【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆的 装置，尤其涉及离子镀膜装置。
技术介绍
光学薄膜，就是在镜片上镶上一层或多层非常薄的特殊材料，使镜片能达到某种 特定的光学效果。光学薄膜的制造是以真空蒸镀方式制作，最普通的方式为热电阻式，是将 蒸镀材料在真空蒸镀机内置于电阻丝或片上，在高真空的情况下，加热使材料成为蒸气，直 接镀于镜片上。由于有许多高熔点的材料，不易使用此种方式使之熔化、蒸镀。而以电子枪 式改进此缺点，其方法是以高压电子束直接打击材料，由于能量集中可以蒸镀高熔点的材 料。另一方式为溅射方式，是通过高压使惰性气体离子化，打击材料使之直接溅射至镜片， 以此方式所作薄膜的附着力非常好。离子镀膜是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜新技术，将各 种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。离子 镀大大提高了膜层粒子能量，可以获得更优异性能的膜层，扩大了 “薄膜”的应用领域。但 是，现有技术中离子源主要起清洗或镀单层光学薄膜的作用，且镀膜均勻性相对较差，离子 源使用寿命相对较短。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种可镀多层薄膜的离子镀膜装置，降低 了镜片生产过程不良发生率，有效提高制程良率，改善了镀膜的致密性、均勻性，延长离子 源的使用寿命。为解决上述技术问题，本技术提供一种离子镀膜装置，包括镀膜炉及设置在 镀膜炉内的膜料，其特征是，所述镀膜炉内设有发射等离子体的离子源，离子源发射等离子 体加热所述膜料，使之成为膜料蒸汽，均勻镀在玻璃片上。所述镀膜炉内充入的是混合气体。所述混合气体为...
【技术保护点】
一种离子镀膜装置，包括镀膜炉及设置在镀膜炉内的膜料，其特征是，所述镀膜炉内设有发射等离子体的离子源，离子源发射等离子体加热所述膜料，使之成为膜料蒸汽，均匀镀在玻璃片上。
【技术特征摘要】
1.一种离子镀膜装置，包括镀膜炉及设置在镀膜炉内的膜料，其特征是，所述镀膜炉内 设有发射等离子体的离子源，离子源发射等离子体加热所述膜料，使之成为膜料蒸汽，均勻 镀在玻璃片上。2.根据权利要求1所述离子镀膜装置，其特征是，所述离子源设置在所述镀膜炉内相 对膜料的中后部位置。3.根据权利要求1所述离子镀膜装置，其特征是，所述离子源与...
【专利技术属性】
技术研发人员：金春伟，奂微微，
申请(专利权)人：苏州五方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]
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