ＬＰＣＶＤ垂直炉管的石英外管制造技术
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种集成电路制造设备，具体涉及一种LPCVD垂直炉管的石英外管。
技术介绍
集成电路(IC)的标准工艺加工厂(foundry)中，低压化学气相淀积设备(LPCVD)，是整个工艺流程的重要步序，当前主流设备为垂直炉管。以TEL制a_8SE八寸晶圆垂直设备为例，各foundry厂的LPCVD炉管工艺，有Si3N4、 多晶硅、SiO2等薄膜的低压化学气相沉积生长，成膜厚度从几十A到几万A不等(IA=Ixicr9 米)，反应温度范围530°C到800°C不等，反应压力一般为0. 2torr到1. Otorr0其反应过程 在垂直炉管的腔体内完成。垂直炉管作为一个容器，由高纯度的石英制作而成。如附图说明图1所示，垂直炉管包括石 英内管、石英外管，石英内管为直管，石英外管的顶端带有穹顶，石英外管呈钟形倒扣在石 英内管的外部，八寸的产品晶圆则水平摆放在石英内管的内部。在产品晶圆上生长特定的薄膜时，石英外管的内壁，也会同时生长相应厚度的薄 膜。一般的产品晶圆在一台设备中一次只生长一次薄膜即只做一次工艺，然后该设备再处 理下一个批次的产品。当累计工艺次数增加，即累计生长的...
【技术保护点】
一种ＬＰＣＶＤ垂直炉管的石英外管，顶端为穹顶封闭，其特征在于：所述穹顶边缘切线与直管外表面的夹角不小于１５０°。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：周利明，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31[中国|上海]
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0来自[未知地区] 2015年03月27日 07:19管式加热炉是石油炼制、石油化工、煤化工、焦油加工、原油输送等工业中使用的工艺加热炉，被加热物质在管内流动介质为气体或液体，并且都是易燃易爆的物质，操作条件苛刻，同时长周期运转不间断操作，加热方式直接受火。管式加热炉的排烟温度可降低到100℃左右，实现烟气中含酸水蒸气的部分冷凝，且在回收烟气低温显热的同时，能回收部分含酸水蒸气的汽化潜热，进一步提高加热炉热效率，节约能源。