位差提升剂,所述相位差提升剂含有下述通式(1):[化学式3]Ar-X2-Ar-Y2-Ar……含氮化合物(A)(通式(1)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)表示的含氮化合物(A)和下述通式(2):[化学式4]Ar-X3-Ar-Y3-Ar-Z3-Ar……含氮化合物(B)(通式(2)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环)表示的含氮化合物(B)。根据本专利技术,可以提供能够兼具高的相位差显现性和高的湿热耐久性(抑制湿热环境下的相位差变动)的相位差膜、及使用该相位差膜的偏振片、显示装置。本专利技术的相位差膜的特征在于,包含含有分别用通式(1)及(2)表示的含氮化合物(A)及含氮化合物(B)的相位差提升剂。具有这种结构的相位差膜可以兼备高的相位差显现性和高的湿热耐久性。在此,本专利技术的构成引起的上述作用效果的发挥的机理推测如下。需要说明的是,本专利技术并不限定于下述的机理。即,首先,在置于湿热环境下之前,在常温常湿的状态下,在相位差膜中,含有上述含氮化合物(A)及含氮化合物(B)的相位差提升剂使分子的长轴沿着与该相位差膜拉伸方向平行的方向进行取向。另外,此时,通过上述的取向,上述含氮化合物(A)及含氮化合物(B)分别显现相位差。但是,上述含氮化合物(A)及含氮化合物(B)其每一分子的相位差显现量和在湿热环境下的取向的紊乱的情形分别不同。具体而言,分子量大的含氮化合物(B)因与纤维素酯等基材树脂的相互作用强而光学的特性的变动抑制效果优异。另一方面,分子量小的含氮化合物(A)与纤维素酯等基材树脂的相溶性优异。于是,含氮化合物(A)通过氢键等和与基材树脂的相互作用强的含氮化合物(B)发生相互作用,因此,抑制其取向的紊乱。另一方面,就含氮化合物(B)而言,通过与和纤维素等基材树脂的相溶性良好的含氮化合物(A)组合使用而容易与基材树脂溶合在一起,进一步抑制相位差变动。认为:由此,通过组合使用2种含氮化合物,在湿热环境下两含氮化合物所受到的影响相互抵消。其结果,作为相位差膜进行考察时,相位差变动得以改善,提供与将上述含氮化合物(A)及含氮化合物(B)分别单独作为相位差提升剂使用的情况相比、耐久性优异的相位差膜。以下,对本专利技术的实施方式进行说明。本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种相位差膜,其具有相位差提升剂,所述相位差提升剂含有下述通式(1)所示的含氮化合物(A)和下述通式(2)所示的含氮化合物(B),[化学式1]通式(1)Ar‑X2‑Ar‑Y2‑Ar……含氮化合物(A)通式(1)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环,[化学式2]通式(2)Ar‑X3‑Ar‑Y3‑Ar‑Z3‑Ar……含氮化合物(B)通式(2)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.25 JP 2014-0626541.一种相位差膜,其具有相位差提升剂,所述相位差提升剂含有下述通式(1)所示的含氮化合物(A)和下述通式(2)所示的含氮化合物(B),[化学式1]通式(1)Ar-X2-Ar-Y2-Ar……含氮化合物(A)通式(1)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X2及Y2分别独立地表示取代或无取代的含氮芳香族杂环,[化学式2]通式(2)Ar-X3-Ar-Y3-Ar-Z3-Ar……含氮化合物(B)通式(2)中,Ar分别独立地为取代或无取代的芳香族烃环、或取代或无取代的含氮芳香族杂环,X3、Y3及Z3分别独立地表示取代或无取...

【专利技术属性】
技术研发人员:森井里志世良贵史高木隆裕
申请(专利权)人:柯尼卡美能达株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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