一种涂胶显影机台制造技术

本实用新型专利技术公开了一种涂胶显影机台，包含光阻容器，所述光阻容器上设置有输入管路、输出管路和排空管路，所述输入管路和输出管路上分别设置有检测管路内是否有气泡的输入端传感器和输出端传感器，所述排空管路上设置有用于检测排空管路内是否有气泡的排空端传感器。本实用新型专利技术的涂胶显影机台通过在光阻容器的排空管路上加装排空端传感器，在光阻容器中的气泡没有完全排除时，涂胶显影机台会持续报警。本实用新型专利技术能够在不改变机台软件的情况下良好的侦测机台光阻缓存区是否有气泡，从而避免因光阻缓存区气泡没有排除干净而产生的晶片蚀刻良率或可靠度降低的问题。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种晶片加工装置，特别涉及一种涂胶显影机台。
技术介绍
在光刻技术中，光阻是将光罩图案转移至晶片图案的转移程序中不可或缺的一环。由于光阻的图案基本上即是半导体底材上的图案，因此，要确保光阻的图案和光罩的图案一致。TRACK(涂胶显影机台)的作用即是将光罩图案转移至晶片，涂胶显影机台包含有 光阻容器，光阻容器作为光阻缓存区用于存放光阻。为了检测光阻缓存区是否有气泡，涂胶 显影机台需要对光阻缓存区进行光阻侦测。目前，光阻侦测只能侦测到光阻缓存区的输入 端以及输出端是否有气泡，当更换光阻时，涂胶显影机台无法侦测到光阻缓存区气泡是否 已排除干净。光阻缓存区内存在气泡，会导致光阻在晶片表面上涂盖不连续，使晶片的蚀刻 良率或可靠度降低，严重的会引起晶片报废。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种涂胶显影机台，其可准确侦测光阻缓存区内气泡是 否完全排除干净，有效提高晶片的蚀刻良率和可靠度。为了达到上述目的，本技术所采用的技术方案是一种涂胶显影机台，包含光阻容器，所述光阻容器上设置有输入管路、输出管路和 排空管路，所述输入管路和输出管路上分别设置有检测管路内是否有气泡的输入端传感器 和输出端传感器，所述排空管路上设置有用于检测排空管路内是否有气泡的排空端传感ο进一步地，包含与门电路，所述与门电路的输入端分别与所述输入端传感器、排空 端传感器相连，所述与门电路的输出端与所述涂胶显影机台的报警装置相连。本技术的涂胶显影机台通过在光阻容器的排空管路上加装排空端传感器，在 光阻容器中的气泡没有完全排除时，涂胶显影机台会持续报警。本技术能够在不改变 机台软件的情况下良好的侦测机台光阻缓存区是否有气泡，从而避免因光阻缓存区气泡没 有排除干净而产生的晶片蚀刻良率或可靠度降低的问题。附图说明图1为现有技术中涂胶显影机台的光阻容器中充满光阻时的结构示意图；图2为图1所示的涂胶显影机台的光阻容器的输入管路中没有光阻存在时的结构 示意图；图3为图1所示的涂胶显影机台的光阻容器中气泡未排除干净时的结构示意图；图4为本技术的涂胶显影机台优选实施例的结构示意图。附图标记说明A管路输入管路B管路输出管路C管路排空管路A传感器输入端传感器B传感器输出端传感器 C传感器排空端传感器具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对 本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不 用于限定本专利技术。如图4所示，本技术提供一种涂胶显影机台，包含光阻容器，光阻容器上设置 有输入管路(即A管路)、输出管路(B管路)和排空管路(C管路)，输入管路上设置有用 于检测输入管路是否有气泡的输入端传感器(A传感器)，输出管路上设置有用于检测输出 管路是否有气泡的输出端传感器(B传感器)，排空管路(C管路)上设置有用于检测排空管 路是否有气泡的排空端传感器(C传感器)。本技术的涂胶显影机台通过在光阻容器的排空管路上加装排空端传感器，在 光阻容器中的气泡没有完全排除时，涂胶显影机台会持续报警。本技术能够在不改变 机台软件的情况下良好的侦测机台光阻缓存区是否有气泡，从而避免因光阻缓存区气泡没 有排除干净而产生的晶片蚀刻良率或可靠度降低的问题。优选地，本技术的涂胶显影机台包含与门电路，该与门电路的输入端分别与 输入端传感器、排空端传感器相连，该与门电路的输出端与涂胶显影机台的报警装置相连， 当输入管路和排空管路内均没有气泡时，涂胶显影机台才会解除报警，这样可以更好的侦 测光阻缓冲区的气泡已排除干净。可以想到的是，排空端传感器与涂胶显影机台的连接方式不限于通过与门电路， 排空端传感器发出信号使涂胶显影机台报警的任何连接方式(例如排空端传感器直接与 涂胶显影机台的报警装置相连)均可应用于本技术。图1所示为现有技术中涂胶显影机台的光阻容器中充满光阻时的结构示意图。A 管路上设置有A传感器，B管路上设置有B传感器。该状态下，光阻瓶内没有气泡，机台正 常工作。图2为图1所示的涂胶显影机台的光阻容器的输入管路中没有光阻存在时的结构 示意图。当涂胶显影机台刚显示光阻用完时，此时机台上只有少量光阻，需及时更换光阻。 此时，光阻瓶内的光阻用空，A管路中没有光阻存在，A传感器会发出信号使机台发出警报， 提示更换光阻。与图1所示情况相同，更换光阻后会进行气泡排空，新光阻会从A管路进， C管路出，以将气泡排除干净。正常情况下，气泡会排除干净，机台的警报解除，机台正常运 转。但TRACK机台的光阻侦测只能侦测到光阻缓存区输入端以及输出端是否有气泡，出现 图3所示情况时，光阻缓存区气泡没有排除干净，C管路内因为气泡没有排除而没有光阻， 机台也不能检测出来，此时机台警报仍可消除，而气泡存在会影响产品良率，严重的会引起 产品报废。图4为本技术涂胶显影机台的优选实施例的结构示意图。如图4所示，在C管路上加装C传感器，并和A传感器通过一个与门电路连接机台，只要气泡还没有完全排除， 机台就不能消除警报，只有A管路和C管路内都有光阻时，气泡完全排除，此时，机台警报才 消除，机台正常运转。 在不背 离本技术精神及其实质的情况下，所属
的技术人员应当可以 根据本技术作出各种相应的改变，但这些相应的改变都应属于本技术的保护范 围。权利要求一种涂胶显影机台，包含光阻容器，所述光阻容器上设置有输入管路、输出管路和排空管路，所述输入管路和输出管路上分别设置有检测管路内是否有气泡的输入端传感器和输出端传感器，其特征在于，所述排空管路上设置有用于检测排空管路内是否有气泡的排空端传感器。2.根据权利要求1所述的涂胶显影机台，其特征在于，还包含与门电路，所述与门电路 的输入端分别与所述输入端传感器、排空端传感器相连，所述与门电路的输出端与所述涂 胶显影机台的报警装置相连。专利摘要本技术公开了一种涂胶显影机台，包含光阻容器，所述光阻容器上设置有输入管路、输出管路和排空管路，所述输入管路和输出管路上分别设置有检测管路内是否有气泡的输入端传感器和输出端传感器，所述排空管路上设置有用于检测排空管路内是否有气泡的排空端传感器。本技术的涂胶显影机台通过在光阻容器的排空管路上加装排空端传感器，在光阻容器中的气泡没有完全排除时，涂胶显影机台会持续报警。本技术能够在不改变机台软件的情况下良好的侦测机台光阻缓存区是否有气泡，从而避免因光阻缓存区气泡没有排除干净而产生的晶片蚀刻良率或可靠度降低的问题。文档编号G03F7/16GK201765433SQ201020539780公开日2011年3月16日 申请日期2010年9月21日 优先权日2010年9月21日专利技术者王波, 胡清强, 陈晓琪, 鲁旭光 申请人:和舰科技(苏州)有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂胶显影机台，包含光阻容器，所述光阻容器上设置有输入管路、输出管路和排空管路，所述输入管路和输出管路上分别设置有检测管路内是否有气泡的输入端传感器和输出端传感器，其特征在于，所述排空管路上设置有用于检测排空管路内是否有气泡的排空端传感器。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：鲁旭光，陈晓琪，胡清强，王波，
申请(专利权)人：和舰科技苏州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]