【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及喷嘴板、液滴排出头、液滴排出装置以及喷嘴板的制造方法。
技术介绍
1、以往,作为液滴排出装置的液滴排出头的喷嘴板的制造方法,已知有通过对单晶硅基板进行各向异性湿式蚀刻来形成喷嘴流路(例如,参照专利文献1)。
2、专利文献1:日本专利第5519263号
3、然而,在对表面的结晶方位为{100}面的单晶硅基板进行各向异性湿式蚀刻的情况下,腐蚀作用在固定方向上前进。因此,只能形成与液滴排出面对置的面的开口部为正方形的喷嘴流路。若将这样的喷嘴板与油墨流路的截面形状例如为长方形的其他的板接合,则由于油墨流路与喷嘴流路的接合部的形状不一致,而导致油墨射出时的阻力变强。因此,需要使驱动电压上升,或者弯液面变得不稳定而产生射出缺陷等,而射出特性恶化。另外,若与液滴排出面对置的面的开口部为正方形,则设置于单晶硅基板的喷嘴流路的数量变少。
技术实现思路
1、本专利技术是鉴于该情况而完成的,其目的在于提供能够兼得喷嘴开口部的高密度化和最佳的射出特性的喷嘴板、液滴排出头、液滴
...【技术保护点】
1.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
2.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其中,
4.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其中,
5.根据权利要求1至4中任一项所述的喷嘴板,其中,
6.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
7.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
2.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其中,
4.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其中,
5.根据权利要求1至4中任一项所述的喷嘴板,其中,
6.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
7.一种喷嘴板,具备多个在单晶硅基板的第一面形成有用于排出液滴的喷嘴开口部的喷嘴流路,其中,
8.根据权利要求5至7中...
【专利技术属性】
技术研发人员:梶田大士,鲛岛幸一,
申请(专利权)人:柯尼卡美能达株式会社,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。