移动体装置制造方法及图纸

于投影单元（ＰＵ）的＋Ｘ，－Ｘ侧，分别将复数个Ｚ读头（７６，７４）以Ｙ标尺的有效宽度的一半以下的间隔（ＷＤ）与Ｘ轴平行地排列成随时有各两个Ｚ读头成对对向于晶圆载台上的Ｙ标尺（反射面）。同时对向于标尺的两个Ｚ读头所构成的读头对中的优先读头的测量值，在优先读头的测量值因读头的动作不良等导致异常的情形时，使用另一读头的测量值，而可稳定且高精度地测量载台在至少Ｚ轴方向的位置信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种移动体装置、图案形成装置、曝光装置、以及元件制 造方法，更详言之，是关于具备实质沿既定平面移动的移动体的移动体装置、 将图案形成于装载于移动体的物体上的图案形成装置、通过照射能量束于物 体形成图案的曝光装置、以及使用所述曝光装置的元件制造方法。
技术介绍
以往，在制造半导体元件、液晶显示元件等电子元件(微型元件)的微影制 程中，主要使用步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进器)、步进扫描方式的 投影曝光装置(所谓扫描步进器(亦称扫描器))等。然而，晶片或玻璃板等被曝光基板(以下总称为晶片)的表面，例如会因晶 片的起伏等而未必为平坦。因此，特别是扫描器等的扫描型曝光装置，当以 扫描曝光方式将标线片图案转印于晶片上的某照射区域时，使用多焦点位置检测系统(以下亦称为"多点AF系统")等检测设定于曝光区域内的复数个检测点中晶片表面在投影光学系统的光轴方向的位置信息(聚焦信息)，并根据该 检测结果，控制保持晶片的平台或载台在光轴方向的位置及倾斜、亦即聚焦 调平控制，以使晶片表面在曝光区域内随时一致于投影光学系统的像面(成为像面的焦深范围内)(参照例如美国专利第5， 448， 332号说明书)。又，步进器或扫描器等，伴随着集成电路的微细化所使用的曝光用光的 波长亦逐年变短，又，投影光学系统的数值孔径亦逐渐增大(大NA化)，藉此 谋求提升解析度。另一方面，通过曝光用光的短波长化及投影光学系统的大 NA化能使焦深变得非常狭窄，因此恐有曝光动作时的聚焦裕度不足之虞。因 此，作为实质縮短曝光波长且使焦深与在空气中相较实质变大(变宽)的方法，有一种利用液浸法的曝光装置最近受到瞩目(参照美国专利申请公开第2005/ 259234号说明书)。然而，此种利用液浸法的曝光装置、或其他的投影光学系统下端面与晶 片之间的距离(工作距离)狭窄的曝光装置，难以将上述多点AF系统配置于投 影光学系统附近。另一方面，曝光装置被要求高精度且稳定地进行上述聚焦 调平控制，以实现高精度的曝光。
技术实现思路
根据本专利技术的第1态样，提供一种第1移动体装置，包含实质沿既定平 面移动的移动体，其特征在于，具备反射面，配置于该移动体与该移动体 外部中的一方，以与该既定平面平行的面内的第1方向为长边方向，且于与该第1方向正交的第2方向具有既定宽度；以及测量装置，在配置于该反射面上的复数个测量点测量该移动体在与该既定平面正交的第3方向的位置信 息；该复数个测量点的配置，设定成该复数个测量点中的n点(n为2以上的 整数)以上位于该标尺上的该既定宽度内，且在该移动体位于既定位置时该复 数个测量点中的n+1点以上位于该反射面上的该既定宽度内。根据上述，测量装置所具有的复数个测量点中的n点(n为2以上的整数) 以上位于反射面上的既定宽度内，且在移动体位于既定位置时n+l点以上位 于反射面上的既定宽度内。因此，至少可在一个测量点，测量移动体在与既 定平面正交的第3方向的位置信息。因此，即使位于反射面上的既定宽度内 的n点以上、在移动体位于既定位置时在n+l点以上的测量点一部分的测量 产生异常，亦可在剩余的测量点确实地测量移动体在第3方向的位置信息。根据本专利技术的第2态样，提供一种第2移动体装置，包含实质沿既定平 面移动的移动体，其特征在于，具备反射面，配置于该移动体与该移动体 外部中的一方，以与该既定平面平行的面内的第1方向为长边方向，且于与 该第1方向正交的第2方向具有既定宽度；测量装置，在配置于该反射面上的复数个测量点测量该反射面在与该既定平面正交的第3方向的位置信息； 该测量装置，具有复数个包含对第1测量点照射测量光的第1读头、以及对 该第1测量点或其附近照射测量光的第2读头的读头组。根据上述，测量装置，具有复数个包含对复数个测量点中的第1测量点 照射测量光的第1读头、以及对第1测量点或其附近照射测量光的第2读头的读头组。因此，即使当读头组所含的第1读头与第2读头中的一读头产生异常，由于能使用另一读头，因此读头组可稳定地对反射面照射测量光，测量移动体在与既定平面正交的第3方向的位置信息。因此，通过使用具有复 数个读头组的测量装置，即能确实地测量移动体在第3方向的位置信息。根据本专利技术的第3态样，提供一种第3移动体装置，包含实质沿既定平面移动的移动体，其特征在于具备测量装置，在配置于该移动体的移动范围内的复数个测量点测量该移动体在与该既定平面正交的第3方向的位置信 息；该测量装置具备复数个读头，该复数个读头在该移动体位于既定位置时 对该复数个测量点中的至少一个照射测量光，以生成测量信息。根据上述，测量装置具备复数个读头，其在移动体位于既定位置时对复 数个测量点中的至少一个照射测量光以生成测量信息。因此，可使用至少一 个读头测量移动体在与既定平面正交的第3方向的位置信息。因此，即使复 数个读头的一部分产生异常，亦能使用剩余的其他读头，确实地测量移动体 在第3方向的位置信息。根据本专利技术的第4态样，提供一种图案形成装置，于物体形成图案，其 具备于该物体上形成图案的图案化装置；以及将该物体装载于该移动体的 本专利技术的移动体装置(正确而言是第1、第2、第3移动体装置的任一者)。根据上述，可通过图案化装置将图案生成于构成本专利技术的移动体装置一 部分、可确实地测量在与既定平面正交的第3方向的位置信息的移动体上的 物体。因此，能以良好精度将图案形成于物体上。根据本专利技术的第5态样，提供一种曝光装 ，通过照射能量束将图案形成于物体，其具备对该物体照射该能量束的图案化装置；将该物体装载于 该移动体的本专利技术的移动体装置；以及为了使该物体相对该能量束移动，而 驱动该移动体的驱动装置。根据上述，为了使物体相对从图案化装置照射于物体的能量束移动，而 通过驱动装置以良好精度驱动装载物体的移动体。因此，可通过扫描曝光于 物体上以良好精度形成图案。根据本专利技术的第6态样，提供使用本专利技术的曝光装置的元件制造方法。附图说明图1为显示一实施形态的曝光装置的概略构成图； 图2A为显示晶片载台的俯视图； 图2B为显示测量载台的俯视图3为说明图1的曝光装置的干涉仪系统的测距轴的配置的图，省略载台装置一部分后显示的俯视图4为显示图1的曝光装置所具备的各种测量系统配置的图5为显示编码器读头(X读头，Y读头)与对准系统的配置的图6为显示Z读头与多点AF系统之配置的图7为显示图1的曝光装置的控制系统主要构成的方块图8为用以说明复数个Z读头对晶片台的Z轴方向与倾斜方向的位置测量、以及Z读头的切换的图9A 图9C为用以说明聚焦映射的图IOA及图10B为分别用以说明面位置测量系统的第1及第2变形例的图IIA及图11B为分别用以说明面位置测量的第3及第4变形例的图； 图12为用以说明面位置测量系统的其他变形例的图。具体实施例方式10以下，根据图1 图9C说明本专利技术的一实施形态。图1概略显示一实施形态的曝光装置100的构成。曝光装置100，是步进 扫描方式的投影曝光装置、亦即所谓扫描机。如后述般，本实施形态中设有 投影光学系统PL，以下的说明中，将与投影光学系统PL的光轴AX平行的 方向设为Z轴方向、将在与该Z轴方向正交的面内标线片与晶片相对扫描的 方向设为Y轴方向、将与Z轴及Y轴正交之方向设为X轴方向，且将绕X 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种移动体装置，包含实质沿既定平面移动的移动体，其特征在于，所述移动体装置包括：　反射面，配置于所述移动体与所述移动体外部中的一方，以与所述既定平面平行的面内的第１方向为长边方向，且于与所述第１方向正交的第２方向具有既定宽度；以及　测量 装置，在配置于所述反射面上的复数个测量点测量所述移动体在与所述既定平面正交的第３方向的位置信息；　所述复数个测量点的配置，设定成所述复数个测量点中的ｎ点（ｎ为２以上的整数）以上位于所述反射面上的所述既定宽度内，且在所述移动体位于既定位置时 ，所述复数个测量点中的ｎ＋１点以上位于所述反射面上的所述既定宽度内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：金谷有步，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]