透明导电性膜制造技术

透明导电性膜具备在聚酯膜的第１主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层（ＩＴＯ层）。高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成。波长４００ｎｍ时的高折射率层的折射率为１．６３～１．８６。高折射率层的膜厚为４０～９０ｎｍ。波长４００ｎｍ时的低折射率层的折射率为１．３３～１．５３。低折射率层的膜厚为１０～５０ｎｍ。波长４００ｎｍ时的ＩＴＯ层的折射率为１．８５～２．３５。ＩＴＯ层的膜厚为５～５０ｎｍ。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种透明导电性膜，该透明导电性膜例如用于触摸面板等上，能够抑 制透过光着色，且全光线透过率优异。
技术介绍
当前，作为能够通过直接触摸图像显示部来输入信息的器件，有时使用触摸面板。 该触摸面板通过将用于使光透过的输入装置配置在液晶显示装置、CRT等各种显示器上来 构成。作为触摸面板的代表形式可举出将2张透明电极基板以它们的透明电极层相互对 置的方式配置的阻抗膜式触摸面板；以及利用了透明电极层与手指之间产生的电流容量的 变化的静电容量式触摸面板。作为阻抗膜式触摸面板或静电容量式触摸面板的透明电极基板，通常使用在玻璃 板、透明树脂板、各种热塑性高分子膜等基材上层积了由含有氧化锡的铟氧化物(锡掺杂 氧化铟，ΙΤ0)、氧化锌等金属氧化物形成的透明导电层而构成的基板。在通过这种方式得到 的透明电极基板上，金属氧化物层的反射和吸收导致可见光短波长区域的透过率下降，所 以透过透明电极基板的光有时呈黄色。因此，存在难以正确显示配置于触摸面板之下的显 示装置发出的颜色的问题。为了解决该问题，提出了将透明导电层与多层光学膜组合的透明导电性层积体 (参见专利文献1)。该透明导电性层积体的多本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明导电性膜，具备在聚酯膜的第１主面上依次层积的高折射率层、低折射率层以及锡掺杂氧化铟层，其特征在于，所述高折射率层由金属氧化物微粒和紫外线固化性粘合剂形成，在波长４００ｎｍ时的所述高折射率层的折射率为１．６３～１．８６，所述高折射率层的膜厚为４０～９０ｎｍ，波长４００ｎｍ时的所述低折射率层的折射率为１．３３～１．５３，所述低折射率层的膜厚为１０～５０ｎｍ，波长４００ｎｍ时的所述锡掺杂氧化铟层的折射率为１．８５～２．３５，所述锡掺杂氧化铟层的膜厚为５～５０ｎｍ。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：加藤祐子，野岛孝之，森田祐诚，
申请(专利权)人：日油株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]