利用多光束干涉光刻技术制备仿生彩色超疏水涂层的方法技术

本发明专利技术属于仿生微制造技术领域，具体地说是涉及一种利用多光束干涉光刻技术在透明聚合物材料上制备仿生彩色超疏水涂层的方法。其首先是搭建激光多光束干涉系统，然后在基底上旋涂可固化或者可降解的材料，通过激光干涉光刻使可固化材料固化、或使可降解材料降解，显影后获得微结构阵列；然后在微结构上进行低表面能材料的修饰，进而在基底上得到利用多光束干涉光刻技术制备的仿生彩色超疏水涂层。本发明专利技术所述方法不仅可以避免现有制备方法的不足，同时由于其规则性结构对入射光的散射和衍射，使材料表面呈现各种彩色，起到很好的装饰效果，促进了超疏水表面向简单化和实用化发展。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种利用多光束干涉光刻技术制备仿生彩色超疏水涂层的方法，其步骤如下：（１）搭建激光多光束干涉系统光源选择为纳秒脉冲激光器或连续激光器，产生用于紫外波段的激光加工的光束；从激光器发出的激光首先经过石英透镜扩束后，由半透半反的反射镜分成多束强度一样的相干激光，再由镀膜的反射镜将其会聚后实现干涉；（２）干涉材料的制备在清洁干净的基底上旋涂可固化聚合物材料或者可降解聚合物材料，通过控制匀胶机的转速或材料的浓度，控制材料的厚度；（３）干涉光刻使可固化聚合物材料固化、或使可降解聚合物材料降解，显影后获得微结构阵列控制激光干涉光束的曝光时间、控制干涉光与基片所在平面法线的夹角，从而在基底上得到可固化聚合物材料或可降解聚合物材料的微结构阵列，其固化线宽为１００ｎｍ～２０μｍ、占空比为０．２～１、周期为３５５ｎｍ～２０μｍ；（４）在微结构阵列上进行低表面能材料的修饰采用热蒸发的方式，将低表面能的材料蒸发成气体，然后吸附在前面步骤制备的微结构阵列表面，降低其表面能，进而在基底上得到利用多光束干涉光刻技术制备的仿生彩色超疏水涂层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙洪波，吴东，陈岐岱，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：82[中国|长春]