一种单晶炉的石墨热场制造技术

技术编号:5327424 阅读:195 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术提供了一种单晶炉的石墨热场,包括保温筒、导流筒、加热器,所述保温筒上设有多个排气孔,其中,所述导流筒由导流内层和导流外层组成,所述导流内层与所述导流外层之间设有间隙,由于所述导流筒由导流内层和导流外层组成,所述导流内、外层之间设有间隙,减少热场的散热,使热量以热辐射的形式传输,节省了电能消耗,大大加快速了单晶硅生长速度。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

一种单晶炉的石墨热场
本技术涉及一种石墨热场,特别涉及用于拉制单晶硅棒的高效石墨热场。技术背景直拉单晶硅生产过程中,采用的单晶炉的石墨热场主要由保温筒、导流筒、加 热器、石墨坩埚及石英坩埚组成,石英坩埚位于石墨坩埚内,石墨坩埚位于加热器内, 保温筒位于最外层,导流筒位于石英坩埚之上及保温筒内。当加热器通电后,石墨坩 埚开始升温,当温度升至1400-1600度时,石英坩埚内的硅料充分熔化,再通入惰性气 体,在惰性气体的保护下,经过引晶、放肩等步骤过盛晶体的生长。为了确保晶体的生 长,要将热场的温度保持在1400-1600度左右,因此,消耗的能源较大。为了降低能源的消耗,对导流筒作了改进。近来,出现了一些改进的导流筒, 该导流筒为圆筒状或圆锥型,将热场由原来的开放式改为封闭式,增加了热场保温性 能,降低了热量的损失,从而,节约的能源;但该结构的石墨热场,保温效率还不理 想,还待改进的地方。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种单晶炉的石墨热场,该单晶炉的石 墨热场充分利用单晶硅结晶时散发的热量,大大降低了能耗,大大加速了单晶硅生长速度。为了解决上述技术问题,本技术一种单晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶炉的石墨热场,包括保温筒、导流筒、加热器,所述保温筒上设有多个排气孔,其特征在于,所述导流筒由导流内层和导流外层组成,所述导流内层与所述导流外层之间设有间隙。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:朱朝平
申请(专利权)人:镇江辉煌电子有限公司
类型:实用新型
国别省市:32[中国|江苏]

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