掩膜板检测装置及检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种掩膜板检测装置及检测方法。该检测装置包括：检测板，由绝缘材料制成；电阻块，采用感光电阻材料制成，设置在检测板的表面上；控制模块，与电阻块相连，用于检测电阻块的电阻值并进行识别，当识别出电阻块的电阻值变化量大于或等于设定值时产生报警信息。该检测方法包括：将绝缘材料的检测板与掩膜板平行且重叠布设；发射光线穿过掩膜板照射到检测板的电阻块上；检测电阻块的电阻值并进行识别，当识别出电阻块的电阻值变化量大于或等于设定值时产生报警信息。本发明专利技术利用了感光电阻材料的电阻块，结合曝光光线照射，实现了对掩膜板图案变化的检测，具有较高的检测准确性，能够预防掩膜板图案变化对后续曝光刻蚀操作的影响。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体器件制造工艺中的掩膜板检测技术，尤其涉及一种掩膜板检测 装置及检测方法。
技术介绍
在液晶显示器(Liquid Crystal Display ；以下简称LCD)基板上的膜层等半导 体器件的制造流程中，掩膜刻蚀是一种常用工艺。掩膜刻蚀工艺中需要用到掩膜板(Mask)， 掩膜板上具有设定的图案，进行曝光时，光线从掩膜板图案之间的空隙中透过，以便使待刻 蚀的膜层形成相应的图案。由此可见，掩模板上的图案精度决定着膜层后续刻蚀出的图案 精度。在实际的生产环境中，可能会有小异物颗粒掉落附着在掩膜板上，当异物颗粒遮 挡了图案之间的空隙时，就会影响曝光光线透过，进而影响膜层上对应位置的图案，出现重 复性(Repeat)不良。如不能及时检测出掩膜板上的异物，就会使掩膜板的不良影响到多块 待曝光的基板，从掩膜曝光工艺到基板的检测工艺之间可能会距离较长时间，这段时间内 将产生大量不良产品。现有技术中提供了一种检测掩膜板上异物颗粒的方法，即采用一检测光沿掩膜板 的表面照射到掩膜板上，在掩膜板的表面设置有面传感器，用于检测是否有反射光，若有则 证明掩膜板上存在异物遮挡使光反射。但是上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板检测装置，其特征在于，包括：检测板，由绝缘材料制成；电阻块，采用感光电阻材料制成，设置在所述检测板的表面上，用于在检测板与掩膜板平行且重叠设置时，接受穿过所述掩膜板照射在检测板上的光线；控制模块，与所述电阻块相连，用于检测所述电阻块的电阻值并进行识别，当识别出电阻块的电阻值变化量大于或等于设定值时产生报警信息。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：董云，彭志龙，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]