真空涂覆装置制造方法及图纸

在真空中加工基片的内联式真空加工装置，包括至少一个装载－锁定腔（１０），用基本相同的涂覆参数组进行操作的至少两个连续沉积腔（４－７）以及至少一个卸载－锁定腔（１０），再加上用于传送、后加工和／或操纵基片通过并位于各个腔室内的装置。一种用于在这样的加工系统内的基片上沉积薄膜的方法，包括步骤：将第一基片引入装载－锁定腔内；降低所述腔室内的压力；将所述基片传送到第一沉积腔内；使用第一组涂覆参数将第一材料层沉积在所述第一基片上；将所述第一基片传送到所述内联式系统随后的第二沉积腔内而不破坏真空并使用基本相同的参数组将另一层所述第一材料层沉积在所述第一基片上。同时进行步骤ｆ）在所述内联式真空系统内根据步骤ｄ）处理第二基片。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于真空加工基片特别是具有lD^或更大尺寸的大 面积基片的遵循所谓内联概念的装置.在优选的实施例中，介绍了一种用于化学气相沉积(CVD)氧化锌(ZnO)层的系统，氧化锌层用于薄膜太阳 能电池，例如在太阳能电池特别是在硅基太阳能电池例如薄膜太阳能电 池领域中用于前接触层和后接触层。而且该系统可以被用于所有使用了 化学气相沉积的大面积涂覆应用.定义系统、装置、加工设备、设备是在本公开中用于本专利技术至少一个实 施例的可互换使用的术语."加工"在本专利技术的情况下包括作用在基片上的任何化学、物理或 机械效应'基片在本专利技术的情况下是要在所专利技术的真空加工装置内进行处理 的部件、元件或工件.基片包括但不限于具有矩形、正方形或圃形形状 的扁平的片形部件.在优选的实施例中，本专利技术主要涉及尺寸Mn^的平 面基片例如薄玻璃基片。CVD化学气相沉积是一种允许在加热的基片上沉积涂层的公知技 术.将常用的液态或气态前体材料送入加工系统，在此所迷前体的热反 应造成所述涂层的沉积.LPCVD是用于低压CVD的常用术语.DEZ-二乙基锌是一种用于在真空加工设备中生产TCO层的前体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在内联式真空加工系统内的基片上沉积薄膜的方法，包括以下步骤：　ａ）将第一基片引入装载－锁定腔（２）内；　ｂ）降低所述腔室内的压力；　ｃ）将所述第一基片传送到第一沉积腔（４）内；　ｄ）使用第一组涂覆参数将第一材料层至少部分地沉 积在所述第一基片上；　ｅ）将所述第一基片传送到所述内联式系统随后的第二沉积腔（５）内而不破坏真空；　ｆ）使用基本相同的参数组将另一层所述第一材料层至少部分地沉积在所述第一基片上；　ｇ）将所述第一基片传送到装载锁定腔（１０）内；　ｈ） 从所述系统中取出所述第一基片　其中同时进行步骤ｆ）在所述内联式真空系统内根据步骤ｄ）处理第二基片。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A津德尔，M波佩勒，D齐明，H库恩，J克施鲍默，
申请(专利权)人：奥尔利康贸易股份公司特吕巴赫，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]