本发明专利技术提供一种不产生因润滑脂或灰尘等而导致的真空装置等的污染的问题的搬送装置，并提供一种装置的设置面积小且能够以现存的技术容易地进行耐腐蚀处理的搬送装置。本发明专利技术的搬送装置（１）具有：搬送部（２１），支撑并搬送搬送物（２０）；连杆（１６），用于将来自装置本体部（２）的动力传达至搬送部（２１），使该搬送部（２１）向水平面方向移动；引导机构（３０），配设在装置本体部（２）与搬送部（２１）之间，用于引导搬送部（２１）的移动方向。引导机构（３０）具有轴支联接的第１和第２引导臂（３１、３２），该引导机构（３０）的一端部侧的第１引导臂（３１）安装在装置本体部（２），并且，另一端部侧的第２引导臂（３２）安装在搬送部（２１）。第１和第２引导臂（３１、３２）构成为分别沿铅直面方向进行旋转。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及例如搬送半导体晶圆等的处理对象基板的搬送装置，尤其涉及适于在对处理对象基板进行各种加工处理的具备1个或多个制程室的真空处理装置中，进行处理 对象基板的进出的搬送装置。
技术介绍
以往，作为此种搬送装置，例如公开于日本特开2005-125479号公报的现有例。 图8(a) (c)显示现有技术的基本构成。 如图8(a) (c)所示，在该搬送装置200中，在可沿水平方向旋转的旋转台201 上固定有长条状的引导部件202。而且，第1臂203的一端部，在能够以贯通引导部件202 的基部202a和旋转台201的支轴203a为中心进行旋转的状态下，安装在驱动马达(图中 未显示)上。 在引导部件202的延长部202b上设有直线导轨(linear guide) 204，构成为移动 部件205沿着该直线导轨204向箭头X方向或其反方向移动。而且，在移动部件205的前 端，例如安装有用于载置晶圆或玻璃基板的搬送物300的搬送台206。 而且，在上述第1臂203的另一端部，轴支有第2臂207的一端部，并且其另一端 部轴支在移动部件205上，经由该第1和第2臂203、207将引导部件202的基部202a和移 动部件205联接。 在具有此种构成的现有技术的情况下，如果利用伸縮动作使第1臂203旋转，则第 2臂207随着该动作而旋转，由此，移动部件205沿着直线导轨204的延长部202b直线移动。 另一方面，在第1和第2臂203、207处于其收縮位置的状态下，使图中未显示的驱 动马达进行动作，旋转旋转台201，由此进行旋转动作。 由于在该现有技术中，其构成为由直线导轨204和引导部件202来支撑包括旋转 台201的搬送物300的重量和移动部件205的重量，因而第1和第2臂203、207采用能够 使移动部件205在直线导轨204上移动的程度的刚性的部件，不能仅以第1和第2臂203、 207来支撑搬送物300等的重量。 结果，在现有技术中，在搬送物300的重量增大的情况下，直线导轨部(第1和第 2臂203、207以及移动部件205)并不会顺利地移动，存在着搬送物300无法搬送到正确位 置的问题。 针对此种问题，在现有的装置中，通过增加直线导轨部的滑动部分的润滑剂(润 滑脂)的填充量，或者采用更大尺寸的直线导轨来克服。但是，如果增加润滑剂的填充量， 则尤其在真空装置内使用搬送装置的情况下，真空装置内或搬送物被多余的润滑脂污染。 另外，如果直线导轨成为较大的尺寸，则装置整体的重量变大，必须加大该部份驱动的马达 的功率，因而装置整体变大。 而且，在图8(a) (c)所示的现有的搬送装置200中，引导部件202的延长部202b及其上方的直线导轨204为突出至旋转台201的前方的形状，因而，例如即使移动部件205 为位于旋转台201的正上方的状态，也无法使装置的旋转半径小于延长部202b的前端位 置。所以，装置的设置面积(轨迹覆盖区(footprint))不变小。其它的现有技术，例如公开于日本特开2001-185596、特开2002-362738、特开2003-209155、特开2004_323165、特开2004_130459、特开2005-12139等。 在这些现有装置中，通过使用直线导轨将平行连杆臂机构的上腕臂的动作传达至IJ下腕臂，从而控制平行连杆臂的肘部〃 的动作。但是，由于在对搬送臂施加较大的力的情况下或在搬送物的重量变大的情况下，直线导轨部不会顺利地移动，因而搬送臂不会顺利地移动，所以存在着搬送物无法搬送到正确位置的问题。 针对此种问题，在现有的装置中，也与上述现有技术相同，通过增加直线导轨部的 滑动部分的润滑剂(润滑脂)的填充量，或者采用更大尺寸的直线导轨来克服。但是，如果 增加润滑剂的填充量，则尤其在真空装置内使用搬送装置的情况下，真空装置内或搬送物 被多余的润滑脂污染。另外，如果直线导轨成为较大的尺寸，则装置整体的重量变大，必须 加大该部份驱动的马达的功率，因而装置整体变大。 有时候在腐蚀性气体氛围内使用上述现有技术以及其它现有技术的装置。在此种 情况下，虽然对部件表面进行耐蚀处理，以使装置的构成部件不腐蚀，但用于对直线导轨进 行耐蚀处理的技术在现阶段未必确立，结果，存在着用于处理的费用增加，装置的制作成本 也提高的问题。 专利文献1 :日本特开2005-125479号公报 专利文献2 :日本特开2001-185596号公报 专利文献3 :日本特开2002-362738号公报 专利文献4 :日本特开2003-209155号公报 专利文献5 :日本特开2004-323165号公报 专利文献6 :日本特开2004-130459号公报 专利文献7 :日本特开2005-12139号公报
技术实现思路
本专利技术是为了解决此种现有技术的课题而提出的，其目的在于，提供一种不产生 真空装置等被润滑脂等污染的问题的搬送装置。 另外，本专利技术的其它目的在于，提供一种装置整体也不大且尤其是装置的设置面 积(轨迹覆盖区)小的搬送装置。 而且，本专利技术的其它目的在于，提供一种能够以现存的技术容易地对旋转部件 (轴承等)实施耐蚀处理的搬送装置。 为了达成上述目的而提出的本专利技术，具有搬送部，支撑并搬送搬送物；动力传达 机构，用于将来自装置本体部的动力传达至上述搬送部，使该搬送部向相对于基准方向交 叉的方向移动；以及引导机构，配设在上述装置本体部和上述搬送部之间，用于引导上述搬 送部的移动方向，其中，上述引导机构构成为，具有轴支联接的多个引导臂，该各引导臂沿 包括上述基准方向的成分的方向进行旋转。 在上述专利技术中，本专利技术的上述引导机构的引导臂中，该引导机构的一端部侧的引4导臂安装在上述装置本体部，并且，另一端部侧的引导臂安装在上述搬送部。 在上述专利技术中，本专利技术的上述引导机构具有第1引导臂和第2引导臂，上述第1引导臂的一端部以可沿铅直面方向进行旋转的状态被轴支在上述装置本体部，并且，上述第2引导臂的一端部以可沿铅直面方向进行旋转的状态被轴支在上述第1引导臂的另一端部，而且，上述第2引导臂的另一端部以可沿铅直面方向进行旋转的状态被轴支在上述搬送部。 在上述专利技术中，本专利技术的上述动力传达机构具有驱动臂和从动臂，上述驱动臂的一端部以可沿水平面方向进行旋转的状态固定在上述装置本体部的驱动轴，并且，在该驱动臂的另一端部，上述从动臂的一端部以可沿水平面方向进行旋转的状态被轴支，而且，上述从动臂的另一端部以可沿水平面方向进行旋转的状态被轴支在上述搬送部。 在上述专利技术中，本专利技术的上述动力传达机构具备驱动侧平行四边形连杆机构，具有上述驱动臂；以及从动侧平行四边形连杆机构，使用该驱动侧平行四边形连杆机构的规定的连杆而构成。 在上述专利技术中，本专利技术的上述引导机构构成为，联接在上述动力传达机构，限制上述驱动侧平行四边形连杆机构和上述从动侧平行四边形连杆机构的相对动作。 在上述专利技术中，本专利技术的上述动力传达机构的装置本体部侧端部安装于设置在上述装置本体部的旋转部。 本专利技术是一种真空处理装置，具备搬送室，具有上述任一搬送装置，以及真空处 理室，构成为与上述搬送室连通，使用上述搬送装置来交接处理对象物。 在本专利技术的情况下，具备引导机构以取代现有技术的直线导轨，该引本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种搬送装置，具有：搬送部，支撑并搬送搬送物；动力传达机构，用于将来自装置本体部的动力传达至所述搬送部，使该搬送部向相对于基准方向交叉的方向移动；以及引导机构，配设在所述装置本体部和所述搬送部之间，用于引导所述搬送部的移动方向，其中，所述引导机构构成为，具有轴支联接的多个引导臂，该各引导臂沿包括所述基准方向的成分的方向进行旋转。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-5-15 128904/2007一种搬送装置，具有搬送部，支撑并搬送搬送物；动力传达机构，用于将来自装置本体部的动力传达至所述搬送部，使该搬送部向相对于基准方向交叉的方向移动；以及引导机构，配设在所述装置本体部和所述搬送部之间，用于引导所述搬送部的移动方向，其中，所述引导机构构成为，具有轴支联接的多个引导臂，该各引导臂沿包括所述基准方向的成分的方向进行旋转。2. 如权利要求l所述的搬送装置，其特征在于，所述引导机构的引导臂中，该引导机构的一端部侧的引导臂安装在所述装置本体部， 并且，另一端部侧的弓I导臂安装在所述搬送部。3. 如权利要求l所述的搬送装置，其特征在于，所述引导机构具有第1引导臂和第2引导臂，所述第1引导臂的一端部以可沿铅直面 方向进行旋转的状态被轴支在所述装置本体部，并且，所述第2引导臂的一端部以可沿铅 直面方向进行旋转的状态被轴支在所述第1引导臂的另一端部，而且，所述第2引导臂的另 一端部以可沿铅直面方向进行旋转的状态被轴支在所述搬送部。4. 如权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：南展史，藤村和广，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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