真空蒸镀装置以及温度调节方法制造方法及图纸

技术编号:5067840 阅读:390 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种真空蒸镀装置。该真空蒸镀装置包括:能够收容从外部搬入的被蒸镀体(B)的真空室(1);设置在所述真空室(1)内并收容蒸镀材料(M)的坩埚(2);加热所述坩埚(2)并使所述蒸镀材料(M)气化的加热源(3);分散配置在坩埚(2)的底部(2c)并支承坩埚(2),并且在坩埚(2)与真空室(1)的底部(1a)之间进行传热的多个支承部(5)。通过该真空蒸镀装置,能够实现温度分布的均一化,并能够降低材料的多余的填充。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
众所周知,例如、在有机EL商品的制造过程中,真空蒸镀法主要用于制造以低分 子化合物为材料的有机EL成分的薄膜。在该真空蒸镀法中,在真空室内设置收容有机材料 的坩埚,通过利用加热器等对该坩埚加热而使有机材料气化,并使有机材料附着在基板等 上而成膜。并且,由于加热器配置的不平衡或发热量、真空室内的部件的配置,有时坩埚内的 有机材料的温度分布不平衡。当坩埚内的有机材料的温度分布不平衡时,因为有机材料不 平衡地气化,所以形成在基板上的薄膜变得不均勻。并且,在坩埚内,有机材料在不平衡的 状态下大量残存。作为解决这种问题的真空蒸镀装置,存在下述专利文献1记载的装置。该真空蒸 镀装置是如下装置。即、在由没有被高频感应加热的材质构成的坩埚内,收容由被高频感应 加热的材质构成的多个粒状混入物,通过高频加热该粒状混入物,一边对有机材料进行搅 拌,一边进行加热。专利文献1 (日本)特开2004-323915号公报然而,在现有技术中,因为为了对有机材料进行加热而需要相当数量的粒状混入 物,所以当进行有机材料的气化时,有机材料低于粒状混入物的高度。此时,位于粒状混入 物间的有机材料被剧烈加热。因此,当有机材料低于一定量时,必须添加新的有机材料或替 换该有机材料,存在生产效率或经济效率差的问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题做出的,其目的在于提供一种能够通过简单的结构实现温 度分布的均一化,并且能够提供减少材料的多余填充的。为了到达上述目的,本专利技术采用了如下手段。S卩、本专利技术的真空蒸镀装置的特征在于,包括能够收容从外部搬入的被蒸镀体的 真空室;设置在所述真空室内并收容蒸镀材料的坩埚;加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气 化的加热源;分散配置在所述坩埚的底部并支承所述坩埚、并且在所述坩埚与所述真空室 的底部之间进行传热的多个支承部。根据该结构,因为具有分散配置在所述坩埚的底部并且在所述坩埚与所述真空室 的底部之间进行传热的多个支承部,所以能够使支承部附近的坩埚内的蒸镀材料的温度降 低。通过有意地设置低温部分,能够调节坩埚内的蒸镀材料的温度。即、通过分散配置低温 部分,能够实现蒸镀材料的温度的均一化。并且,因为通过使坩埚内的温度均一化,能够减 小蒸镀材料的气化量的偏差,所以能够使蒸镀材料的减少在坩埚内的各部位均一化。因此, 能够减少蒸镀材料的多余的填充。4并且,所述加热源的特征在于,以在所述支承部的附近所述坩埚的加热量变大的 方式构成。根据该结构,由于在支承部附近加热量变大,所以在离开支承部且不向底部传热 的部位和在支持部附近向底部传热的部位上各自的蒸镀材料的温度差变小。据此,能够更 好地实现蒸镀材料的温度的均一化。并且,所述多个支承部的一部分特征在于,传热量与其他支承部不同。根据该结构,所述多个支承部的一部分的传热量与其他支承部不同,因此,由于使 蒸镀材料向相对高温的部位的底部的传热量增大,并且,使蒸镀材料向相对低温的部位的 底部的传热量减小,能够实现蒸镀材料的温度的均一化。并且,由于使蒸镀材料向相对低温 的部位的底部的传热量减小,能够降低加热器的发热量。所述多个支承部的一部分的特征在于,剖面面积与其他支承部不同。所述多个支承部的一部分的特征在于,由与其他支承部的导热系数不同的材料构 成。所述多个支承部的一部分的特征在于,使在导热上具有方向性的传热阻碍部件介 于所述坩埚与所述底部之间并且进行传热。并且,本专利技术的真空蒸镀装置包括能够收容从外部搬入的被蒸镀体的真空室; 设置在所述真空室内并收容蒸镀材料的坩埚;加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气化的加热 源。所述加热源的特征在于,根据所述坩埚的位置而使对所述坩埚的加热量不同。根据该结构,加热源根据所述坩埚的位置而使对所述坩埚的加热量不同,因此,通 过蒸镀材料使相对高位的部位的加热量变小,并且蒸镀材料使相对低位的部位的加热量变 大,能够实现蒸镀材料的温度的均一化。并且,所述加热源的特征在于,改变发热量并使对所述坩埚的加热量不同。并且,包括控制所述加热源发热量的控制部。所述控制部的特征在于,以所述坩埚 内的所述蒸镀材料在规定量以下作为条件而开始发热调节。根据该结构,由于以蒸镀材料在规定量以下作为条件而开始发热调节,能够降低 蒸镀材料的总量并仅在温度分布不平衡加剧的区域进行温度调节。因此,能够利用必要的 最小限度的控制有效地实现蒸镀材料的温度的均一化。并且,所述加热源的特征在于,改变配置密度而使对所述坩埚的加热量不同。根据该结构,能够以简单的结构实现蒸镀材料的温度的均一化。并且,本专利技术的温度调节方法是一种真空蒸镀装置中的温度调节方法,该真空蒸 镀装置包括能够收容从外部搬入的被蒸镀体的真空室;设置在所述真空室内并收容蒸镀 材料的坩埚;加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气化的加热源;设置在所述坩埚的底部与所 述真空室的底部之间并支承所述坩埚的多个支承部。本专利技术的温度调节方法的特征在于, 预先掌握所述蒸镀材料中的温度变得相对较高的高温部,在所述高温部附近的所述底部设 置所述支承部,并使所述高温部的温度降低。根据该结构,因为预先掌握蒸镀材料的高温部,并且在所述高温部附近的底部设 置所述支承部,并使所述高温部的温度降低,所以与蒸镀材料中的温度相对较低的部位之 间的差异变小。据此,能够使坩埚内的蒸镀材料的温度分布的偏差变小,并且能够调节坩埚 内的蒸镀材料的温度。因此,能够实现蒸镀材料的温度的均一化,并使容易地实现温度分布5的均一化成为可能。而且,因为通过实现温度分布的均一化,蒸镀材料的气化量变得一定, 所以能够使蒸镀材料的减少在坩埚内的各部位大致相等,并使减少材料的多余的填充成为 可能。并且,本专利技术的温度调节方法是一种真空蒸镀装置中的温度调节方法,该真空蒸 镀装置包括能够收容从外部搬入的被蒸镀体的真空室;设置在所述真空室内并收容蒸镀 材料的坩埚;加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气化的加热源;设置在所述坩埚的底部与所 述真空室的底部之间并支承所述坩埚的多个支承部。本专利技术的温度调节方法的特征在于, 预先掌握所述蒸镀材料的温度分布,改变对所述多个支承部中的至少一部分的所述底部的 传热量,并调节所述蒸镀材料的温度分布。根据该结构,预先掌握所述蒸镀材料的温度分布,在所述高温部附近的底部设置 所述支承部并改变对所述底部的传热量,并调节所述蒸镀材料的温度分布。即、能够使温度 相对较低的部位附近的支承部的传热量减小,使温度相对较高的部位附近的支承部的传热 量增加。据此,能够使坩埚内的蒸镀材料的温度分布的偏差变小,并能够调节坩埚内的蒸镀 材料的温度。因此,能够实现蒸镀材料的温度的均一化,并使容易地实现温度分布的均一化 成为可能。而且,因为通过实现温度分布的均一化,蒸镀材料的气化量变得一定,所以能够 使蒸镀材料的减少在坩埚内的各部位大致相等,并使减少材料的多余的填充成为可能。并且,本专利技术的温度调节方法是一种真空蒸镀装置中的温度调节方法,该真空蒸 镀装置包括能够收容从外部搬入的被蒸镀体的真空室;设置在所述真空室内并收容蒸镀 材料的坩埚;加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气化的加热源。本专利技术的温度调节方法的特 征在于,预先掌握所述蒸镀材料的温度分布,改变所述高温部附近的所述加热量,并调节所 述蒸镀材料的温度分布本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空蒸镀装置,其特征在于,包括:能够收容从外部搬入的被蒸镀体的真空室;设置在所述真空室内并收容蒸镀材料的坩埚;加热所述坩埚并使所述蒸镀材料气化的加热源;分散配置在所述坩埚的底部并支承所述坩埚、并且在所述坩埚与所述真空室的底部之间进行传热的多个支承部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:平野竜也小林敏郎
申请(专利权)人:三菱重工业株式会社
类型:发明
国别省市:JP[]

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