醚组合物制造技术

技术编号:4899119 阅读:128 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供对基材的固定性高且形成涂膜时的表面的摩擦系数低的醚组合物及润滑剂。醚组合物包含2种以上的醚化合物(A),所述醚化合物(A)具有1~4个以下式(X)表示的基团和0~3个以下式(Z)表示的基团,且以式(X)表示的基团和以式(Z)表示的基团的总数为4个。HO-(CH2CH2O)a.(CH2CH(OH)CH2O)b-Q-…(X)CF3(CF2)sO(CF2CF2O)g-…(Z)a为0~100的整数,b为0或1,s为0~19的整数,g为3~200的整数,Q为多氟化的聚亚甲基或具有醚性氧原子的多氟化的聚亚甲基。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及可用作为润滑剂等的醚组合物
技术介绍
全氟化的聚醚化合物(以下记作PFPE)被用作为应用于磁记录介质表面的润滑剂 等(非专利文献1)。作为该润滑剂,一直以来广泛采用分子末端具有2个CH20H基的PFPE。此外,关于可用作为润滑剂等的PFPE或其组合物,本申请人提出了以下的PFPE或 其组合物。(1)具有3个CH20H基的PFPE,或具有2个CH20H基和1个CF3基的PFPE (专利文 献1) O(2)包含分子量不同的2种PFPE的醚组合物(专利文献2)。近年来,随着磁记录介质的记录密度的增大,磁记录介质和记录元件之间的空隙 的狭窄化和磁记录介质的旋转的高速化正不断发展。因此,涂布于磁记录介质表面的润滑 剂的使用环境变得更加严苛。因此,对于该润滑剂要求具备以下特性。(i)随着磁记录介质的高速化,对磁记录介质的固定性高。(ii)为了分散记录元件与磁记录介质接触时的冲击,形成涂膜时的表面的摩擦系 数低。但是,以往提出的PFPE对于上述要求无法发挥足够的性能。非专利文献1 “摩擦学月刊”,1995年,第99卷,11月号,37-38页专利文献1 国际公开第2005/068534号文本专利文献2 国际公开第2007/013412号文本专利技术的揭示本专利技术提供对基材的固定性高且形成涂膜时的表面的摩擦系数低的醚组合物及 含该醚组合物的润滑剂。本专利技术涉及具有以下技术特征的技术方案。(1) 一种醚组合物,其特征在于,包含2种以上的醚化合物(A),所述醚化合物(A) 具有1 4个以下式⑴表示的基团和0 3个以下式⑵表示的基团,且以式⑴表示 的基团和以式(Z)表示的基团的总数为4个,HO- (CH2CH20) a (CH2CH (OH) CH20) b-Q— (X)CF3 (CF2) s0 (CF2CF20) g-…(Z)其中,在上述式⑴和式⑵中,a为0 100的整数,b为0或l,s为0 19的 整数,g为3 200的整数,Q为多氟化的聚亚甲基或具有醚性氧原子的多氟化的聚亚甲基。(2)如上述(1)所述的醚组合物,其特征在于,所述2种以上的醚化合物(A)为选 自以下式(A1)表示的化合物、以下式(A2)表示的化合物、以下式(A3)表示的化合物及以 下式(A4)表示的化合物的2种以上,4(x-)4y …(a1) (x-)3y-z... (a2) (x-)2y(-z)2- (a3) x-y (-z)3— (a4)其中,X为以所述式⑴表示的基团,y为全氟烷烃-四基或在该基团的碳-碳原子间插入有醚性氧原子的基团,且为不 具有以式(z)表示的基团的结构的基团,z为以所述式(z)表示的基团。(3)如上述⑴或⑵所述的醚组合物,其特征在于,x为选自以下式(xi)表示的 基团、以下式(x2)表示的基团、以下式(x3)表示的基团及以下式(x4)表示的基团的基团,hoch2cf2o (cf2cf2o) d— (xi)h0ch2ch (oh) ch20ch2cf20 (cf2cf20) d-…(x2)h0ch2ch2cf20 (cf2cf20) d— (x3)h0ch2ch20ch2cf20 (cf2cf20) d_…(x4)其中,d为1 200的整数。(4)如上述⑵或(3)所述的醚组合物,其特征在于,y为不具有cf3基的基团。(5)如上述⑵或(3)所述的醚组合物,其特征在于,y为选自以下式(y-1)表示 的基团、以下式(y-2)表示的基团、以下式(y-3)表示的基团及以下式(y-4)表示的基团的 基团。 (6)如上述⑵ (5)中的任一项所述的醚组合物,其特征在于,以式(A1)表示的化合物为以下式(A1-1)表示的化合物,以式(A2)表示的化合物为以下式(A2_la)表示的化合物、以下式(A2_lb)表示的 化合物、或以下式(A2-la)表示的化合物和以下式(A2-lb)表示的化合物的组合,以式(A3)表示的化合物为选自以下式(A3_la)表示的化合物、以下式(A3_lb)表 示的化合物、以下式(A3-lc)表示的化合物及以下式(A3-ld)表示的化合物的化合物,以式(A4)表示的化合物为以下式(A4_la)表示的化合物、以下式(A4_lb)表示的 化合物、或以下式(A4-la)表示的化合物和以下式(A4-lb)表示的化合物的组合, 其中,式中的X和Z表示与上述相同的含义。(7)如上述(1) (6)中的任一项所述的醚组合物,其特征在于,相对于存在于醚 组合物中的以式(Z)表示的基团所具有的CF3基的总摩尔量和以式(X)表示的基团所具有 的0H基的总摩尔量的总量,以式⑵表示的基团所具有的CF3基的总摩尔量的比例CF3/ (OH+CF3)为 0. 01 0. 5。(8)如上述(1) (7)中的任一项所述的醚组合物,其特征在于,醚化合物(A)不 具有-OCF2O-结构。(9)如上述(1) (8)中的任一项所述的醚组合物,其特征在于,醚化合物(A)的 总量相对于醚组合物在95质量%以上。(10)如上述(1) (9)中的任一项所述的醚组合物,其特征在于,醚组合物的数均 分子量为500 1000000,且醚组合物的分子量分布为1. 01 1. 5。(11) 一种润滑剂,其特征在于,包含上述(1) (10)中的任一项所述的醚组合物。本专利技术的醚化合物对基材的固定性高,且形成涂膜时的表面的摩擦系数低。实施专利技术的最佳方式本说明书中,以式(A1)表示的化合物记作化合物(A1)。以其他式表示的化合物也 同样如此记载。此外,以式(X)表示的基团记作基团(X)。以其它式表示的基团也同样记载。本专利技术的醚组合物包含2种以上的醚化合物(A),所述醚化合物(A)具有1 4个 基团⑴和0 3个基团(Z),且基团⑴和基团(Z)的总数为4个。HO- (CH2CH2O) a ‘ (CH2CH(OH)CH2O)b-Q-- (X)CF3 (CF2) s0 (CF2CF2O) g-…(Z)关于基团(X)a为0 100的整数,较好是0 10的整数,更好是0 2的整数,特好是0或1。 b为1时的a较好是0。b 为 0 或 1。-(CH2CH2O)a · (CH2CH(OH)CH2O)b-结构的表述是指当分别存在1个单元以上的 (CH2CH2O)单元和(CH2CH(OH)CH2O)单元时,对该单元的排列方式没有限制。S卩,存在两种单 元时,末端的OH基可结合于任何一种单元。此外,-(CH2CH2O)a · (CH2CH(0H)CH20)b-结构可 以是嵌段共聚物的结构,也可以是无规共聚物的结构。Q为多氟化的聚亚甲基或具有醚性氧原子的多氟化的聚亚甲基。多氟化的聚亚甲 基是指-(CH2)t-(t为2以上的整数)中的氢原子的2个以上被氟原子取代了的基团。作 为Q,优选以_ (CH2)。-CF2O (CF2CF2O) d-表示的基团(其中,该基团的右侧末端与Y结合;c为 1 100的整数,d为1 200的整数)。作为基团(X),优选基团(X’ )。HO- (CH2CH2O) a · (CH2CH (OH) CH2O) b_ (CH2) ,-CF2O (CF2CF2O) d_…(X,)其中,a d表示与上述相同的含义。c较好是1 10的整数,更好是1或2。d较好是3 10本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种醚组合物,其特征在于,包含2种以上的醚化合物(A),所述醚化合物(A)具有1~4个以下式(X)表示的基团和0~3个以下式(Z)表示的基团,且以式(X)表示的基团和以式(Z)表示的基团的总数为4个;HO-(CH↓[2]CH↓[2]O)a.(CH↓[2]CH(OH)CH↓[2]O)↓[b]-Q-…(X)CF↓[3](CF↓[2])↓[s]O(CF↓[2]CF↓[2]O)↓[g]-…(Z)其中,在上述式(X)和式(Z)中,a为0~100的整数,b为0或1,s为0~19的整数,g为3~200的整数,Q为多氟化的聚亚甲基或具有醚性氧原子的多氟化的聚亚甲基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:白川大祐
申请(专利权)人:旭硝子株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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