陶瓷轴承式反应釜制造技术

技术编号:4362792 阅读:233 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种结构简单的陶瓷轴承式反应釜,包括釜体、动力装置、动力传动装置、联轴器、搅拌轴、搅拌器,其特征在于设有由釜体底板、支撑架、陶瓷轴、陶瓷环和搅拌轴组成的底支撑轴承,形成以搅拌轴为内圈,陶瓷轴、陶瓷环为滚珠,支撑架为滚珠支架,反应釜底板作为外圈的滚动轴承运转方式,本发明专利技术防止搅拌轴在运转中的径向偏摆量过大装置,避免搅拌轴的径向摆动量超过了搅拌轴密封件处的允许径向偏差,起到底防摆的作用保证使用该装置的搅拌反应釜安全运转,具有无需润滑的底部支撑装置,利用陶瓷的耐磨性能,提高底支撑的使用寿命,同时行星式结构更适用于含有固体料的反应介质的场合。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于搅拌反应釜
,具体地说是底支撑采用陶瓷轴承式的搅拌反应釜。
技术介绍
搅拌反应釜是化工、石油化工领域生产过程中必不可少的承载压力容器,搅拌反 应釜是由反应釜的釜体、搅拌传动装置、搅拌器等组成,动力由搅拌传动装置传递到搅拌轴 ,搅拌轴带动搅拌器运转达到搅拌介质物料完成各种化工工艺要求,其中搅拌轴一般呈悬臂 梁式结构,这样便于安装、维护、减少介质腐蚀造成的影响,大型搅拌反应釜其搅拌轴悬臂 过长,搅拌器的直径大,消耗的功率大,因而搅拌轴所承受的扭力大,同时搅拌的离心力的 作用也随即增加,常常出现搅拌轴扭曲、搅拌轴摆动量超过轴封处允许范围引起搅拌反应釜 轴封损坏,使搅拌反应釜无法正常工作,实际的生产中为了防止搅拌轴在运转中的径向偏摆 量过大,超过搅拌轴轴封件处的允许径向偏差,保证该设备正常运行,在搅拌轴的下端与反 应釜的釜底之间增设底支撑,改善大型搅拌反应釜的支撑条件,减少搅拌轴的挠度,保证搅 拌轴的径向偏摆量在允许范围内运转,底支撑按不同的方式可以分为三足式、底部法兰式、 迷宫式、可拆式,现在主要采用转动套与固定套之间的滑动运行方式,增设底支撑改变了搅 拌轴的支撑条件,同时也增加了搅拌轴的支点,这样就对底轴承的安装提出很高的要求,安 装不好会加大偏心、加剧轴承的磨损并产生振动,另外,底轴承在反应介质中是利用液态介 质润滑,但当存在固体小颗粒时,会进入底轴承内造成该轴承的磨损、堵住咬死现象。
技术实现思路
本专利技术针对以上现有技术中的不足,提供一种结构简单、工作可靠、耐腐蚀、耐高温、 耐磨损、安装方便适用于搅拌的陶瓷轴承式反应釜。 本专利技术采用下述技术方案一种陶瓷轴承式反应釜,包括釜体、动力装置、动力传动装置、联轴器、搅拌轴、搅拌 器,其特征在于设有由釜体底板、支撑架、陶瓷轴、陶瓷环和搅拌轴组成的底支撑轴承,形 成以搅拌轴为内圈,陶瓷轴、陶瓷环为滚珠,支撑架为滚珠支架,反应釜底板作为外圈的滚 动轴承运转方式,陶瓷轴与陶瓷环相对运动,陶瓷环与搅拌轴之间做回转运动,实现了底支 撑体滑动运行到回转运动的转变。本专利技术至少设有三个由陶瓷轴、陶瓷环、支撑架形成的支点,支点相当于滚动轴承的一个滚珠,多个陶瓷轴、陶瓷环、支撑架部件采取用支点式结构组成搅拌反应釜底支撑,避免 了具有颗粒的液体物料对底支撑的破坏。本专利技术支撑架固定在釜体底板上,支撑架上设有连接孔,陶瓷轴经压盖固定在支撑架连 接孔内,陶瓷轴套有陶瓷环,陶瓷环与搅拌轴相接触,至少三套支撑架、陶瓷轴和陶瓷环将 搅拌轴进行支撑定位,限制搅拌轴的摆动幅度。本专利技术可以在陶瓷环外设有接触轴体,接触轴体可以是套在陶瓷环的环形体,也可以是 至少两块粘在陶瓷环上的弧形块体,接触轴体有效地保护了陶瓷环,防止陶瓷环破碎。本专利技术可以在陶瓷环下设有调节垫片,以调节陶瓷环的高度,增加陶瓷轴与陶瓷环的接 触面积,延长其使用寿命。本专利技术是应用于搅拌反应釜上的一种防止搅拌轴在运转中的径向偏摆量过大装置,避免 搅拌轴的径向摆动量超过了搅拌轴密封件处的允许径向偏差,起到底防摆的作用保证使用该 装置的搅拌反应釜安全运转,具有无需润滑的底部支撑装置,利用陶瓷的耐磨性能,提高底 支撑的使用寿命,同时行星式结构更适用于含有固体料的反应介质的场合。附图说明图l为本专利技术的一种结构示意图。图2是图1的釜体底部的局部结构示意图。图3是图1的A-A剖面图。图4是图3的B-B剖视放大图。图5是图4的俯视图。图6是本专利技术釜体底部的一种结构举例示意图。 图7是本专利技术釜体底部的另一种结构举例示意图。图中标记釜体l、底板2、陶瓷轴承装置3、搅拌轴4、陶瓷轴5、调节垫片6、接触轴体 7、陶瓷环8、压盖9、支撑架IO、联轴器ll、动力传动装置12、动力装置13、搅拌器14。 具体实施例方式下面结合附图对本专利技术作进一步的描述如图所示 一种陶瓷轴承式反应釜,包括釜体l、动力装置13、动力传动装置12、联轴 器ll、搅拌轴4、搅拌器14,上述与现有技术相同,此不赘述,本专利技术的特征在于设有由釜 体底板l、支撑架IO、陶瓷轴5、陶瓷环8和搅拌轴4组成的底支撑轴承装置3,形成以搅拌轴4 为内圈,陶瓷轴5、陶瓷环8为滚珠,支撑架10为滚珠支架,反应釜底板2作为外圈的滚动轴 承运转方式,陶瓷轴5与陶瓷环8相对运动,陶瓷环8与搅拌轴4之间做回转运动,实现了底支撑体滑动运行到回转运动的转变。本专利技术至少设有三个由陶瓷轴5、陶瓷环8、支撑架10形成的支点,支点相当于滚动轴承 的一个滚珠,多个支点组成搅拌反应釜底支撑,多个支点行星式布置,避免了具有颗粒的液 体物料对底支撑的破坏,支撑架10可以直接固定在釜体底板2上,也可以经支腿10固定在底 板2上,支撑架10上设有连接孔,陶瓷轴5经压盖9固定在支撑架10的连接孔内,陶瓷轴5外套 有陶瓷环8,陶瓷环8与搅拌轴4相接触,为搅拌轴4进行定位,当搅拌轴4产生偏心时,陶瓷 环8与搅拌轴4产生磨擦力,陶瓷环8旋转减小磨擦力,纠正搅拌轴4偏心,带动本专利技术至少三 套支撑架IO、陶瓷轴5和陶瓷环8以将搅拌轴4进行支撑定位,限制搅拌轴4的摆动幅度。本专利技术可以在陶瓷环外设有接触轴体7,接触轴体7可以是套在陶瓷环8的环形体,也可 以是至少两块粘在陶瓷环8上的弧形块体,接触轴体4有效地保护了陶瓷环,防止陶瓷环破碎 ,本专利技术还可以在陶瓷环8下设有调节垫片6,以调节陶瓷环8的高度,增加陶瓷轴5与陶瓷环 8的接触面积,延长其使用寿命。本专利技术是应用于搅拌反应釜上的一种防止搅拌轴在运转中的径向偏摆量过大装置,避免 搅拌轴的径向摆动量超过了搅拌轴密封件处的允许径向偏差,起到底防摆的作用保证使用该 装置的搅拌反应釜安全运转,具有无需润滑的底部支撑装置,利用陶瓷的耐磨性能,提高底 支撑的使用寿命,同时行星式结构更适用于含有固体料的反应介质的场合。权利要求1.一种陶瓷轴承式反应釜,包括釜体、动力装置、动力传动装置、联轴器、搅拌轴、搅拌器,其特征在于设有由釜体底板、支撑架、陶瓷轴、陶瓷环和搅拌轴组成的底支撑轴承装置。2.根据权利要求l所述的一种陶瓷轴承式反应釜,其特征在于至少设 有三个由陶瓷轴、陶瓷环、支撑架形成的支点。3.根据权利要求l所述的一种陶瓷轴承式反应釜,其特征在于支撑架 固定在釜体底板上,支撑架上设有连接孔,陶瓷轴经压盖固定在支撑架连接孔内,陶瓷轴套 有陶瓷环,陶瓷环与搅拌轴相接触。4.根据权利要求l所述的一种陶瓷轴承式反应釜,其特征在于陶瓷环 外设有接触轴体,接触轴体可以是套在陶瓷环的环形体。5.根据权利要求l所述的一种陶瓷轴承式反应釜,其特征在于陶瓷环 下设有调节垫片。全文摘要本专利技术提供了一种结构简单的陶瓷轴承式反应釜,包括釜体、动力装置、动力传动装置、联轴器、搅拌轴、搅拌器,其特征在于设有由釜体底板、支撑架、陶瓷轴、陶瓷环和搅拌轴组成的底支撑轴承,形成以搅拌轴为内圈,陶瓷轴、陶瓷环为滚珠,支撑架为滚珠支架,反应釜底板作为外圈的滚动轴承运转方式,本专利技术防止搅拌轴在运转中的径向偏摆量过大装置,避免搅拌轴的径向摆动量超过了搅拌轴密封件处的允许径向偏差,起到底防摆的作用保证使用该装置的搅拌反应釜安全运转,具有无需润滑的底部支撑装置,利用陶瓷的耐磨性能,提高底支撑的使用寿命,同时行星式结构更适用于含有固体料的反应介质的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷轴承式反应釜,包括釜体、动力装置、动力传动装置、联轴器、搅拌轴、搅拌器,其特征在于设有由釜体底板、支撑架、陶瓷轴、陶瓷环和搅拌轴组成的底支撑轴承装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:董建清
申请(专利权)人:威海化工机械有限公司
类型:发明
国别省市:37[]

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