The invention discloses a radio frequency matching method and plasma processing device, the RF power output signal of the sensor is calibrated by the formula (I) obtained after calibration of the voltage and current information, type M: n * 2 = f (P: RF) is the coefficient matrix, varies with the change of RF power P down RF. According to the impedance after calibration of the voltage and current information, can reduce the effects of circuit simulation of RF power sensor, so that the matching device can be stable and accurate work in a wider power range.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种等离子体产生与控制技术，尤其涉及一种射频匹配方法及等离子体处 理设备。
技术介绍
在RF(射频)等离子体发生装置中，恒定输出阻抗(通常为50Q)的射频发生器产生固 定频率(通常为13.56MHz)的射频波，向等离子体腔室提供射频功率，以激发用于刻蚀或 其他工艺的等离子体。 一般来讲，等离子体腔室的非线性负载的阻抗与射频发生器的恒定 输出阻抗并不相等，故在射频发生器和等离子体腔室之间具有严重的阻抗失配，使得射频 传输线上存在较大的反射功率，射频发生器产生的功率无法全部输送给等离子体腔室。如图1所示，为解决上述问题，在射频发生器和等离子体腔室之间插入阻抗匹配器。 该阻抗匹配器由传感器、控制器和执行机构三部分组成，其中执行机构包括匹配网络中的 可变阻抗元件和改变其阻抗的驱动装置等。阻抗匹配器实现阻抗匹配的原理是由传感器检测射频传输线上的电压、电流、前向 功率、反向功率等相关参数，提供匹配控制算法所需的输入量，并将该输入量输入给控制 器；控制器根据该输入量，实现设定的匹配控制算法，并给出可变阻抗元件驱动装置的调 整量；执行机构根据控制器给出的调整量改变...
【技术保护点】
一种射频匹配方法，其特征在于，包括步骤： 首先，传感器采集射频传输线的电压和电流信息，进行处理后给出输出信号； 然后，通过射频功率对所述传感器的输出信号进行校准，得出校准后的电压和电流信息； 之后，根据所述校准后的电压和电 流信息进行阻抗匹配。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武晔，
申请(专利权)人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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