透明导电性膜制造技术

透明导电性膜具备在聚酯膜的第１主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层（ＩＴＯ层）。高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成。波长４００ｎｍ时的高折射率层的折射率为１．６３～１．８６。高折射率层的膜厚为４０～９０ｎｍ。波长４００ｎｍ时的低折射率层的折射率为１．３３～１．５３。低折射率层的膜厚为１０～５０ｎｍ。波长４００ｎｍ时的ＩＴＯ层的折射率为１．８５～２．３５。ＩＴＯ层的膜厚为５～５０ｎｍ。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透明导电性膜，该透明导电性膜例如用于触摸面板等上，能够抑 制透过光着色，且全光线透过率优异。
技术介绍
当前，作为能够通过直接触摸图像显示部来输入信息的器件，有时使用触摸面板。 该触摸面板通过将用于使光透过的输入装置配置在液晶显示装置、CRT等各种显示器上来 构成。作为触摸面板的代表形式可举出将2张透明电极基板以它们的透明电极层相互对 置的方式配置的阻抗膜式触摸面板；以及利用了透明电极层与手指之间产生的电流容量的 变化的静电容量式触摸面板。作为阻抗膜式触摸面板或静电容量式触摸面板的透明电极基板，通常使用在玻璃 板、透明树脂板、各种热塑性高分子膜等基材上层积了由含有氧化锡的铟氧化物(锡掺杂 氧化铟，ΙΤ0)、氧化锌等金属氧化物形成的透明导电层而构成的基板。在通过这种方式得到 的透明电极基板上，金属氧化物层的反射和吸收导致可见光短波长区域的透过率下降，所 以透过透明电极基板的光有时呈黄色。因此，存在难以正确显示配置于触摸面板之下的显 示装置发出的颜色的问题。为了解决该问题，提出了将透明导电层与多层光学膜组合的透明导电性层积体 (参见专利文献1)。该透明导电性层积体的多层光学膜由折射率不同的层进行层积而成。 作为多层光学膜的构成要素，使用金属醇盐的水解产物，所以无法在得到抑制透过色的黄 色着色的效果的同时降低透明导电性层积体的雾度值。专利文献1 日本特开2000-301648号公报
技术实现思路
于是，本专利技术的目的在于，提供一种能够抑制透过光着色、且雾度值低、全光线透 过率高的透明导电性膜。为了达到上述目的，本专利技术的一个方式的透明导电性膜具备在聚酯膜的第1主面 上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层(ΙΤ0层)。高折射率层由金属 氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成。波长400nm时的高折射率层的折射率为1. 63 1. 86。高折射率层的膜厚为40 90nm。波长400nm时的低折射率层的折射率为1. 33 1. 53。低折射率层的膜厚为10 50nm。波长400nm时的锡掺杂氧化铟层的折射率为1. 85 2.35。锡掺杂氧化铟层的膜厚为5 50nm。作为一例的透明导电性膜，在聚酯膜和高折射率层之间还具备膜厚为1.0 10. Oym的硬涂层。作为一例的透明导电性膜，还具备形成于聚酯膜的第2主面上的功能层。作为一例的透明导电性膜，功能层是硬涂层、防眩层、指纹亲合层或自我修复层。作为一例的透明导电性膜，功能层是滑性硬涂层。所述滑性硬涂层的膜厚为1. 0 10. 0 μ m。所述滑性硬涂层中含有0. 5 30质量％的透光性微粒。所述透光性微粒 的平均粒径相对于所述滑性硬涂层的膜厚的比率为10 60%。作为一例的透明导电性膜，功能层是硬涂层或防眩层，所述透明导电性膜还具备 层积在该功能层上的抗反射层。专利技术效果根据本专利技术，能够发挥如下效果。在一种方式的透明导电性膜中，根据光的波长400nm时的折射率，适当设定层积 在聚酯膜的第1主面上的高折射率层、低折射率层以及ITO层的折射率，从而能够抑制透明 导电性膜的透过光呈黄色，并且能够提高透过率。因此，能够得到抑制了透过光的着色、降 低雾度值、且提高了全光线透过率的透明导电性膜。在此，折射率具有波长分散性，在短波长区域，存在折射率升高的倾向。通常，调整 各层的折射率时，大多使用钠的D射线(589nm)的值。但是，在本专利技术的中间层以及ITO层 这类含有金属氧化物微粒的层中，折射率受波长分散的影响变大。在利用波长589nm的折 射率来调整各层的折射率的情况下，不能充分调整波长400nm的透过率，不能充分地得到 黄色降低效果。在本专利技术中，使用波长400nm的折射率来设计各层，控制了波长400nm时的 透过率，所以能够将抑制黄色的效果最大化。附图说明图1是表示根据一个实施方式的透明导电性膜的结构的示意剖面图。图2是表示在聚酯膜和高折射率层之间具有硬涂层的透明导电性膜的结构的示 意剖面图。图3是表示具有功能层的透明导电性膜的结构的示意剖面图。具体实施方式下面，详细说明将本专利技术具体化的实施方式。本实施方式的透明导电性膜通过在聚酯膜的第1主面上依次层积高折射率层、低 折射率层以及锡掺杂氧化铟层(铟锡氧化物层、ITO层)来构成(参见图1)。高折射率层 由金属氧化物微粒和紫外线(UV)固化性粘合剂形成。波长400nm时的高折射率层的折射率 为1. 63 1. 86，高折射率层的膜厚为40 90nm。波长400nm时的低折射率层的折射率为1.33 1. 53，低折射率层的膜厚为10 50nm。波长400nm时的ITO层的折射率为1. 85 2.35，ITO层的膜厚为5 50nm。下面，依次说明该透明导电性膜的构成要素。<聚酯膜>聚酯膜是透明基材，由以聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂为代表的聚酯类树脂 形成。聚酯膜的膜厚通常为25 400 μ m,优选为35 250 μ m。<高折射率层>高折射率层由通过对高折射率层用涂液进行紫外线固化而得到的固化物形成，该 高折射率层用涂液由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂混合而成。作为金属氧化物微4粒，优选氧化钛和氧化锆。氧化钛和氧化锆在波长400nm时的折射率根据制造方法而不同， 优选为2.0 3.0。并且，作为紫外线固化性粘合剂，可以举出具有(甲基)丙烯酰基的多 官能单体、低聚物以及聚合物。波长400nm时的紫外线固化性粘合剂的折射率优选为1. 4 1. 7。高折射率层的涂液如下调整，即，使得干燥固化后的固化膜(即，高折射率层)在 波长400nm时的折射率达到1. 63 1. 86，优选达到1. 66 1. 86。此外，高折射率层的涂 液以干燥固化后的膜厚达到40 90nm、优选达到45 90nm的方式涂布，然后进行固化。 高折射率层的折射率和膜厚在上述范围外时，在JIS Z 87 中规定的L * a * b表色系中 的透过色的b*的值变大，能够明显地识别出透明导电性膜的透过色呈黄色。并且，在高折 射率层的折射率大于1. 86的情况下，涂膜中粒子的比例增多，导致雾度值上升。当高折射 率层的膜厚在上述范围外时，透过色的b*的值增大，能够明显地识别出透明导电性膜的透 过色的黄色着色。<低折射率层>低折射率层是通过以下步骤得到的层，S卩，在根据需要而使用的溶剂中，将平均粒 径为10 IOOnm的无机微粒和活性能量线固化性树脂混合，得到涂液，采用该涂液进行涂 布、固化。作为无机微粒，可以举出胶体氧化硅、中空氧化硅微粒。作为活性能量线固化性 树脂，可以举出例如具有(甲基)丙烯酰基的多官能单体、低聚物以及聚合物。低折射率层的涂液如下调整，即，使得干燥固化后的固化膜(即，低折射率层)在 波长400nm时的折射率为1. 33 1. 53。该折射率小于1. 33时，低折射率层的涂液中的中 空氧化硅微粒等的比例增大，所以涂膜变脆，并且不能良好地制造低折射率层。另一方面， 当低折射率层的折射率大于1. 53时，透过色的b*的值增大，能够明显地识别出透明导电性 膜的透过色的黄色着色。低折射率层的涂液以干燥固化后的膜厚达到10 50nm、优选达到15 45nm的方 式涂布，然后进行固化。该膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电性膜，具备在聚酯膜的第１主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层，其特征在于，所述高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成，在波长４００ｎｍ时的所述高折射率层的折射率为１．６３～１．８６，所述高折射率层的膜厚为４０～９０ｎｍ，波长４００ｎｍ时的所述低折射率层的折射率为１．３３～１．５３，所述低折射率层的膜厚为１０～５０ｎｍ，波长４００ｎｍ时的所述锡掺杂氧化铟层的折射率为１．８５～２．３５，所述锡掺杂氧化铟层的膜厚为５～５０ｎｍ。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：加藤祐子，野岛孝之，森田祐诚，
申请(专利权)人：日油株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]